「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

The principal surface of the glass substrate is subjected to a dry wipe treatment by using a tape after being subjected to a grinding process where texture is formed in the main surface of the glass substrate.例文帳に追加

ガラス基板の主表面上にテクスチャーを付与する研磨加工を行った後に、ガラス基板の主表面をテープを用いて乾式でワイプ処理する。 - 特許庁

The pallet further comprises a metallic plate-like base and an insulator formed by coating at least a surface of the base through a liquid phase process, the surface being formed with the holding section 12.例文帳に追加

金属製で板状の基材と、基材の、少なくとも保持部１２を形成した面に液相法でコーティングされてなる絶縁材と、を備えてなる。 - 特許庁

The manufacturing process and the conductor strip arrangement are particularly suitable for the production of molded electronic components whose separation plane runs through that housing surface which serves as docking surface for a suction needle.例文帳に追加

電子部品の分離平面が、吸引針が係合するハウジングの表面を通過しているモールドされた電子部品の生産に特に好適である。 - 特許庁

In the process (c), electroplating is conducted while irradiating the substrate surface of the semiconductor substrate 101 with a light from a direction from 70° to 90° to the substrate surface.例文帳に追加

工程（ｃ）では、半導体基板１０１の基板面に対して７０度以上９０度以下の方向から光を照射しながら、電解めっきを行う。 - 特許庁

To provide a printed circuit board manufacturing method having an electroless copper plating process capable of preventing generation of voids in a wall surface of a through hole by modifying the surface of filler substance.例文帳に追加

フィラー物質の表面を改質し、スルーホール壁面にボイドが生じない無電解銅メッキプロセスを持つプリント基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

This method is applicable for measuring a surface temperature of a substrate surface not irradiated directly with the light, when the substrate is arranged in midair in the oxidation process system.例文帳に追加

前記酸化プロセス系内では基板を中空に配置させると、光が直接当たらない基板表面の表面温度測定に適用できる。 - 特許庁

Then, the forming process is performed while abutting the end surface in the axial direction of this projecting part 28, with a bottom surface 23 in a hole 15 for forming, arranged in a die 10.例文帳に追加

そして、成形工程を、この突部２８の軸方向端面を、ダイ１０に設けられた成形用孔１５の底面２３に当接させつつ行なう。 - 特許庁

The substrate surface f1 at a light receiving section 5 is dug lower than the substrate surface f2 under a transfer electrode 21 by a process for forming and removing a sacrifice oxide film.例文帳に追加

犠牲酸化膜の形成および除去工程により、受光部５における基板面ｆ１を、転送電極２１下の基板面ｆ２よりも掘り下げる。 - 特許庁

In this process, the projecting curved surface 11a formed on one end surface of the brick 11 is placed so as to be opposite to the rotationally flowing molten steel.例文帳に追加

その際、煉瓦１１の一方端面に形成した凸状曲面１１ａが、前記溶融金属の回転流れと対向するように施工する。 - 特許庁

Subsequently, the front surface and the rear surface of the silicon carbide single crystal substrate 50 are pressurized with predetermined pressure for a predetermined time in a pressurizing process S2.例文帳に追加

続いて、加圧工程Ｓ２において、炭化ケイ素単結晶基板５０の表面及び裏面を所定の圧力で所定の期間にわたり加圧する。 - 特許庁

In the supporting area forming process the inner surface of the supporting area 347 is formed with a radius of curvature smaller than the semicircular arching surface 321 of the magnet 320.例文帳に追加

支持領域形成工程において、支持領域３４７の内面がマグネット３２０の曲突面３２１よりも小さい曲率半径で形成される。 - 特許庁

The foreign substance removing apparatus is provided with a foreign substance scraping belt having a scraping surface being in contact with the surface of the drum part of the process roll along the longitudinal direction of the roll drum.例文帳に追加

プロセスロールの胴部表面に、ロール胴長方向に沿ってその掻き取り面を接触させた異物掻き取りベルトを具備してなる異物除去装置。 - 特許庁

This electrochemical machining process comprises disposing an electrode with insulating dielectric portions (22) and non-insulating portions (24) in opposition to the cooling surface, passing an electrolyte between the cooling surface and electrode, and applying an electrical current between the electrode and a shroud.例文帳に追加

このことを達成するために、絶縁誘電部分（２２）及び非絶縁部分（２４）を備える電極が、冷却面に対向して配置される。 - 特許庁

To decorate the surface of a frame embracing the periphery of the print surface of a positive image without considerably modifying a conventional instant film manufacturing process.例文帳に追加

従来のインスタントフイルムの製造工程をほとんど変更することなく、ポジ画像のプリント面の周囲を取り囲んでいるフレームの表面に装飾を施す - 特許庁

Then, an outer side upper surface 43d of the process cup 40 is washed with the cleaning liquid dispersed from the holding surface 21a of the rotating spin base 21.例文帳に追加

そして、回転するスピンベース２１の保持面２１ａから飛散した洗浄液によって処理カップ４０の外側上面４３ｄを洗浄する。 - 特許庁

The liquid honing method is provided to process the surface of the workpiece 20 by spraying a honing liquid 10 including abrasive particles to the surface of the workpiece 20.例文帳に追加

被加工物２０の表面に対し砥粒を含むホーニング液１０を吹き付けることにより、被加工物表面を加工する液体ホーニング加工方法である。 - 特許庁

To provide a golf ball in which, in the process of grinding the entire ball surface after molding, the size of the dimples is maintained and the designed surface occupation ratio thereof is achieved.例文帳に追加

成形後の球面研磨工程において、ディンプルの大きさを維持でき、設計した表面占有率を実現できるゴルフボールを提供する。 - 特許庁

To provide a friction welding method including a process for providing a first workpiece having a first weld surface and a second workpiece having a second weld surface.例文帳に追加

第１溶接面を持つ第１加工物及び第２溶接面を持つ第２加工物を提供する工程を含む、摩擦溶接方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the occurrence of a unevenness, that is, nonuniformity of polishing on a polishing surface of a glass substrate after polishing in a single-side polishing process for polishing a surface of the glass substrate.例文帳に追加

ガラス基板の表面を研磨する片面研磨工程において、研磨後のガラス基板の研磨面に凹凸、即ち研磨ムラが発生することを防止する。 - 特許庁

This carrying device 6 is used in a surface treatment device 5 to carry substrate material A while surface-treating it in a manufacturing process for the substrate for circuits.例文帳に追加

この搬送装置６は、回路用基板の製造工程において、基板材Ａを搬送しつつ表面処理する表面処理装置５で使用される。 - 特許庁

In this process, the form of the second resin part 308a appears on the surface of the resin layer to form fine recesses and projections on the surface of the resin layer.例文帳に追加

このとき、第２樹脂部３０８ａの形状が樹脂層表面に現れ、樹脂層の表面に微細な凹凸を形成することができる。 - 特許庁

In the manufacturing method of a heat radiating fin, the surface of a heat-radiating fin 4 is pressurized in stamping which is a plastic process, so that the surface is deformed plastically, to form one or more recesses 42.例文帳に追加

塑性加工であるプレス加工によって放熱フィン４の表面に押圧加工し、塑性変形させて一つ以上の凹部４２を形成する。 - 特許庁

To pre-condition a sputtering target prior to use of the target in a sputtering process by removing a damaged surface layer of a sputtering surface of the target.例文帳に追加

スパッタリング処理において、ターゲットのスパッタリング表面の損傷表面層を除去することでスパッタリングターゲットをその使用前に前調整する。 - 特許庁

The test sample electrode 30 has a first surface contacting with a process flow and a second surface contacting with an electrolyte retained in a sealing fluid reservoir.例文帳に追加

この試験標本電極３０は、プロセス流れと接触する第１の面、及び密封液溜めに保持される電解液と接触する第２の面を有する。 - 特許庁

A part between the floor surface 90 and a peripheral edge part 10a of the Western-style toilet bowl body 3 abutting on the floor surface 90, is sealed in a second process.例文帳に追加

そして、第２工程において、床面９０に当接する洋風便器本体３の周縁部１０ａと床面９０との間を封止する。 - 特許庁

In the cleaning process, the surface of the core rod 1 is cleaned by polishing the surface of the core rod 1 by irradiating it with a laser by using a laser oscillator 3.例文帳に追加

清浄化工程では、レーザ発振器３によってコアロッド１にレーザを照射することにより、コアロッド１の表面を研磨して清浄化する。 - 特許庁

Next, in a second process, a geogrid 5 having a predetermined tensile strength characteristic is laid on an excavation surface (an upper surface) 8 of the bank body 2 of lacking this upper part.例文帳に追加

次に、第２の工程で、この上部が欠落した堤体２の掘削面（上面）８に所定の引張強度特性を有するジオグリッド５を敷設する。 - 特許庁

In the vulcanization process the belt material wound round the outer peripheral surface 12O of the inside mold 12 is pressed against the inner peripheral surface 16I of the molding mold 16.例文帳に追加

加硫工程において、内金型１２の外周面１２Ｏに巻きつけられたベルト材料は、成形金型１６の内周面１６Ｉに押圧される。 - 特許庁

To provide a surface strengthening method which can strengthen a surface of wooden material with high uniformity, by a simple process with no need for massive fixtures.例文帳に追加

作業が簡単で大がかりな設備を必要とせず、木質材料の表面を均一性高く、強化できる表面強化方法を提供する。 - 特許庁

In the filling process, rough surfaces 13 of the respective slide cores 111, 112, 121 and 122 having prescribed surface roughness are brought into pressure contact with outer surface sides 7 of the butt parts 3a and 3b.例文帳に追加

前記充填工程において、各スライドコアの所定の表面粗さを有する粗面１３と、衝合部３ａ、３ｂの外面側７とを圧接させている。 - 特許庁

In the press-fitting process, the housing 21 is contracted over the whole length, and the outside diameter surface of the stock 1A is pressed against the inside diameter surface of the housing 21.例文帳に追加

圧入工程において、ハウジング２１を全長にわたって縮径させるとともに、素材１Ａの外径面をハウジング２１の内径面に圧着させる。 - 特許庁

The reference flat surface 71 is formed with more intrusion in the thickness direction of the package 3 than the pad 5 by polishing the front surface of the ceramic layer 7 for polishing process.例文帳に追加

研磨用セラミック層７の表面を研磨してパッド５よりもパッケージ本体３の厚さ方向へ突出する基準平面７１を形成する。 - 特許庁

When the page is not blank (S1, N), image data on the rear surface page is outputted to an electrophotographic process unit to form a rear surface image of the original page (S2).例文帳に追加

白紙でないと判断するときは（Ｓ１，Ｎ）、裏面ページの画像データを電子写真プロセスユニットに出力し、原稿ページの裏面画像を形成する（Ｓ２）。 - 特許庁

The process of ashing the surface of the target material is to remove various reaction products generated in the plasma chamber and sticking on the surface of the target material.例文帳に追加

ターゲット材の表面のアッシング工程は、プラズマチャンバ内で生成され、かつターゲット材の表面に付着した各種反応生成物の除去を目的とする。 - 特許庁

To provide an image forming method capable of preventing the occurrence of a void phenomenon in images on a first surface and second surface of a transfer material undergoing a fixing process.例文帳に追加

定着工程を経た転写材における第１面および第２面での画像中抜け現象の発生を防止できる画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a hydrophilic composition which is used as a coating agent to render the surface of a material for medical equipment hydrophilicity and a hydrophilic material having a layer composed of the hydrophilic composition on the surface of the material and its manufacturing process.例文帳に追加

医療機器用基材表面に親水性を付与するコート剤として用いることのできる親水性組成物を提供する。 - 特許庁

To improve the workability in the process of surface treating a resin molded article by surely removing dust on the surface of the resin molded article while saving the time and labor.例文帳に追加

樹脂成形品の表面上の塵を手間をかけずに確実に除去することにより樹脂成形品の表面処理の際の作業性を向上させる。 - 特許庁

In the tube part surface polishing process, the surface of the bulb part 30 is polished by using a small polishing tool 700 with a buff arranged at a tip thereof.例文帳に追加

管球部表面磨き工程においては、先端にバフが配設された小型の研磨具７００を用いて管球部３０の表面を磨くこととしている。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor device has a process for mounting an electrode terminal in a case of the semiconductor device so as to contact with the rear surface of a wire-bonding surface of the electrode terminal with its case.例文帳に追加

電極端子のワイヤボンディング面の裏面が半導体装置のケースと接するように、該電極端子を該ケースに装着する工程を備える。 - 特許庁

To provide a surface flaw detecting method stably detecting a surface flaw with good detectability even in a hot rolling process.例文帳に追加

熱間圧延プロセスにおいても、表面欠陥をより安定にかつ検出能よく検出することができる表面欠陥の検出方法を提供する。 - 特許庁

To provide a cerium-based abrasive which offers a good-quality polishing surface having high polishing speed, less occurrence of a flaw and small surface roughness, and a manufacturing method of a cerium-based abrasive which materializes a manufacturing with a simple process and at low cost.例文帳に追加

研磨速度が速く、キズの発生が少なく、表面粗さの小さい、品質良好な研磨面が得られるセリウム系研磨材を提供する。 - 特許庁

To easily perform a curved-surface generating process and to freely generate various curved surface complying with requests.例文帳に追加

曲面発生処理を容易に実行でき、しかも、様々な曲面に関しても自由に、且つ、要求に適合した曲面を発生できるようにすること。 - 特許庁

In the inspecting piece extracting process, the inspecting piece 11, with which a part of the surface is formed as the inspecting surface 11A, is cut off from molten metal solidified in a runner section near a gate.例文帳に追加

検査片抽出工程では、ゲート近傍のランナー部内で凝固した溶湯から、表面の一部が検査面１１Ａをなす検査片１１を切出す。 - 特許庁

This surface treatment process involves coating the cut surface of a ceramic building material, which is produced by forming a mix consisting of cement, silica, aggregate, reinforcing fiber, etc. into a formed body and hardened with colloidal silica used as a sealer.例文帳に追加

セメント、シリカ、骨材及び補強繊維等から成形され硬化された窯業系建材の加工面に、コロイダルシリカをシーラとして塗布する。 - 特許庁

Each board joining part 32 and 42 is subjected to a grinding process or surface roughening, having the maximum surface roughness of 0.1 μm or more to 500 μm or less.例文帳に追加

基板接合部３２，４２には研磨加工あるいは粗面加工がされており、最大表面粗さは０．１μｍ以上５００μｍ以下となっている。 - 特許庁