「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(25ページ目) - Weblio英語例文検索

To prevent the generation of scales by oxidation of the inside surface of a shape memory alloy tube in the working process thereof.例文帳に追加

形状記憶合金チューブの加工工程における内周面の酸化によるスケール生成を防止すること。 - 特許庁

To prevent the adhesion of an insulating resin 12 to the rear surface of a metal substrate 16 in a process of molding.例文帳に追加

モールドの工程に於いて、絶縁性樹脂１２が金属基板１６の裏面に付着するのを防止する。 - 特許庁

In a heating process, the first adhesive material 1 contacting with the other surface is heated partially and gradually melted.例文帳に追加

加熱工程では、他方の面に接触した第１の接合材１を部分ごとに順次加熱溶融させる。 - 特許庁

Since surface modification becomes unnecessary, it is possible to facilitate handling and prevent the production process from being complicated.例文帳に追加

表面修飾が不要となるので、取り扱いを容易にできるとともに、製造工程の煩雑化を防止できる。 - 特許庁

By the weighing capacity charge process, it is filled with the compound smoothly without sticking, etc. to a wall surface of the cavity.例文帳に追加

上記秤量充填工程によると、コンパウンドがキャビティの壁面に付着等せずにスムーズに充填される。 - 特許庁

To provide a drying process cable of inhibiting a surface crack of a cored block in a simplified operation.例文帳に追加

簡素化された工程で、心持ち角材の表面割れを抑制することができる乾燥方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the fracture of glass in a curing process step in a surface treatment method for the came portion of beveled glass.例文帳に追加

ベベルドガラスのケーム部分の表面処理方法において、硬化工程におけるガラスの破壊を防止すること。 - 特許庁

The supercritical substance in the liquid state L1 is replaced with processing liquid (S6) to process the object surface (S7).例文帳に追加

液体状態Ｌ１の超臨界物質を処理液で置換し（Ｓ６）、処理表面の処理を行う（Ｓ７）。 - 特許庁

To provide foamed wallpaper which can be prepared by a convenient process and has good surface characteristics (anti-scratch property).例文帳に追加

簡便な工程により作製でき、しかも表面特性（耐スクラッチ性）が良好である発泡壁紙を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer having a stabilized flat surface (terrace) of atomic level, and to provide its production process.例文帳に追加

安定した原子レベルの平坦面（テラス）を有する半導体ウェーハおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To perform a shot-peening process to compensate the decrease of strength in the vicinity of a tooth surface edge caused by vacuum carburizing.例文帳に追加

真空浸炭での歯面エッジ部付近における強度低下を補うようにショットピーニング加工を行う。 - 特許庁

To measure an uppermost surface temperature of a substrate supplied to an oxidation process system using an oxidation treatment gas and light irradiation.例文帳に追加

酸化処理ガスと光照射とを用いた酸化プロセス系に供された基板の最表面温度を測定する。 - 特許庁

At least one conductive layer 23 is formed by non-electrodeposition process on the micro-rough surface of the electrode foil 21.例文帳に追加

非電着法により、電極箔２１の微小粗面上に少なくとも一つの導電層２３を成膜する。 - 特許庁

The outer diameter of a pipe 14a located on the sleeve inner circumferential surface becomes larger than the outer diameter A by a crimp process.例文帳に追加

スリーブ内周面に位置するパイプ部分１４ａの外径は圧着工程に伴い外径Ａより大きい。 - 特許庁

Finally the second film formation process is performed so that a metal film 13 is formed on the gradually deformed layer with surface unevenness.例文帳に追加

最後に、なだらかに変形した凹凸層の上に金属膜１３を形成する第二成膜工程を行なう。 - 特許庁

Ni-P plating is applied to a surface of the sintered bearing after the barrel polishing process to form a plating layer.例文帳に追加

バレル研磨工程が終わった焼結軸受の表面に、Ｎｉ−Ｐ鍍金を施し鍍金層を形成する。 - 特許庁

A reproducing method of the first substrate includes a process for processing a surface of the separated first substrate.例文帳に追加

さらに、分離した第１の基板の表面処理を行なう工程とを含む第１の基板の再生方法。 - 特許庁

The Fresnel lens and holographic diffuser can be formed on the surface of the semiconductor light-emitting element by also using a stamping process.例文帳に追加

スタンピング工程を用いても、半導体発光素子の面にフレネルレンズやホログラフィックディフューザを形成できる。 - 特許庁

TRANSFER SHEET WHICH HAS METAL THIN FILM IN PART OF SHEET SURFACE AND HAS ACRYLIC ANCHOR LAYER, AND PROCESS FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

シート面の一部に金属薄膜を有し、アクリル系アンカー層を有する転写シート、及びその製造方法 - 特許庁

The surface electrode and device are not damaged because of employing hydrogen peroxide in the reducing process.例文帳に追加

この還元処理では過酸化水素水を用いるため、表面電極７やデバイスにダメージを与えることがない。 - 特許庁

The method includes a manufacturing process of mainly forging, spheroidizing, trimming, polishing, rolling, heat treatment and surface treatment.例文帳に追加

主に鍛造、球状化焼なまし、トリミング、研磨加工、転造、熱処理、表面処理等の製造工程を含む。 - 特許庁

Then, a direct nitride film 44 is formed on the entire surface including the NiSi film 42 (nitride film formation process).例文帳に追加

次に、ＮｉＳｉ膜４２を含めた表面全体にダイレクト窒化膜４４を形成する（窒化膜形成工程）。 - 特許庁

A naturally oxidized film is not formed because the surface is not oxidized during the dehydrogenation process of the amorphous silicon oxide layer.例文帳に追加

アモルファス酸化シリコン層の脱水素処理の際に表面が酸化されず自然酸化膜が形成されない。 - 特許庁

To print pictures, drawings, letters and the like on the surface of materials made of trimming glass, resins and the like by laser process.例文帳に追加

整形ガラス、樹脂等からなる素材表面に、レーザー加工により写真、絵柄、模様、文字等を描画する。 - 特許庁

STATIC ELIMINATOR OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND LIQUID CRYSTAL SUBSTRATE SURFACE IN SEMICONDUCTOR AND LIQUID CRYSTAL MANUFACTURING PROCESS例文帳に追加

半導体および液晶製造工程における半導体基板および液晶基板表面の静電除去装置 - 特許庁

Even after the process of flattening the surface of the first nitride gallium layer 6, the alignment mark can be recognized.例文帳に追加

第１の窒化ガリウム層６の表面を平坦化した後の工程でも、アライメントマークを認識することができる。 - 特許庁

a surface-active chemical used in flotation process to increase the attraction to a specific mineral 例文帳に追加

特定の鉱物に対する捕集力を増すために、浮遊選鉱の過程で用いられる界面活性化学物質 - 日本語WordNet

To provide a surface micromachining process for directly fabricating a three-dimensional micro hinge on a silicon on insulator wafer.例文帳に追加

シリコンオンインシュレータウェハ上に３次元マイクロヒンジを直接作製する表面マイクロマシニングプロセスを提供する。 - 特許庁

A processing gas is ejected from an ejecting opening 22 of a nozzle head 20, to carry out a surface spraying process to the processed subject 9.例文帳に追加

ノズルヘッド２０の吹出し口２２から処理ガスを吹出し、被処理物９に吹き付け表面処理する。 - 特許庁

The process cartridge includes a first ventilation opening on one side surface of a drum frame body and a second ventilation opening on the other side.例文帳に追加

ドラム枠体の一方の側面に設けられた第１の通気口と、他方側に第2 の通気口を有する。 - 特許庁

To enable an efficient and excellent hydrophilization of a metal surface with a simple and economic process.例文帳に追加

簡単且つ経済的な工程で、金属表面を効率的且つ良好に親水化することを可能にする。 - 特許庁

The manufacturing method of the indication plate 100 comprises: a resin film arrangement process (b) which the resin film 102 is located on the tabular base material 101(a); a resin film cutting process (c) performing cutting of the surface of the resin film; and a resin film polishing process (d) which polishes the surface of the cutting process performed resin film.例文帳に追加

本発明の表示板１００の製造方法は、板状の基材１０１（ａ）上に樹脂膜１０２を配置する樹脂膜配置工程（ｂ）と、前記樹脂膜の表面に切削加工を施す樹脂膜切削工程（ｃ）と、切削加工が施された前記樹脂膜の表面を研磨する樹脂膜研磨工程（ｄ）とを有することを特徴とする。 - 特許庁

The heat treatment step consists of a first process for carburizing treatment or carburizing and quenching treatment, a second process for depositing fine globular carbides in a carburized layer with quenching treatment, and a third process for high concentration carburizing and quenching treatment to make the carbon concentration in a surface portion higher than the carbon concentration in the surface portion obtained in the first process.例文帳に追加

熱処理工程は、浸炭処理または浸炭焼入れ処理を施す第１工程と、焼入れ処理を施して浸炭層に微細球状炭化物を析出させる第２工程と、表面部の炭素濃度が上記第１工程で得られた表面部の炭素濃度よりも高濃度になるように高濃度浸炭焼入れ処理を施す第３工程とよりなる。 - 特許庁

The manufacturing method of the multilayer interconnection board should comprise a process for forming a light-sensitive resist film on one surface of a substrate made of a conductive material that can be etched, a process for exposing the light-sensitive resist film for development, and a process for making coarse the surface of the substrate where the light-sensitive resist film is removed by the process.例文帳に追加

エッチング可能な導電材料から成る基板の片方の面に感光性レジスト膜を形成する工程と、該感光性レジスト膜を露光して現像する工程と、前記工程で感光性レジスト膜を除去したところの基板表面を粗化する工程を含むことを特徴とする多層配線板の製造方法である。 - 特許庁

In the method for manufacturing the synthetic quartz glass substrate for the polysilicon TFT formed by multistage polishing consisting of a lapping process and a polishing process, the end surface of the substrate is subjected to mirror surface finishing just prior to the final polishing process of the polishing process and after subjecting the substrate to etching.例文帳に追加

ラッピング工程とポリッシュ工程からなる多段研磨により形成されるポリシリコンＴＦＴ用合成石英ガラス基板の製造方法において、前記ポリッシュ工程は複数の研磨工程からなり、該ポリッシュ工程の最終の研磨工程の直前、かつ、前記基板にエッチングを施した後に前記基板の端面に鏡面加工を施す。 - 特許庁

A first process for washing a vehicle by using a car washing machine and by applying cleaner containing nonionic surface active agent, a second process for washing the vehicle by foaming and applying foam agent containing anion surface active agent, a third process for applying coating agent containing amino-modified silicon oil and a fourth process for drying the vehicle with a drying device are successively performed.例文帳に追加

洗車機を用い、車両に対し、非イオン界面活性剤を含有するクリーナーを塗布して洗浄する第一行程と、アニオン界面活性剤を含有するフォーム剤を発泡させ塗布して洗浄する第二行程と、アミノ変性シリコーンオイルを含有するコーティング剤を塗布する第三行程と、乾燥装置で乾燥する第四行程とを順次施行する。 - 特許庁

This method for fabricating an acoustic resonator arranged on a substrate (202) provided with a surface (204) includes a process for etching a depression part (206) on the surface (204), a process for filling the depression part (206) with sacrificial material, a process for forming an acoustic resonator provided with an etch hole (220) on the substrate and a process for subsequently removing the sacrificial material.例文帳に追加

表面（２０４）を備えた基板（２０２）上に配置された音響共振器を製造する方法は、表面（２０４）に凹部（２０６）をエッチングする工程と、凹部（２０６）を犠牲材料で充填する工程と、エッチング孔（２２０）を備えた音響共振器を基板上に形成する工程と、その後犠牲材料を除去する工程とを含む。 - 特許庁

This electronic component mounting method comprises a first process of mounting a semiconductor element with a projecting connection electrode on the surface of a circuit board in a flip chip mounting manner by the use of a thermosetting adhesive agent and a second process of mounting an electronic component on the other surface of the circuit board through a reflow soldering method, and the first process is carried out before the second process.例文帳に追加

回路基板の一表面に、突起状の接続電極を有する半導体素子等を熱硬化性接着剤によりフリップチップ実装する第１の工程と、工程基板他表面にはんだリフロー法により電子部品を実装する第２の工程からなり、第１の工程を第２の工程より前に行うことを特徴とするものである。 - 特許庁

A substrate processing apparatus 1 comprises a first process liquid supply unit 6 which supplies a first process liquid onto the surface of a substrate W having a metal layer formed of a transition metal, and a second process liquid supply unit 7 which supplies a second process liquid, containing molecules having the adsorption characteristics for a transition metal, onto the surface of the substrate W.例文帳に追加

基板処理装置１は、遷移金属により形成された金属層を有する基板Ｗの表面に第１の処理液を供給する第１の処理液供給装置６と、基板Ｗの表面に遷移金属に対して吸着特性を有する分子を含む第２の処理液を供給する第２の処理液供給装置７とを備える。 - 特許庁

The method includes a second applying process of forming a film on the second surface, facing the first surface down, and applying a second liquid for deposition on the first surface by a pressure control type slit coater.例文帳に追加

第２の面上に膜を形成した後、第１の面を下に向け、第１の面上に、圧力制御型スリットコーターにより成膜用の第２の液体を付与する第２の付与工程を有する。 - 特許庁

The apparatus for the thermal processing of a substrate surface involves irradiating the substrate surface 32 with first and second images 150, 250 to process regions of the substrate surface 32 at a substantially uniform peak processing temperature along a scan path.例文帳に追加

通常基板表面３２を第１および第２像１５０，２５０で照射して基板表面３２の領域をスキャンパスに沿って実質的に均一なピーク処理温度で処理することを含む。 - 特許庁

To enhance the design properties of a resin molded product by smoothing the surface of the resin molded product and developing glossiness on the surface of the resin molded product without newly providing a surface coating process.例文帳に追加

表面コートのための工程を新たに設けることなく、表面を平滑化すると共に表面に光沢性を発現させ、意匠性を向上させた樹脂成形品の製造方法を提供する。 - 特許庁

A surface voxcel is determined from the isotropic data, a perpendicular vector for the surface in a center voxcel is determined by using a value of the adjacent voxcel and the surface is determined by repeating this process.例文帳に追加

この等方性データから表面ボクセルを決定し、その隣接のボクセルの値を用いて中央ボクセルでの表面に対する垂直ベクトルを決定し、このプロセスを繰り返して表面を決定する。 - 特許庁

To provide an apparatus and method for processing substrate surface which can uniformly carry out over the substrate surface the etching process for removing a film on the substrate surface by using a vapor containing an acid.例文帳に追加

酸を含む蒸気によって基板上の膜を除去するエッチング処理を、基板面内で均一に行うことができる基板表面処理装置および基板表面処理方法を提供する - 特許庁

To set the surface of the film on a substrate as the polishing surface and easily determine a polishing recipe to implement the predetermined polishing process when polishing a work on which the uneven surface is formed.例文帳に追加

基板に形成された膜の表面を被研磨面とし、被研磨面に凹凸が形成されているワークを研磨するに際し、その研磨レシピを容易に且つ所望の研磨加工が実施されるように決定する。 - 特許庁