| 例文 |
surface processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 9598件
The manufacturing method of the hollow vessel for a fuel tank has a fluoridation process for performing fluoridation to a surface of a resin particle to obtain a surface-fluoride resin particle, and a molding process for molding the surface-fluoride resin particles to the hollow vessel for the fuel tank.例文帳に追加
樹脂粒子の表面をフッ化処理して表面フッ化処理樹脂粒子を得るフッ化処理工程;及び表面フッ化処理樹脂粒子を燃料タンク用中空容器に成形する成形工程を有する燃料タンク用中空容器の製造方法により、上記課題を解決する。 - 特許庁
Subsequently, a Ta film 111 is deposited by the physical vapor phase growth process on a surface of the film 110, a Cu film 112 is deposited by the physical vapor phase growth process on a surface of the Ta film 111, and then a Cu film 113 is deposited by electroplating on a surface of the Cu film 112.例文帳に追加
次にTiN膜110表面に物理的気層成長法によりTa膜111を堆積し、次にTa膜111表面に物理的気層成長法によりCu膜112を堆積した後に、電解メッキ法によりCu膜112の表面にCu113膜を堆積する。 - 特許庁
The manufacturing method includes a process for forming a diffraction grating on a semiconductor substrate surface or on a film surface on the semiconductor substrate, and a process for forming a multilayer film by forming an epitaxial layer on the surface of diffraction grating.例文帳に追加
本発明に係る半導体レーザ素子の製造方法は、半導体基板表面または半導体基板上の膜表面に回折格子を形成する工程と、前記回折格子表面にエピタキシャル層を形成して多層膜を形成する工程と、を含む半導体レーザ素子の製造方法である。 - 特許庁
To provide a surface treatment method of a spherical body and its surface treatment device which enables to operate a plasma process evenly on all the surface of the spherical body, generates no adhesion troubles or unevenness in a marking or a coating process and improves the productivity and quality through continuous processing.例文帳に追加
球状体の全表面を均一にプラズマ処理することが可能となり、マーキングや塗装工程で密着不良・ムラが発生せず、連続的に処理して生産性及び品質を向上させる球状体の表面処理方法及びその表面処理装置を提供する。 - 特許庁
The manufacturing method of the metal clad laminate includes a surface treatment process for treating a stainless steel base material becoming the stainless steel layer with an alkali aqueous solution and a process for superposing a resin plate becoming the polyimide resin layer 12 on the surface-treated surface of the stainless steel base material to hot-press the same.例文帳に追加
金属張積層体の製造方法は、ステンレス層11となるステンレス基材の表面をアルカリ水溶液で処理する表面処理工程と、ステンレス基材の表面処理された面にポリイミド樹脂層12となる樹脂板を重ね合わせ、熱圧着する工程と、を備えている。 - 特許庁
To provide a surface protective tape which reduces the adhesion of grinding waste to the rear surface of the tape which is effective to prevent from trouble upon handling by a vacuum suction fixer from the back-grind process to surface protective tape separating process while enhancing the suction force between the vacuum suction fixer.例文帳に追加
ウェハのバックグラインド工程から表面保護テープ剥離工程への真空吸着固定器によるハンドリング時の支障を防ぐのに有効な、テープ背面への研削屑の付着を少なくし、真空吸着固定器との間の吸着力を強くする表面保護テープを提供する。 - 特許庁
The manufacturing method of the metal clad laminate includes a surface treatment process for treating a stainless steel base material becoming the stainless steel layer with an alkali aqueous solution and a process for superposing a resin plate becoming the polyimide resin layer 12 on the surface-treated surface of the stainless steel base material to hot-press the same.例文帳に追加
金属張積層体の製造方法は、ステンレス層11となるステンレス基材の表面をプラズマで処理する表面処理工程と、ステンレス基材の表面処理された面にポリイミド樹脂層12となる樹脂板を重ね合わせ、熱圧着する工程と、を備えている。 - 特許庁
In a third process, an isolation groove 111 which penetrates the second substrate 100 and second isolation layer 115 from the surface of the second substrate 100 on the opposite side from the surface where the second isolation layer 115 is present is provided before or after the second process.例文帳に追加
第3の工程では、第2の工程の前或いは後に、第2の基板100の第2の分離層115がある面の反対側の面から第2の基板100と第2の分離層115を貫通する分離溝111を設ける。 - 特許庁
To provide a method for producing a display unit by adequately treating an electroconductive film on the surface of a continuously-supplied long plastic substrate with an electrolytic process such as an oxidizing process, and to provide an electrolysis treatment apparatus for the substrate surface.例文帳に追加
連続して搬送される長尺状のプラスチック基材の表面の導電性膜を良好に酸化等の電解化成処理をすることができる表示装置の製造方法及び基板表面電解処理装置を提供する。 - 特許庁
A rinsing process with a weak alkaline solution is provided after an APM treating process is carried out, so that an electrostatic force acting between the surface of a substrate and particles can be made minus by controlling, and the particles are prevented from sticking again to the surface of the substrate.例文帳に追加
APM処理工程の後に、弱アルカリ性溶液によるリンス工程を設けることにより、基板表面とパーティクル間に働く静電気力をマイナス側に制御して、基板表面へのパーティクルの再付着を防止する。 - 特許庁
A method for automatically adjusting the follow-up distance includes a process for determining a road surface friction coefficient based on the driving wheel speed of a vehicle, and a process for adjusting the follow-up distance of the vehicle selected based on the road surface friction coefficient.例文帳に追加
追従間隔の自動調整方法が、車両の駆動輪速に基き路面摩擦係数を判定する工程及び、路面摩擦係数に基き車両について選択された追従間隔を調整する工程、を含む。 - 特許庁
A manufacturing method of the light-emitting device 40 according to the present invention comprises: a process for forming a recess-protrusion part 30 on a first surface 24 of the fluorescent part 20; and a process for arranging the first surface 24 so as to be opposed to the LED chip 11.例文帳に追加
本発明にかかる発光装置40の製造方法は、蛍光部20の第1の面24に、凹凸部30を形成する工程と、第1の面24をLEDチップ11に対向して配置する工程と、を有する。 - 特許庁
In a cartridge mounting process P2, a plurality of segment pieces manufactured in a segment piece forming process P1 are attached to a resin-made cartridge, having a protective surface for covering the sliding contact surface so as to have a predetermined space in the peripheral direction.例文帳に追加
セグメント片形成工程P1において製造された複数のセグメント片を、カートリッジ装着工程P2により、摺接面を覆う保護面を備えた樹脂製のカートリッジに周方向に所定の間隔を空けて並べて装着する。 - 特許庁
The film forming process is conducted by supplying electroless plating liquid 32 from a nozzle 22 to the surface of the substrate to be processed and the etching process is conducted by supplying etching liquid 31 from a nozzle 21 to the surface of the substrate to be processed.例文帳に追加
成膜工程は無電解メッキ液32をノズル22から被処理基板表面に供給することによって行われ、エッチング工程はエッチング液31をノズル21から被処理基板表面に供給することによって行われる。 - 特許庁
A method for manufacturing printed wiring board includes a 2-layer substrate generation process of generating a 2-layer substrate 60b, and a superimposing process of piling up at least one 2-layer substrate 60b, a bottom surface conductor plate and a peak surface conductor plate.例文帳に追加
プリント配線基板製造方法は、2層基板60bを生成する2層基板生成工程と、一つ以上の2層基板60bと、底面導体板および頂面導体板とを重ね合わせる重畳工程とを備えている。 - 特許庁
This manufacturing method of the fuel cell separator has a plating process to apply noble metal plating to the surface of a stainless steel separator base material 5a, and an aerosol-deposition process to form a carbon-contained coating on the surface of the nobel metal plated base material 5a by an aerosol-deposition method.例文帳に追加
ステンレス鋼セパレータ基材5aの表面に貴金属メッキを施すメッキ工程と、貴金属メッキされた基材5aの表面に、エアロゾルデポジション法を用いてカーボン含有被膜を形成するエアロゾルデポジション工程と、を備える。 - 特許庁
The method for producing colloidal silica comprises: a surface treatment process of performing the wet treatment of crude colloidal silica containing alkali metal with a surface treatment agent; and a refining process of preparing refined colloidal silica by performing the washing with mineral acid-containing liquid and water in this order.例文帳に追加
アルカリ金属を含有する粗製コロイダルシリカを表面処理剤で湿式処理する表面処理工程と鉱酸含有液、水の順で洗浄して精製コロイダルシリカとする精製工程とを有するものである。 - 特許庁
The manufacturing method includes a film-forming process for forming a film 13 of silicon dioxide on the surface 11 of a die 1 having an irregular pattern 12, and a mold releasing agent formation process for applying a silane coupling agent to the surface of the film 13 of silicon dioxide.例文帳に追加
凹凸パターン12を有する金型1の表面11に二酸化ケイ素の膜13を形成する成膜工程と、前記二酸化ケイ素の膜13の表面にシランカップリング剤を塗布する離型剤形成工程とを含む。 - 特許庁
This method includes a machining process for machining a semi-finished lens to form a spectacle lens body, and a polishing process for polishing a lens surface of the spectacle lens body, while rotating the spectacle lens body with a geometric center of the lens surface as a rotation center.例文帳に追加
セミフィニッシュレンズを加工して眼鏡レンズ本体を形成する加工工程と、眼鏡レンズ本体のレンズ面の幾何中心を回転中心として眼鏡レンズ本体を回転させつつ、レンズ面を研磨する研磨工程とを含む。 - 特許庁
Such control is provided by making a buffer gas (B) to flow between the interior surface and at least a portion of the process gas to form a gas barrier layer such that the gas barrier layer inhibits contact between the interior surface and components of the process gas.例文帳に追加
ガスバリア層が内部表面とプロセスガスの成分との間の接触を阻止するように、内部表面とプロセスガスの少なくとも一部との間にバッファガス(B)を流すことによってガスバリア層を形成して、そのような制御を与える。 - 特許庁
This etching method comprises a process of fruorinating the surface of a silicon wafer, and a process of etching the silicon by treating the surface of the silicon wafer using an alkali compound aqueous solution containing a methyl group having a concentration of 10-30%.例文帳に追加
本発明のエッチング方法は、シリコンウェーハの表面をフッ素化処理する工程と、濃度10〜30%のメチル基含有アルカリ化合物水溶液を用いて前記シリコンウェーハ表面を処理してシリコンをエッチングするものである。 - 特許庁
The laminated porous body is manufactured by a process for forming the oxidation resistant coating film on the surface of the porous carbonized material and a process for forming the alkali corrosion resistant layer on the surface of the oxidation corrosion resistant coating film by a vapor phase reaction.例文帳に追加
積層多孔質体は、多孔質炭素化物の表面に耐酸化皮膜を形成する工程と、耐酸化皮膜の表面に耐アルカリ腐食層を気相反応により形成する工程とにより製造することができる。 - 特許庁
The rinsing process with a weak alkaline solution is provided after an APM treating process, whereby an electrostatic force acting between the surface of a substrate and particles can be made minus by controlling, and the particles are prevented from sticking again to the surface of the substrate.例文帳に追加
また、APM処理工程の後に、弱アルカリ性溶液によるリンス工程を設けることにより、基板表面とパーティクル間に働く静電気力をマイナス側に制御して、基板表面へのパーティクルの再付着を防止する。 - 特許庁
A series of processes for carrying out the marking on the side surface P_1 of the running paper sheet P with the ink 10 are divided into a process for transferring the ink on the marking disk 1 and a process for transferring the ink from the disk 1 on the side surface P_1 of the paper sheet.例文帳に追加
走行する紙Pの側面P_1にインク10によりマーキングを付す一連の工程を、マーキングディスク1にインクを転写する工程と、該ディスク1から紙の側面P_1にインクを転移する工程に区分する。 - 特許庁
The method of coating the mover comprises: a coating process of coating a fluorine-base resin material on a metallic pillar material to form the resin coat; and a rolling process of carrying out a rolling processing of a coating surface of the metallic pillar material to perform the surface smoothness of a film thickness of the resin coat.例文帳に追加
金属柱材にフッ素系樹脂材をコーティングして樹脂被膜を形成するコーティング工程と、金属柱材のコーティング面を圧延加工して樹脂被膜の膜厚を平坦化する圧延工程を含む。 - 特許庁
The parts body 10 of the parts has a wet-plated layer 11 formed by a wet plating process on its surface, and a dry-plated layer 12 formed by a dry plating process on the surface side of the wet-plated layer 11.例文帳に追加
部品本体10表面には、湿式めっき処理により形成された湿式めっき層11と、湿式めっき層11の表層側に乾式めっき処理により形成された乾式めっき層12とが形成されている。 - 特許庁
In order to manufacture the male terminal fitting 1, (1) a flat board 8 is pressed to manufacture an original form 9 of the terminal fitting equipped with the base end 5 (pressing process); and (2) a plated surface 13 is formed on the surface of the original form 9 (plating process).例文帳に追加
雄側端子金具1を製造するには、▲1▼平板状の基板8をプレスして、基端部5を備える端子金具の原形9を作成し(プレス工程)、▲2▼この原形9の表面にメッキ面13を形成する(メッキ工程)。 - 特許庁
To avoid sticking of polishing residue on a surface of a matching layer even if a cutting process and a cleaning process are carried out at the same time, and manufacture the matching layer which has predetermined dimension without post-working of the matching layer surface.例文帳に追加
切断工程と洗浄工程を同時に実施しても整合層の表面に研磨残留物が付着しないようにすると共に整合層表面の後加工なしに所定寸法を有するような整合層を製造すること。 - 特許庁
This diet rice is obtained by temporarily gelatinizing only the surface of raw rice by steam heating, cooling and drying the resultant product (a surface treatment process) and subjecting the resultant product to a given moist heat treatment to produce resistant starch (a resistant starch production process).例文帳に追加
水蒸気加熱によって生米の表面のみを一時的に糊化した後、冷却乾燥させた後に(表面処理工程)、所定の湿熱処理を行ってレジスタントスターチを生成してなる(レジスタントスターチ生成工程)。 - 特許庁
This is a sanitation evaluation method for the surface of sanitary ware including a process of staining the surface of sanitary ware by an aqueous solution containing crystal violet and a process of visually observing the degree of staining after the completion of the coloring.例文帳に追加
クリスタルバイオレットを含む水溶液により衛生陶器表面を染色する工程,染色後の染色程度を目視にて観察する工程を含むことを特徴とする衛生陶器表面の衛生性評価方法。 - 特許庁
Moreover, from a viewpoint of improved weatherability, it is subjected to a caustic treatment after the surface washing process 10 or it is also desirable to perform scrub washing using slurry of colloidal silica after the surface polishing process 9.例文帳に追加
また耐候性を改善する観点からは、表面洗浄処理工程10の後に脱アルカリ処理を施したり、或いは表面研磨工程9の後にコロイダルシリカのスラリを使用してスクラブ洗浄処理を行うのも好ましい。 - 特許庁
A film having a predetermined thickness distribution is formed on the surface of a semiconductor wafer 100 by alternately repeating a film formation process and grinding and polishing process one or more times with respect to the surface of the semiconductor wafer 100.例文帳に追加
半導体ウエハ100表面に対して、膜の形成工程と研削・研摩工程とを交互に1回以上の複数回繰り返すことによって、半導体ウエハ100表面に所定の厚さ分布を持つ膜を形成する。 - 特許庁
The photocatalyst holder is produced appropriately by a method including a process for forming the photocatalyst layer on the surface of the porous substrate and a process for holding the metal element to be concentrated on the surface of the photocatalyst layer.例文帳に追加
この光触媒保持体は、硬質の多孔質基体の表面に光触媒層を形成する工程と、この光触媒層の表面に偏って金属元素を保持させる工程と、を備える方法により好適に製造される。 - 特許庁
Since no oxide film is formed on the surface of the amorphous semiconductor film in a laser anneal process, roughness is little is formed on the surface of a polycrystalline semiconductor film after the laser anneal process.例文帳に追加
従って、レーザアニール工程を行う時点で非晶質の半導体膜の表面に酸化膜が形成されていないので、レーザアニール工程を行った後の多結晶性の半導体膜の表面に凹凸がほとんど形成されない。 - 特許庁
In the first process, the incident surface, the emitting surface and all the end faces of the optical device laminate are packaged by the packaging member, and in the second process, corner parts or side parts of the optical device laminate are exposed from opening parts of the packaging member.例文帳に追加
第1の工程では、光学素子積層体の入射面、出射面、およびすべての端面を包装部材により包み、第2の工程では、光学素子積層体の角部または辺部を包装部材の開口部から露出させる。 - 特許庁
This method has a surface treating process wherein the solid material projecting from the surface of the base 10 containing this material and a thermoplastic binder resin is removed by applying a plasma discharge treatment to the surface and a molding process wherein a sheet member is stacked integrally on the surface of the surface treated base 10 simultaneously with pressure molding of the surface treated base 10.例文帳に追加
本発明では、固形材料と、熱可塑性のバインダ樹脂とを含む基材10の表面をプラズマ放電処理して、この表面より突出する固形材料を除去する表面処理工程と、表面処理した基材10の加圧成形と同時に、表面処理された基材10の表面にシート部材を積層一体化する成形工程とを備える積層体の製造方法を提供する。 - 特許庁
The pretreatment method for electroplating comprises a cutting oil removing process for removing the cutting oil used for cutting the metal mold and a blot formation preventing process for preventing the formation of the blot caused by the process for removing the cutting oil on the surface of a lens sheet.例文帳に追加
金型を切削するのに使用された切削油を除去する切削油除去工程と、レンズシート表面に切削油を除去する工程に由来するしみが発生するのを防止するしみ発生防止工程とを備える。 - 特許庁
The UV cleaning process 13 for UV cleaning a semiconductor chip surface on a lead frame is provided before a forming process 14 under a condition that a lead frame is mounted on a loading frame after a loading frame setting process 11.例文帳に追加
ローディングフレームセット工程11のあとで、ローディングフレームにリードフレームを装着した状態でこのリードフレーム上の半導体チップ表面に対してUV洗浄を行うUV洗浄工程13を成形工程14の前に設ける。 - 特許庁
The manufacturing method of coating magnetic metal fine particles comprises: a process for forming magnetic metal fine particles 10 composed of magnetic metal; and a process of forming a non-magnetism coat 20 on a surface of the magnetic metal fine particles by using a dry process.例文帳に追加
磁性金属からなる磁性金属微粒子10を形成する工程と、ドライプロセスを用いて該磁性金属微粒子の表面に非磁性被膜20を形成する工程とを含む被覆磁性金属微粒子の製造方法。 - 特許庁
The process unit 200 at the center part of the process regions A and B comprises a substrate input/output opening 210 at a front surface while the process units 200 on both sides comprise the substrate input/output opening 210 at a corner part facing the substrate transportation unit 60.例文帳に追加
処理領域A,Bの中央部の処理ユニット200は前面に基板搬入出口210を有し、両側の処理ユニット200は基板搬送ユニット60に対向する隅部に基板搬入出口210を有する。 - 特許庁
To provide a method and a device capable of suppressing or preventing gas mixing in a liquid-tight-interspace of process liquid to uniformly provide the process using the process liquid to all over one surface of a substrate.例文帳に追加
処理液の液密空間への気体の混入を抑制または防止して、基板の一方面の全域に、処理液を用いた処理を均一に施すことができる基板処理方法および基板処理装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a liquid crystal panel necessitating no pressurizing of a cell in a liquid crystal injection process and no setting of a temperature gradient inside the cell surface in a slow cooling process and improving liquid crystal's degree of packing in the slow cooling process.例文帳に追加
液晶注入工程にてセルを加圧したり、徐冷工程にてセル面内に温度勾配を設けることが不要で、徐冷工程における液晶の充填度の向上が可能な液晶パネルの製造方法を提供する。 - 特許庁
The manufacturing method of the sheet for the laminated electronic part further comprises a process of transferring the green sheet on the surface of water to a carrier, a process of drying the transferred green sheet, and a process of laminating the obtained sheet.例文帳に追加
また、積層電子部品用シートを製造する場合には、さらに、前記水面のグリーンシートを担体上に転写する工程、転写したグリーンシートを乾燥する工程、得られたシートを積層する工程、を有することを特徴とする。 - 特許庁
A steel for carburizing containing 0.1-0.4 mass% C and worked into the shape of parts, is treated with the chemical surface hardening-treating process, the shot-peening process and the hard film treating process, in order, to produce the steel parts.例文帳に追加
Cを0.1〜0.4質量%含有し、かつ部品形状に加工された浸炭用鋼を、化学的表面硬化処理工程、ショットピーニング工程、及び硬質皮膜処理工程の順に処理することによって鋼部品を製造する。 - 特許庁
To provide a polishing method of a semiconductor substrate which reduces variation in polishing speed in a chemical mechanical polishing process (CMP process) for polishing the surface of a film provided on a semiconductor substrate by a polishing pad, and facilitates the process control.例文帳に追加
半導体基板上に設けられた膜の表面を、研磨パッドによって化学機械的に研磨するプロセス(CMPプロセス)における研磨速度のバラツキを低減し、プロセス制御が容易な半導体基板の研磨方法を提供すること。 - 特許庁
To enhance the adhesiveness of a plating film by adding a surface treatment process after an ozone treatment process, and to execute the ozone treatment process to many kinds of synthetic resin including ABS resin and PS resin.例文帳に追加
オゾン処理工程後にその表面処理工程を加えることで、めっき皮膜の密着性を向上させると共に、ABS樹脂、PS樹脂をはじめ多くの種類の合成樹脂にオゾン処理工程を施すことができる。 - 特許庁
The diffuse reflection plate is manufactured by a process of pressing the transfer film on the base so that the thin film layer faces the base, a process of peeling the temporary support and a process of forming a reflective film on the surface onto which the thin film layer is transferred.例文帳に追加
転写フィルムを基板に薄膜層が面するように押し当てる工程と、前記仮支持体を剥がす工程と、薄膜層の転写された表面に反射膜を形成する工程により拡散反射板を作製する。 - 特許庁
To provide a wafer cleaning method for effectively removing from a wafer surface, organic substances sticking on a semiconductor substrate in a pre-processes, such as CMP process for forming Cu wiring, before moving to a next process, related to a wafer processing process.例文帳に追加
ウェーハ処理工程において、次工程へ移る前に半導体基板上にCu配線を形成するCMP処理などの前工程で付着した有機物をウェーハ表面から有効に除去するウェーハ洗浄方法を提供する。 - 特許庁
Furthermore, the manufacturing method includes a process for coating the inner surface of the mold with the resin solution and rapidly heating the mold by induction heating immediately after the coating with the resin solution and a process for uniformizing the coating film by the rotation of the mold after the rapid heating process.例文帳に追加
また、金型の内面に樹脂溶液を塗布し、その直後の誘導加熱による金型の急速加温工程および、その工程後の金型の回転による塗膜の均一化工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁
To make a large current flow in a surface roughening process conducted electrochemically and an anodizing process using a direct current and to conduct consecutively a coating process using an organic solvent or the like being combustible.例文帳に追加
電気化学的に行う粗面化工程、直流電流を用いる陽極酸化工程において大電流を流し、かつ可燃物である有機溶剤等を使用する塗布工程を連続的に行うことができるようにする。 - 特許庁
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