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surface processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 9599件
To provide a method of coating a thin plate, wherein, in a process of bonding a moisture-proof protective film to an electrophoresis display laminate surface, air bubbles on a bonding surface are removed, and the occurrence of a bumpy surface is also reduced.例文帳に追加
防湿用の保護フィルムを電気泳動表示積層体表面に貼り付ける工程において、接着面の気泡を抜き、且つ凹凸の発生を減少させる薄板体の被覆方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for producing a surface-emitting laser capable of aligning a center axis of a surface relief structure with that of a current confinement structure with high precision to reduce a surface damage during the producing process.例文帳に追加
表面レリーフ構造と電流狭窄構造との中心軸を高精度に位置合わせでき、作製過程において、表面への損傷の軽減が可能な面発光レーザの製造方法を提供する。 - 特許庁
And the additional image is formed on the rear surface of the backing paper (step S18), and a process necessary for charge for the image formation on the rear surface is performed (step S19), but, charging for the image formation on the rear surface is not performed.例文帳に追加
そして、裏面に付加画像を形成し(ステップS18)、この裏面の画像形成に対して課金のために必要な処理を行う(ステップS19)が、この裏面の画像形成には課金しない。 - 特許庁
To provide a mold for forming lens and a device for forming lens which enables a user to check relative deviation between two surfaces of an incident surface and a light-emission surface of a lens on the lens forming surface of a mold in a forming process and to perform adjustment on a submicron level.例文帳に追加
レンズの入光面と出光面との2面間の相対的なズレを成形工程の金型のレンズ成形面上で確認できるようにし、サブミクロンレベルの調整を可能にする。 - 特許庁
Also, the coefficient of static coefficient of the photoreceptor surface is 0.1 to 0.7 by an Euler belt process and the difference between the surface speed of the photoreceptor and the surface speed of an intermediate transfer medium is set at ≤1%.例文帳に追加
また、この感光体表面の静止摩擦係数はオイラーベルト法で0.1〜0.7であり、感光体の表面速度と中間転写体の表面速度の差が1%以下に設定されている。 - 特許庁
To provide a polishing device and a polishing method for making uniform distribution of pressure in the process of polishing on the surface to be polished of an object to be polished so that the whole surface of the surface to be polished can be uniformly polished.例文帳に追加
被研磨対象物の被研磨面における研磨中の圧力分布を均一化し、被研磨面全面において均一に研磨可能な研磨装置および研磨方法を提供する。 - 特許庁
To provide an internal gear type oil pump capable of preventing burning and also restraining surface pressure rise of the inner circumferential surface of the housing coming in contact with the outer circumferential surface of the outer gear by applying a simple process to a housing.例文帳に追加
ハウジングに簡単な加工を施すだけで焼き付きを防止でき、アウターギヤの外周面と接するハウジング内周面の面圧上昇も抑制できる内接ギヤ式オイルポンプを提供する。 - 特許庁
To provide a chemical mechanical polishing pad, capable of suppressing occurrence of scratches on the surface of a polished object in a chemical mechanical polishing process and capable of giving the surface of a polished object having superior surface flatness.例文帳に追加
化学機械研磨工程における被研磨面のスクラッチ発生を抑制でき、かつ表面平坦性に優れた被研磨面を与えることができる化学機械研磨パッドを提供すること。 - 特許庁
In a casting process using a texture interface layer 20 for separating the surface of the casting mold 10 from the surface of the composite article 12 manufactured using the casting mold 10, a solution is deposited on the surface 18 of the casting mold 10 in order to form the interface layer 20.例文帳に追加
本発明は、鋳型10を用いて製造される複合物品12の表面から該鋳型の表面18を隔離させるためテクスチャー界面層20を使用する鋳造プロセスに関わる。 - 特許庁
To provide a surface-treated zinc-base plated steel sheet having the surface treatment film with high corrosion resistance after alkaline degreasing, which does not require effluent treatment for hexavalent chromium in a manufacturing process and in service, because the surface treatment does not employ chromium.例文帳に追加
クロムを使用しないため、製造工程および使用中に、6価クロムの処理等が不要で、アルカリ脱脂後の耐食性に優れた表面処理皮膜を有する亜鉛系めっき鋼板の提供。 - 特許庁
To achieve high flatness and smoothness of the surface of a glass substrate by improving its surface roughness while maintaining or improving its flatness in a polishing process after local surface processing.例文帳に追加
局所表面加工後の研磨工程において、ガラス基板表面の平坦度を維持又は向上させつつ、ガラス基板表面の面荒れを改善することができ、高平坦度と高平滑性を実現する。 - 特許庁
A thick layer of a rinse solution covers the whole of the substrate surface Wf that is subjected to a rinse process of delivering the rinse solution from a rinse nozzle 8 to the substrate surface Wf, and a paddle-like rinse layer 21 is formed on the substrate surface Wf.例文帳に追加
リンスノズル8からのリンス液の吐出によりリンス処理を受けた基板表面Wf全体にはリンス液が盛られた状態で付着して、いわゆるパドル状のリンス層21が形成される。 - 特許庁
The surface cleaning method of the boat for semiconductor heat treatment whose surface is formed of SiC 102 is provided with a process for oxidizing the surface of the heat treatment boat by thermal oxidation and a process for removing a part of the oxide film 104 formed in the oxidizing process.例文帳に追加
少なくとも表面がSiC102で形成される半導体熱処理用ボートの表面清浄化方法であって、熱酸化により熱処理用ボートの表面を酸化する工程と、酸化する工程で形成された酸化膜104の一部を除去する工程を有することを特徴とする半導体ウェーハ熱処理用ボートの表面清浄化方法。 - 特許庁
A resin film gettering capability evaluation method according to the present invention comprises: a process of forming the resin film on one surface of a silicon wafer; a process of heating a laminate of the resin film and the silicon wafer to a temperature of 200°C and over; and a process of determining a quantity of a heavy-metal element in a surface layer on the other surface side of the silicon wafer.例文帳に追加
本発明に係る樹脂膜のゲッタリング性能の評価方法は、 該樹脂膜をシリコンウエハの片面に形成する工程、 該樹脂膜とシリコンウエハとの積層体を200℃以上に加熱する工程、および 該シリコンウエハの他面側の表面層における重金属元素量を定量する工程を含むことを特徴としている。 - 特許庁
In this method of manufacturing a laminated plate, a heat treatment process (step 3) of performing a heat treatment of a polyimide substrate S is performed before performing a catalyst imparting process (step 4) of imparting a catalyst to a surface treatment layer (alkaline treatment layer) 3 after performing an alkaline treatment process (step 2) of forming the surface treatment layer (alkaline treatment layer) 3 on a surface of the polyimide substrate S.例文帳に追加
本積層板の製造方法では、ポリイミド基板Sの表面に表面処理層(アルカリ処理層)3を形成するアルカリ処理工程(ステップ2)を行った後、表面処理層(アルカリ処理層)3に触媒を付与する触媒付与工程(ステップ4)を行う前に、ポリイミド基板Sの熱処理を行う熱処理工程(ステップ3)を行う。 - 特許庁
This method has a process for forming an Al layer 2 and a tungsten layer 3 contacting to the Al layer 2 on a substrate, a process for oxidizing the surface of the Al layer 2 to form an oxidized aluminum layer 5 on the surface, and a process for removing the oxidized layer on the surface of the oxidized aluminum layer 5 to form spaces between the Al layer 2 and the tungsten layer 3.例文帳に追加
基板上にAl層2と、Al層2と接触するタングステン層3と、を形成する工程と、Al層2の表面を酸化して、該表面に酸化アルミニウム層5を形成する工程と、酸化アルミニウム層5の表面の酸化層を除去して、Al層2とタングステン層3との間に間隙を形成する工程と、を有する。 - 特許庁
This manufacturing method of an arc tube includes: an arc tube preparation process of preparing an arc tube 20a with a bulb part 30 formed therein; a bulb part surface polishing process of polishing a surface of the bulb part 30; and an optical thin film formation process of forming an antireflection film 70 as an optical thin film on the surface of the tube part 30, in that order.例文帳に追加
管球部30が形成された発光管20aを準備する発光管準備工程と、管球部30の表面を磨く管球部表面磨き工程と、管球部30の表面に光学薄膜としての反射防止膜70を形成する光学薄膜形成工程とをこの順序で含む発光管の製造方法。 - 特許庁
The method for treating the surface of the substrate includes a cleaning process S1 for keeping the surface of the substrate clean by removing a pollutant present on the substrate a substrate storing process S2 for keeping the substrate in storage by soaking it in a storing fluid and a coating layer forming process S4 for forming the coating layer on the surface of the substrate.例文帳に追加
本発明の基板の表面処理方法は、基板上に存在する汚染物質を除去することにより、該基板表面を清浄にする清浄化工程S1と、前記基板を保管用液体中に浸漬して当該基板を保管する基板保管工程S2と、前記基板表面に膜を形成する膜形成工程S4とを含む。 - 特許庁
A process for eliminating an insulating film formed on a Cu film in a method for eliminating the insulating film comprises a process for etching under conditions, where the penetration of an etching active species onto the surface of a Cu film is 15 nm or less on the surface of the Cu film; and a process for washing the surface of the Cu film after eliminating the insulating film.例文帳に追加
Cu膜上に形成された絶縁膜を除去する工程において、Cu膜表面へのエッチング活性種の入り込みがCu膜表面から15nm以下となる条件でエッチングを行う工程と、絶縁膜を除去した後Cu膜表面を洗浄する工程と、を備えることを特徴とする絶縁膜の除去法方法を提供する。 - 特許庁
A method for manufacturing a semiconductor device includes: a process of supplying a nitrogen-containing gas into a reaction vessel having silicon or silicon carbide at least at a part of a surface to nitride at least a part of the surface; a process of conveying the substrate into the reaction vessel; and a process of heat-treating the substrate in the reaction vessel having the nitrided surface.例文帳に追加
少なくとも表面の一部にシリコン又は炭化珪素を有する反応容器内に、窒素含有ガスを供給して少なくとも前記表面の一部を窒化させる工程と、前記反応容器内に基板を搬入する工程と、窒化された前記表面を有する前記反応容器内で前記基板を熱処理する工程とを有する。 - 特許庁
This method for surface-modifying the polymer substrate comprises a process of applying a penetrative substance on a prescribed zone of the surface of a polymer substrate material, a process of forming a coating layer so as to cover the penetrative substance and a process of penetrating the penetrative substance to the polymer substrate material by bringing the surface of coating layer side of the polymer substrate material in contact with a supercritical fluid.例文帳に追加
ポリマー基材の表面の所定領域に浸透物質を付加することと、該浸透物質を被覆するようにコーティング層を形成することと、ポリマー基材のコーティング層側の表面に超臨界流体を接触させて該浸透物質をポリマー基材に浸透させることとを含む表面改質方法を提供する。 - 特許庁
The method includes a sound insulating part forming process for forming the sound insulating part of the rubber, a surface treatment process for applying shot blast treatment to the surface of the sound insulating part, and a sound absorbing part forming process for forming the sound absorbing part of the foamed resin integrally with the sound insulating part on the treated surface of the sound insulating part.例文帳に追加
本発明の防音カバーの製造方法は、ゴムよりなる遮音部を形成する遮音部形成工程と、遮音部の表面にショットブラスト処理を施す表面処理工程と、遮音部のショットブラスト処理が施された表面上に発泡樹脂よりなる吸音部を遮音部と一体に形成する吸音部形成工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁
The following processes are performed in sequence: an application process for applying a condensation reactant between a polysiloxane compound and silica particles to a substrate including a trench structure as a first process, a burning process for burning the applied condensation reactant and forming the insulating film as a second process, and a hydrophobic treatment process for subjecting the surface of the insulating film to a hydrophobic treatment agent as a third process.例文帳に追加
第一の工程としてポリシロキサン化合物とシリカ粒子との縮合反応物をトレンチ構造を含む基板に塗布する塗布工程と、第二の工程として前記塗布された縮合反応物を焼成して絶縁膜を形成する焼成工程と、第三の工程として前記絶縁膜の表面を疎水化処理剤にさらす疎水化処理工程を順に行う。 - 特許庁
This disk brake comprises a brake pad surface 19 protrusively formed facing a recessed brake disk surface 18, and is constituted so as to form a facial bonding which can reduce noise over the main area of the brake pad surface 19 between the brake disk surface 18 and the brake pad surface 19 during braking process, with the recessed surface of the brake disk surface 18 and the protrusive surface of the brake pad 19.例文帳に追加
ブレーキパッド面19が、前記凹状のブレーキディスク面18に対して凸状に形成されていて、ブレーキ過程時に、ブレーキディスク面18の凹面とブレーキパッド面19の凸面とによって、ブレーキディスク面18とブレーキパッド面19との間の、ブレーキパッド面19の主要な領域にわたってノイズを低減させるような面接合を形成するように構成されている。 - 特許庁
The method for manufacturing the electrophotographic photoreceptor, manufactured via a coating process for applying a surface layer applying solution containing the polymerizable material, to a support body, and a polymerization process for polymerizing the polymerizable material, has a ruggedness shape-forming process for forming a rugged shape part on the surface of the surface layer coating film in the polymerization process.例文帳に追加
重合性材料を含有する表面層用塗布液を支持体に塗布する塗布工程および該重合性材料を重合させる重合工程とを経て製造される電子写真感光体の製造方法において、該重合工程中に凹凸形状部を表面層塗膜の表面に形成する凹凸形状形成工程を有することを特徴とする電子写真感光体の製造方法。 - 特許庁
The etching method includes a process to form a layer of Al or Al alloy on a surface of a substrate, a process to treat the surface of the layer of Al or Al alloy with TMAH, a process to form a resist pattern on the surface of the Al or Al alloy layer treated with TMAH, and a process to wet-etch the Al or Al alloy layer with the resist pattern as an etching mask.例文帳に追加
下地表面上にAlまたはAl合金の層を形成する工程と、前記AlまたはAl合金の層の表面をTMAHで処理する工程と、前記TMAHで処理したAlまたはAl合金の層の表面上にレジストパターンを形成する工程と、前記レジストパターンをエッチングマスクとして用い、前記AlまたはAl合金の層をウエットエッチングする工程とを含む。 - 特許庁
In a surface roughened copper foil in which at least one surface of a base copper foil (unprocessed copper foil) is roughened by a roughening process, the roughened surface is finished to have such a surface roughness that a surface roughness Ra of a sticking surface of a polyimide film stuck to the roughened surface is made 0.28 μm or more.例文帳に追加
母材銅箔(未処理銅箔)の少なくとも片面に粗化処理により粗化処理面が施された表面処理粗化銅箔であって、前記粗化処理面が、該粗化処理面に張付けるポリイミドフィルムの張付面の表面粗さRaが0.28μm以上となる表面粗さに仕上げられている表面処理粗化銅箔である。 - 特許庁
The roughening method of a silicon substrate comprises: a process of applying an organic metal solution or an organic metal dispersion solution on a substrate in a dot shape with an ink jet method; a process of drying the substrate; a process of irradiating the surface of the substrate with plasma; and a process of etching the substrate.例文帳に追加
有機金属溶液あるいは有機金属の分散液を基板にインクジェット法でドット状に塗布する工程と、上記基板を乾燥する工程と、上記基板の表面にプラズマを照射する工程と、上記基板をエッチング処理する工程とを備えたシリコン基板の粗面化方法である。 - 特許庁
The defoaming method includes a process for injecting the viscous resin liquid in a container, a process for arranging a reticulated structure so as to pierce the liquid surface of the viscous resin liquid in the container, a process for reducing the pressure in the container and a process for allowing the viscous resin liquid in the container to flow.例文帳に追加
本発明の脱泡方法は、容器内に粘性樹脂液を注入する工程と、該容器内の該粘性樹脂液の液面を貫くように網状構造体を配設する工程と、該容器内を減圧する工程と、該粘性樹脂液を該容器内で流動せしめる工程と、を含む。 - 特許庁
The manufacturing method of an electronic device includes: (a) a process of forming a Cu layer by plating above a base substrate; (b) a process of cleaning the surface of the Cu layer with an alkali cleaning chemical solution to which an organic acid is added; and (c) after the process (b) a process of chemical mechanical polishing of the Cu layer.例文帳に追加
電子装置の製造方法は、(a)下地基板上方に、めっきによりCu層を形成する工程と、(b)Cu層の表面を、有機酸が添加されたアルカリ性の洗浄薬液により洗浄する工程と、(c)工程(b)の後、Cu層を化学機械研磨する工程とを有する。 - 特許庁
Since the process air current is supplied to the process air current receiving person from the port 6 through the surface 7, the process air current can effectively be supplied to the process air current receiving person without being diffused to the outside on the way.例文帳に追加
上記構成により、加工気流は略円錐状の形状をした吐出口6からその円形状底面を通して供給対象者へと供給されるので、途中で外部へ拡散することがなく供給対象者に無駄なく供給されることが可能となっている。 - 特許庁
A dyeing apparatus is installed in an outlet store, which has a tank wherein a washing process, a dyeing process, a washing process, and a drying process can be performed; and a colorless transparent resin layer formed on the surface of a spectacle frame is dyed in a prescribed color, lenses are fitted to the frame, and the spectacles are provided.例文帳に追加
小売店には洗浄工程、染色工程、洗浄工程、及び乾燥工程を行うことが出来る槽を備えた染色装置を設置し、該メガネフレームの表面に形成した無色透明な樹脂層に所定のカラーを染色し、これにレンズを嵌めて提供する。 - 特許庁
The method for manufacturing the pneumatic tire includes a process in which a thermoplastic resin is dissolved in a solvent to prepare a solution, a process for applying the solution on the inner surface of an unprocessed case after molding, a process for forming a green tire from the unprocessed case, and a process for vulcanization-molding the green tire.例文帳に追加
熱可塑性樹脂を溶媒に溶解し、溶液とする工程と、成型後の生ケースの内面に前記溶液を塗布する工程と、かかる生ケースから生タイヤを構成する工程と、かかる生タイヤを加硫成形する工程とを含むことを特徴とする空気入りタイヤの製造方法である。 - 特許庁
This method for manufacturing the filter pack 1 provided with the filter medium 3 worked into a wavy shape and a spacer 5 provided on the surface of the filter medium 3 comprises a first process, a second process, a third process and a fourth process.例文帳に追加
このフィルタパック1の製造方法は、波型形状に加工されたフィルタ濾材3と、フィルタ濾材3の表面に設けられるスペーサ5とを備えたフィルタパック1を製造するための方法であって、第1工程と、第2工程と、第3工程と、第4工程とを備えている。 - 特許庁
The coating method of coating the surface of the substrate 1 with a coating solution 2 includes a solvent treatment process as a pretreatment process or an aftertreatment process for the coating process of applying the coating solution 2, in which a marginal part of the substrate 1 is selectively exposed to an atmosphere of a solvent 2a contained in the coating solution 2.例文帳に追加
基板1の表面に塗布液2を塗布する塗布方法であって、塗布液2を塗布する塗布工程の前処理工程又は後処理工程として、塗布液2に含まれる溶剤2aの雰囲気に基板1の縁部を選択的に晒す溶剤処理工程を実施する。 - 特許庁
The method for manufacturing a vertical resonator surface light-emitting laser includes a process for allowing a lower Bragg reflector to adhere onto a substrate, a process for allowing an active layer to adhere, a process for allowing an upper Bragg reflector to adhere, and a process for forming an electric contact for applying voltage to the active layer.例文帳に追加
垂直共振器面発光レーザを製造する方法は、基板に下側ブラッグ反射鏡を付着させる工程、活性層を付着させる工程、上側ブラッグ反射鏡を付着させる工程、及び活性層に電圧を加える電気的接点を形成する工程とを含む。 - 特許庁
A plurality of point coordinates set on a side surface of an antenna are taken as the antenna shape parameters, and as processing processes for an evaluation function for executing an evaluation process for the parameters, following processes are included: STEP1: a directionality calculation process, STEP2: a dispersion calculation process, and STEP3: an evaluated value calculation process.例文帳に追加
本発明はアンテナの側面上に設定した複数の点座標をアンテナ形状パラメータとし、このパラメータの評価処理を実行する評価関数の処理工程として、STEP1:指向性算出工程、STEP2:分散算出工程、STEP3:評価値算出工程がある。 - 特許庁
Therein, the (A) process for adhering salinity including a chloride ion to the surface of the metallic material and the (B) process for performing an operation cycle consisting of a drying process and a wetting process set by stepwise varying temperature and relative humidity to the metallic material, once or a plurality of times.例文帳に追加
但し、(A)金属材の表面に塩化物イオンを含む塩分を付着させる工程、(B)金属材に温度と相対湿度をステップ状に変化させて設定した乾燥工程と湿潤工程を行うことを1サイクルとし、このサイクルを1乃至複数回行う工程である。 - 特許庁
The heating section preparation process includes a heat insulating material provision process of preparing a heat insulating material, a flattered film formation process of forming a flattered film with a flat surface on the heat insulating material, and a heating section forming process of forming a heating section for generating heat by turning on electricity on the flattered film.例文帳に追加
加熱部準備工程は、断熱材を準備する断熱材準備工程と、断熱材上に、表面が平坦な平坦化膜を形成する平坦化膜形成工程と、平坦化膜上に、通電により発熱する加熱部を形成する加熱部形成工程とを含む。 - 特許庁
The method for manufacturing the semiconductor device includes a first process for modifying an alkylsilyl group to a surface of a semiconductor wafer having a silanol group on the surface, and a second process for applying fluorination treatment to an alkyl group of the alkylsilyl group whose surface is modified.例文帳に追加
本発明の半導体装置の製造方法は、表面にシラノール基を有する半導体ウェーハの表面にアルキルシリル基を修飾する処理を行う第1の工程と、表面に修飾されたアルキルシリル基のアルキル基にフッ化処理を行う第2の工程と、を備えたことを特徴とする。 - 特許庁
The method further includes a step of subjecting an inner surface of the first and/or second passage 10, 12 to a heat treatment process to be carburized, and a step of applying a hard stage electrochemical machining process to the carburized internal surface of the first and/or second passage 10, 12 to improve surface finish.例文帳に追加
さらに第1および/または第2の通路10、12の内部通路を浸炭熱処理工程にかけるステップ、表面仕上げを改善するために第1および/または第2の通路10、12の浸炭された内部表面へのハードステージの電解加工工程ステップを含む。 - 特許庁
To form an optical element which has no eccentricity on a surface and a back by surely correcting the dislocation of the optical elements formed on the surface and the back when a plurality of the optical elements are formed by a process for forming the optical element on the surface of a base film and a following process for forming the optical element on the back.例文帳に追加
ベースフィルムの表面への光学素子形成工程とこれに続く裏面への光学素子形成工程によって複数の光学素子を形成するに際して、表面と裏面に形成される光学素子のズレを確実に補正して表裏の偏心が無い光学素子を形成すること。 - 特許庁
The manufacturing method of the hollow vessel for a fuel tank has a fluoridation process for performing fluoridation to a surface of a resin particle to obtain a surface-fluoride resin particle, and a molding process for molding the surface-fluoride resin particles to the hollow vessel for the fuel tank.例文帳に追加
樹脂粒子の表面をフッ化処理して表面フッ化処理樹脂粒子を得るフッ化処理工程;及び表面フッ化処理樹脂粒子を燃料タンク用中空容器に成形する成形工程を有する燃料タンク用中空容器の製造方法により、上記課題を解決する。 - 特許庁
Subsequently, a Ta film 111 is deposited by the physical vapor phase growth process on a surface of the film 110, a Cu film 112 is deposited by the physical vapor phase growth process on a surface of the Ta film 111, and then a Cu film 113 is deposited by electroplating on a surface of the Cu film 112.例文帳に追加
次にTiN膜110表面に物理的気層成長法によりTa膜111を堆積し、次にTa膜111表面に物理的気層成長法によりCu膜112を堆積した後に、電解メッキ法によりCu膜112の表面にCu113膜を堆積する。 - 特許庁
This method for assembling the tire on a rim outer surface of the wheel fitted with a sensor beforehand includes a lower bead part mounting process of fitting a lower bead part to the rim outer surface by an expansion roller and an upper bead part mounting process of fitting an upper bead part to the rim outer surface by an expansion roller.例文帳に追加
センサが予め装着されたリム外周面にタイヤを組み付けるタイヤ組付け方法であって、下ビード部を拡張ローラによりリム外周面にはめ込む下ビード部取付け工程と、上ビード部を拡張ローラによりリム外周面にはめ込む上ビード部取付け工程と、を含む。 - 特許庁
By conducting a process of partially forming a mask on the surface of a substrate and a process of forming concave portions by etch-removing a portion of the surface of the substrate which is not covered with the mask by a dry etching method in this order, concave-convex portions are formed on the surface of the substrate.例文帳に追加
基板の表面に部分的にマスクを形成する工程と、ドライエッチング法を用いて前記基板の表面の前記マスクに覆われていない部分をエッチング除去して凹部を形成する工程とを、この順に行うことにより、基板の表面に凹凸部を設ける。 - 特許庁
The method of forming a stable depletion layer on the surface of the semiconductor wafer comprises at least a first process of removing an organic matter attached to the surface of the semiconductor wafer and a second process of producing an electric charge on the surface of the semiconductor wafer after removal of the organic matter.例文帳に追加
半導体ウエーハの表面に安定した空乏層を形成する方法であって、少なくとも半導体ウエーハの表面に付着した有機物を除去する工程と、有機物除去後の前記半導体ウエーハの表面に電荷を形成する工程とを有するようにした。 - 特許庁
To provide a measurement standard apparatus having a simple structure, capable of easily and accurately adjusting the levelness values or tilt angles of a flat surface to be measured of a measurement object, in two directions relative to a process measurement surface, and capable of precisely measuring the straightness value of the process measurement surface.例文帳に追加
装置の構成が簡単であるとともに、加工計測面に対する被計測部材の被計測平面の2方向の水平度あるいは傾斜角度を容易かつ正確に調整することができて、加工計測面の真直度を高精度に計測することができる計測基準装置を提供する。 - 特許庁
Also, because the sheet member 231 with the process liquid attached thereto is moved in a direction along the surface of the substrate Wf as a process proceeds, a substrate processing device enables a clean surface of the sheet member 231 to face opposite to the substrate and thereby preventing the surface of the substrate Wf from being tainted with liquid which drops from the sheet member 231.例文帳に追加
また、処理液等が付着したシート部材231は、処理に応じて基板表面Wfに沿った方向に移動され、清浄な面を基板対向面とすることができるため、シート部材231から液体等が落下して基板表面Wfを汚染することがない。 - 特許庁
In the method of finishing the surface of the coating film which includes a process of applying the finishing agent on the surface of the coating film and a process of polishing the surface of the coating film coated with the finishing agent, the finishing agent is a water-based composition containing water, a petroleum-based solvent and particles made from plastic.例文帳に追加
塗膜表面に仕上げ剤を塗布する工程;及び仕上げ剤が塗布された塗膜表面を磨く工程;を包含する塗膜表面の仕上げ方法において、上記仕上げ剤が、水、石油系溶剤、及びプラスチック製粒子を含有する水性組成物である方法。 - 特許庁
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