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surface processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 9598件
The pallet further comprises a metallic plate-like base and an insulator formed by coating at least a surface of the base through a liquid phase process, the surface being formed with the holding section 12.例文帳に追加
金属製で板状の基材と、基材の、少なくとも保持部12を形成した面に液相法でコーティングされてなる絶縁材と、を備えてなる。 - 特許庁
The manufacturing process and the conductor strip arrangement are particularly suitable for the production of molded electronic components whose separation plane runs through that housing surface which serves as docking surface for a suction needle.例文帳に追加
電子部品の分離平面が、吸引針が係合するハウジングの表面を通過しているモールドされた電子部品の生産に特に好適である。 - 特許庁
In this process, the form of the second resin part 308a appears on the surface of the resin layer to form fine recesses and projections on the surface of the resin layer.例文帳に追加
このとき、第2樹脂部308aの形状が樹脂層表面に現れ、樹脂層の表面に微細な凹凸を形成することができる。 - 特許庁
This carrying device 6 is used in a surface treatment device 5 to carry substrate material A while surface-treating it in a manufacturing process for the substrate for circuits.例文帳に追加
この搬送装置6は、回路用基板の製造工程において、基板材Aを搬送しつつ表面処理する表面処理装置5で使用される。 - 特許庁
In the manufacturing method of a heat radiating fin, the surface of a heat-radiating fin 4 is pressurized in stamping which is a plastic process, so that the surface is deformed plastically, to form one or more recesses 42.例文帳に追加
塑性加工であるプレス加工によって放熱フィン4の表面に押圧加工し、塑性変形させて一つ以上の凹部42を形成する。 - 特許庁
In the vulcanization process the belt material wound round the outer peripheral surface 12O of the inside mold 12 is pressed against the inner peripheral surface 16I of the molding mold 16.例文帳に追加
加硫工程において、内金型12の外周面12Oに巻きつけられたベルト材料は、成形金型16の内周面16Iに押圧される。 - 特許庁
In the filling process, rough surfaces 13 of the respective slide cores 111, 112, 121 and 122 having prescribed surface roughness are brought into pressure contact with outer surface sides 7 of the butt parts 3a and 3b.例文帳に追加
前記充填工程において、各スライドコアの所定の表面粗さを有する粗面13と、衝合部3a、3bの外面側7とを圧接させている。 - 特許庁
In the press-fitting process, the housing 21 is contracted over the whole length, and the outside diameter surface of the stock 1A is pressed against the inside diameter surface of the housing 21.例文帳に追加
圧入工程において、ハウジング21を全長にわたって縮径させるとともに、素材1Aの外径面をハウジング21の内径面に圧着させる。 - 特許庁
The reference flat surface 71 is formed with more intrusion in the thickness direction of the package 3 than the pad 5 by polishing the front surface of the ceramic layer 7 for polishing process.例文帳に追加
研磨用セラミック層7の表面を研磨してパッド5よりもパッケージ本体3の厚さ方向へ突出する基準平面71を形成する。 - 特許庁
To provide a surface strengthening method which can strengthen a surface of wooden material with high uniformity, by a simple process with no need for massive fixtures.例文帳に追加
作業が簡単で大がかりな設備を必要とせず、木質材料の表面を均一性高く、強化できる表面強化方法を提供する。 - 特許庁
The Vickers hardness of the container 21 is 40 MHV or less and the surface shape of rough inner surface is formed by machining process.例文帳に追加
容器21のビッカース硬度が40MHV以下であるとともに、粗面化された内表面の表面形状は、機械加工により形成されている。 - 特許庁
To pre-condition a sputtering target prior to use of the target in a sputtering process by removing a damaged surface layer of a sputtering surface of the target.例文帳に追加
スパッタリング処理において、ターゲットのスパッタリング表面の損傷表面層を除去することでスパッタリングターゲットをその使用前に前調整する。 - 特許庁
In the second process, the residual compressive stress is imparted to the outer surface by shot-peening the outer surface portions 31a, 31b, 36a and 36b of the work 10.例文帳に追加
第2工程では、ワーク10の外面部分31a、31b、32a及び32bをショットピーニングすることにより、外面に残留圧縮応力を付与する。 - 特許庁
In a cleaning process B3, solution containing the cleaning active species is supplied to the surface of the substrate to be cleaned, thus cleaning the substrate surface.例文帳に追加
洗浄工程B3で、洗浄活性種を含んだ溶液を被洗浄物である基板の表面に供給することによって基板表面を洗浄する。 - 特許庁
Through cold rolling process to form the outer member 32, its outer surface is also deformed, and a corresponding profile similar to an inner surface is formed.例文帳に追加
外側部材を形成する冷間圧延処理によって、その外表面も変形されて、内表面に類似した対応する輪郭が形成される。 - 特許庁
To provide a polyamide composition having heat resistance of withstanding an SMT (surface mount technology) process and capable of giving a molded product which has high whiteness and high surface reflectivity.例文帳に追加
SMTプロセスに耐える耐熱性を有し、白色度が高く、表面反射率が高い成形品を与えるポリアミド組成物を提供すること。 - 特許庁
To provide a process for producing a microporous or ultrafilter membrane formed from a hydrophobic support having a hydrophilic surface containing a membrane porous surface.例文帳に追加
膜細孔表面を含む親水性表面を有する疎水性支持体から形成した微孔質或は限外濾過膜の製造方法を提供する。 - 特許庁
The production process of a laminated body 15 comprises laminating a vinylidene fluoride based oligomer layer on a substrate surface by traction transferring the vinylidene fluoride based oligomer on a surface of a substrate 12.例文帳に追加
基板表面にビニリデンフルオライド系オリゴマーを摩擦転写することによって、ビニリデンフルオライド系オリゴマー層を前記基板表面に積層させる。 - 特許庁
The method of manufacturing a camshaft having a cam lobe includes a grinding process to grind the cam surface by sliding an abrasive on the cam surface of the cam lobe.例文帳に追加
カムロブを有するカムシャフトを製造する製造方法であって、カムロブのカム面に研磨材を摺動させてカム面を研磨する研磨工程を有している。 - 特許庁
The hydrophobic particulates and large surface area electrically conductive particulates are desirably fixed so as to be dispersed over the surface of the electrode base material by a composite plating process.例文帳に追加
疎水性微粒子および大表面積導電性微粒子は、複合めっき法により電極基材の表面に分散して固定するのが望ましい。 - 特許庁
In the process of forming the laminate, an ozone-containing gas is blown on the surface of a polypropylene film layer in a molten state to form an additional layer on the surface.例文帳に追加
また、積層体の形成において溶融状態にあるポリプロピレンフィルム層の表面にオゾン含有ガスを吹き付けて、該吹き付け面に他の層を積層する。 - 特許庁
The metallic foil 9 has on its surface an oxide formed by oxidation process, the oxide being formed to have the harmonic surface roughness.例文帳に追加
また、金属箔9は、酸化処理によって形成される酸化物をその表面に有し、その酸化物は高調波の面粗さを持つように形成する。 - 特許庁
In vulcanized molding process of rubber, the structure of a mesh sheet 2 is transcribed into a surface of a rubber composition 3 to form the high water repellent structure on the surface of the vulcanized rubber.例文帳に追加
ゴムの加硫成形工程において、メッシュシート2の構造をゴム組成物3の表面へ転写し、加硫ゴム表面に高撥水構造を形成する。 - 特許庁
In the finishing process, the spherical surface of the roughly shaped article is pressed to the spherical surface having radium of curvature at the time of completion, and press-molded so as to be shaped.例文帳に追加
仕上げ工程では、前記荒成形品の前記球面を完成時の曲率半径の球面に押し付けて形状を整えるようにプレス成形する。 - 特許庁
At a time when the surface of the substrate Wf comes into a state without contact with the external air, the surface of the substrate Wf is processed with process liquid supplied therewith.例文帳に追加
基板表面Wfが外気と接触しない状態になった時点で、基板表面Wfに対して処理液を供給して処理を行う。 - 特許庁
To simplify a production process and to obtain a beautiful mirror surface of high quality hard to generate a surface damage in the production of a decorative panel.例文帳に追加
製造工程を簡略化し、表面傷が発生し難く、高品質の美しい鏡面を得ることを可能とした化粧板の製造方法を提供する。 - 特許庁
The hydraulic transfer process includes (B1) a process to prepare the transfer sheet with the decorative layer of a specific curable resin, (B2) an activation process for the decorative layer and (B3) a hydraulic pressure application process to press the object M to which an image is transferred to the transfer sheet on a water surface in the order cited.例文帳に追加
水圧転写工程は、(B1)特定の硬化性樹脂の装飾層を持つ転写シートを用意する工程、(B2)装飾層の活性化工程、(B3)水面上の転写シートに被転写体を押圧する水圧印加工程をこの順に含む。 - 特許庁
A manufacturing process for the wire type cutting tool comprises a process (A) wherein its surface is coated with the adhesive 3; a process (C) wherein very fine grinding grains 2 are adhered to a state that the adhesive 2 is applied; and a process (C) wherein irradiation with ultraviolet rays is effected.例文帳に追加
このようなワイヤ式の切削工具の製造工程を、その表面に接着剤を塗布する工程(A)と、この接着剤の塗布された状態のところに微細砥粒を付着させる工程(B)と、紫外線等を照射する工程(C)と、からなるようにする。 - 特許庁
The method comprises a process for forming a gradient concentration type SiGe film having concentration inclination of Ge on a substrate whose surface is formed of silicon, a process for forming a cap semiconductor film on the gradient concentration type SiGe film, a process for performing ion implantation for the substrate and a process for annealing the substrate.例文帳に追加
表面がシリコンからなる基板上にGeの濃度勾配をもつ傾斜濃度型SiGe膜を形成する工程と、傾斜濃度型SiGe膜上にキャップ半導体膜を形成する工程と、基板にイオン注入する工程と、基板をアニールする工程を備える。 - 特許庁
To shorten the term of joint treatment work by carrying out surface preparation for plates butted in the first process, filling putty into a V-cut in the second process, and pasting a nonwoven fabric sheet plate with many holes in the third process.例文帳に追加
目地処理用のファイバーテープがメッシュ状で、また厚いので、下付けパテを塗布した後更に上付けパテを2,3回塗布しなければパテの表面が周囲と段差無くなじんだ状態とならず、工期が長時間かかる。 - 特許庁
To prevent generation of excess or deficiency of process in an end part of a processed subject in the width direction and that in the moving direction, and to enhance the uniformity of the process, in an apparatus that moves the processed subject by a roller conveyer to carry out a surface process.例文帳に追加
被処理物をローラコンベアで移動させて表面処理する装置において、被処理物の幅方向の端部及び移動方向の端部の処理の過不足が生じるのを防止し、処理の均一性を高める。 - 特許庁
A reinforcement 25 is connected to the end part of the anchor sleeve 18 exposed to the surface of the concrete 24 placed in the posterior process or precast process, to arrange reinforcements, and then concrete in a posterior-process is placed.例文帳に追加
その先工程あるいはプレキャスト工程で打設されたコンクリート24の表面に露出した前記定着用スリーブ18の端部に対して鉄筋25を接続して配筋をしたうえ、後工程のコンクリートを打設する。 - 特許庁
The quality of the raw water is measured with a water-quality measuring means 7 in a membrane filtration process, a pollution load on a membrane surface is calculated with an arithmetic means 8, and the process proceeds to a backwashing process with the pollution load as a parameter.例文帳に追加
膜ろ過運転工程中に原水の水質を水質測定手段7により測定し、演算手段8により膜面への汚濁負荷を演算し、その汚濁負荷をパラメータとして逆洗工程に移行する。 - 特許庁
The method further includes a process of doping a channel region 124 disposed under the bottom surface of each of the concave portions 118, a process of depositing an electrode material 126 on each of the concave portions 118, and a process of forming source/drain regions.例文帳に追加
さらに、凹部118底面下に配されたチャンネル領域124をドープする工程と、凹部118にゲート電極材料126を堆積する工程とソース/ドレイン領域を形成する工程とを含む。 - 特許庁
Additionally, the polishing rate is recovered by a mechanical polishing process, a chemical polishing process or an electric polishing process applied on a surface of the electrolytic polishing pad 3 in case of detecting lowering of the polishing rate.例文帳に追加
そして、研磨レートの低下を検知した場合には、その電解研磨パッド3の表面に対して施す機械的研磨処理、化学的研磨処理または電気的研磨処理によって、研磨レートを回復させる。 - 特許庁
The method has a first process of allowing a reducing agent for electroless gold plating to act on the silicon surface and a second process of forming the electroless gold plating film after the first process.例文帳に追加
上記のごとく従来は金めっき膜を形成するために前処理として銅又はニッケルなどの金属膜を形成し、その上に金めっき膜を形成するのみであり工程がかかり単価上昇につながる。 - 特許庁
The solar cell is formed by combining two or more processes of a process for roughening the surface of silicon having p-type conductivity and n-type conductivity, a process for forming openings having polygon shapes, and a process for forming a porous layer.例文帳に追加
p型及びn型を有するシリコンの表面を粗化する工程と、多角形を有する孔を作成する工程と多孔質層を形成する工程とを2工程以上を組み合わせて作成された太陽電池。 - 特許庁
A process for manufacturing the force detection sensor includes: a recess formation process for forming the recess on the pressure reception surface 13a of a material 13 that becomes a diaphragm; and a projection completion process for completing the projection inside the formed recess.例文帳に追加
力検知センサの製造する工程では、ダイアフラムとなる素材13の受圧面13aに凹部を形成する凹部形成工程と、形成された凹部の内部に凸部を完成させる凸部完成工程を備えている。 - 特許庁
This film forming method has a process (a) of discharging a liquid droplet 70 on a substrate 48, a process (b) of eliminating the temperature difference of the surface of the liquid droplet 70 and a process (c) of forming a dry film 75 to the peripheral edge part of the liquid droplet 70.例文帳に追加
(a)基板48上に液滴70を吐出する工程と、(b)液滴70の表面の温度差を解消する工程と、(c)液滴70の周縁部に乾燥膜75を形成する工程とを有する。 - 特許庁
This manufacturing method includes: a coating process for coating a nucleus material surface gasified by heating with a film containing a powder-like lithium ion storage member; and a heating process for gasifying the nucleus material after the coating process.例文帳に追加
また、製造方法は、加熱によりガス化する核材表面に、粉状のリチウムイオン吸蔵部材を含有する膜を被覆する被覆工程と、被覆工程の後に核材をガス化させる加熱工程とを有する。 - 特許庁
The manufacturing method comprises a process of forming a nitride film 13 on the surface of a semiconductor substrate 11, a process of forming an oxide film 14 on the nitride film 13, and a process of forming a transfer gate electrode 18 on the oxide film 14.例文帳に追加
半導体基板11の表面上に窒化膜13を形成する工程と、窒化膜13上に酸化膜14を形成する工程と、酸化膜14上に転送ゲート電極18を形成する工程とを含む。 - 特許庁
The coating process consists of a process for coating the surface of the base material with a membrane of amorphous titania and a process for heating the membrane to temp. equal to or lower than the softening point of the base material to convert amorphous titania to crystalline titania.例文帳に追加
この被覆工程は:(a)該表面を無定形チタニアの薄膜で被覆する工程と;(b)該薄膜を基材の軟化点以下の温度に加熱して無定形チタニアを結晶性チタニアに変換する工程;からなる。 - 特許庁
The process of the molecule imprinting method includes a process of pressing the surface of a template 200 of molecule imprinting having a plurality of grooves to the polymeric film 212 and a process of removing the template of the molecule imprinting.例文帳に追加
分子インプリンティング法の工程は、複数の溝を有する分子インプリンティングの型板200の表面を高分子フィルム212に押圧する工程と、前記分子インプリンティングの型板を除去する工程を含む。 - 特許庁
The spool cut in a cutting process 1 is polished in a polish process 2 and soaked in an electrolytic solution to be given anodizing processing in an anodizing filming process 3 so as to form a porous anodizing film on the surface of the spool.例文帳に追加
切削工程1で切削加工したスプールを研磨工程2で研磨し、陽極酸化被膜工程3で電解液に浸漬して陽極酸化処理し、スプール表面に多孔性の陽極酸化被膜を形成する。 - 特許庁
The film-forming method includes a process for film-forming the Ti film on a substrate to be treated (STEP 2), a process for oxidizing the surface of the Ti film (STEP 3), and a process for film-forming the TiN film on it by the CVD (STEP 5).例文帳に追加
被処理基板にTi膜を成膜する工程(STEP2)と、Ti膜の表面を酸化させる工程(STEP3)と、その上にCVDによりTiN膜を成膜する工程(STEP5)とを具備する。 - 特許庁
The method for manufacturing a glass substrate includes an end surface polishing process for polishing an end surface of the substrate for a magnetic disk, formed annular and having the end surface, and polishes the end surface of the substrate for a magnetic disk by making a polishing wheel traverse with a predetermined moving amount to drive the polishing wheel in the end surface polishing process.例文帳に追加
本発明のガラス基板の製造方法は、円環状に形成され、端面を有する磁気ディスク用基板の端面を研磨する端面研磨工程を有し、前記端面研磨工程においては、予め決められた移動量で研磨砥石をトラバースさせて駆動することにより、前記磁気ディスク用基板の前記端面を研磨することを特徴とする。 - 特許庁
The working method comprises a process for machining a prepared hole 18 reaching a second surface 12b by irradiating the first surface 12a of a silicon substrate 12 with a laser beam, and a process for shaping the inner surface of the prepared hole 18 by butting the working shaft 20 of an ultrasonic machine to the prepared hole 18.例文帳に追加
シリコン基板12の第1の面12aにレーザビームを照射して、第2の面12bに達する下穴18を形成する工程と、下穴18に超音波加工機の加工軸20を当接させて、当該下穴18の内面を整形する工程とを備えた加工方法。 - 特許庁
The method has a process of grounding a part of the to-be-coated surface of an insulating base material 1 having a surface resistivity of ≥10^9 Ω and a process of coating the to-be-coated surface electrostatically with a conductive coating 20.例文帳に追加
表面固有抵抗値が10^9Ω以上の電気絶縁性基材1の被塗装面の一部を接地する工程と、該被塗装面に対して導電性塗料20を静電塗装する工程とを含むことを特徴とする電気絶縁性基材の静電塗装方法。 - 特許庁
Concave-convex portions are formed on the surface of a substrate by performing a process of partly forming masks on the surface of the substrate, and a process of forming concave portions by applying etching removal to the portions not covered by the mask on the surface of the substrate, in this order.例文帳に追加
基板の表面に部分的にマスクを形成する工程と、ドライエッチング法を用いて前記基板の表面の前記マスクに覆われていない部分をエッチング除去して凹部を形成する工程とを、この順に行うことにより、基板の表面に凹凸部を設ける。 - 特許庁
A method for producing an alpha-alumina-formed member on a surface of a base material comprises (1) a process for forming an alumina layer of an alpha-type crystal structure on at least a partial surface of the base material; and (2) a process for performing an ion bombardment treatment to the surface of the resulting alumina layer.例文帳に追加
基材表面にαアルミナ層が形成された部材を製造する方法であって、(1)基材の少なくとも一部の面に、α型結晶構造のアルミナ層を形成する工程、(2)得られたアルミナ層の表面にイオンボンバード処理を施す工程、を含む。 - 特許庁
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