| 意味 | 例文 |
thin layer methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2066件
An existing active Raney metal formes a thin layer on an appropriate support and in this case the layer is produced by a thermal spraying method and a cold gas spraying method.例文帳に追加
存在している活性のラネー金属が適当な支持体上に薄層を有することであり、この場合この層は、溶射法および冷間ガス溶射法によって製造される。 - 特許庁
To obtain a method for manufacturing a lithographic printing plate capable of rapidly coating an overcoating layer without damaging a photosensitive layer, coating a thin layer, coating in a different width, rapidly coating the photosensitive layer or a heat sensitive layer by reducing an amount of an oxygen dissolved from the air, coating the thin layer and coating in the different width.例文帳に追加
感光層を損傷させることなくオーバーコート層を高速塗布、薄層塗布及び異幅塗布可能であり、しかも、空気中から溶存してくる酸素の量を少なくして、且つ感光層又は感熱層を高速塗布、薄層塗布及び異幅塗布可能な平版印刷版製造方法を得る。 - 特許庁
There are provided the thin film transistor including: a primary buffer layer formed of an amorphous silicon film located on a substrate; a secondary buffer layer located on the primary buffer layer; a semiconductor layer located on the secondary buffer layer; and a gate electrode located on the semiconductor layer, and the method of manufacturing the thin film transistor.例文帳に追加
基板上に設けられた非晶質シリコン膜で形成された第1バッファ層と、前記第1バッファ層上に設けられた第2バッファ層と、前記第2バッファ層上に設けられた半導体層と、前記半導体層上に設けられたゲート電極と、を含む薄膜トランジスタとその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a thin film semiconductor device manufacturing method capable of efficiently manufacturing the thin film semiconductor device reduced in varieties of the number or the grain size of crystal in each electrode, compared with the thin film semiconductor device produced by a conventional manufacturing method, and whose interface between a crystal semiconductor thin film layer and an insulation film layer is smooth.例文帳に追加
従来の製造方法による薄膜半導体装置よりも、単位電極毎の結晶粒の数や粒径のばらつきが少なく、かつ結晶半導体薄膜層と絶縁膜層との界面が平滑な薄膜半導体装置を、効率的に製造することのできる薄膜半導体装置製造方法を提供すること。 - 特許庁
Provided are the manufacturing method of organic thin film characterized by polymerizing an ionic liquid monomer in vacuum to form the film; and the laminated body 1 characterized by lamination of the organic thin film 13 obtained by such a method and inorganic thin film layers (a first inorganic thin film layer 12 and a second inorganic film layer 14).例文帳に追加
真空中でイオン液体モノマーを重合させて成膜することを特徴とする有機薄膜の製造方法;かかる製造方法で得られた有機薄膜層13と、無機薄膜層(第一の無機薄膜層12及び第二の無機薄膜層14)とが積層されたことを特徴とする積層体1。 - 特許庁
To measure accurately the temperature of a substrate having a plurality of layers even if a thin film layer causing multiple interference exists, concerning a temperature measuring method of the substrate.例文帳に追加
多重干渉を引き起こす薄膜層があっても,複数層基板の温度を正確に測定する。 - 特許庁
The magnetic recording medium 300 has a data-recording thin layer 306 formed by a sputtering method with the use of the sputter target.例文帳に追加
磁気記録媒体300は、このスパッタターゲットでスパッタリング形成したデータ記録薄膜層306を有する。 - 特許庁
To provide a method and a device for measuring layer thickness of thin film in large surface area.例文帳に追加
大面積の測定したい表面の薄膜層の厚さを測定する方法およびデバイスを提供すること。 - 特許庁
To provide a method for producing a thin film with high surface smoothness by wet process while avoiding dissolution of a lower layer.例文帳に追加
下層の溶解を回避しつつ、表面平滑性の高い薄膜を、ウェットプロセスで作製可能な方法の提供。 - 特許庁
To provide a thin-film solar cell high in reflectivity and excelling in junction of a layer system, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加
反射率が高く、層システムの接合が良好な薄膜太陽電池およびその製造方法の提供。 - 特許庁
To easily and surely form a thin Sn-Ag alloy layer with a uniform structure without depending on an electroplating method.例文帳に追加
電気めっき法によらずに、均一組織で薄膜のSn−Ag合金層を容易かつ確実に形成する。 - 特許庁
Further, the thin covering layer uniform in thickness can be formed since a vapor phase method is used in the invention.例文帳に追加
しかも、本発明では気相法を用いるため、薄くかつ厚さの均一な被覆層を形成することができる。 - 特許庁
VACUUM DEPOSITION METHOD OF MULTI-LAYER THIN FILM FOR PLASTIC OPTICAL COMPONENT AND PHOTOGRAPHING ELEMENT HAVING THE PLASTIC OPTICAL COMPONENT例文帳に追加
樹脂製光学素子用多層薄膜真空蒸着方法とその樹脂製光学素子を持つ撮影素子 - 特許庁
To provide a method of forming a strip-like single-layer graphite thin film having an edge structure set in good order in an atomic scale.例文帳に追加
原子スケールで整った端構造を持つ短冊状の単層グラファイト薄膜の形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for forming a thin oxide film of alumina, or the like, in a short time without oxidizing the underlying layer.例文帳に追加
下地層を酸化することなく薄いアルミナ等の酸化膜を短時間で形成する方法を提供する。 - 特許庁
MICROARRAY SUBSTRATE AND MICROARRAY HAVING PATTERNIZED THIN FILM LAYER, AND MANUFACTURING METHOD FOR MICROARRAY SUBSTRATE AND MICROARRAY例文帳に追加
パターン化された薄膜層を有するマイクロアレイ基板及びマイクロアレイ、該マイクロアレイ基板及びマイクロアレイを製造する方法 - 特許庁
GAIN IMPROVED HETEROJUNCTION BIPOLAR TRANSISTOR USING THIN GALLIUM ARSENIDE ANTIMONY LAYER FOR BASE, AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
薄いガリウム砒素アンチモン層をベースに用いた利得向上型ヘテロ接合バイポーラトランジスタ及びその製造方法 - 特許庁
To provide a coating method by which a extremely thin coating layer is uniformly formed without causing coating unevenness.例文帳に追加
極薄の塗布層を、塗布ムラを発生することなく均一に形成することのできる塗布方法を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a thin film solar cell capable of suppressing film drop of a photoelectric conversion layer.例文帳に追加
光電変換層の膜剥れを抑制することができる薄膜太陽電池の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a thin-film magnetic head capable of stabilizing the magnetization direction of a hard bias layer.例文帳に追加
ハードバイアス層の磁化方向を安定させることができる薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供すること。 - 特許庁
METHOD OF OBTAINING REVERSIBLE RESISTANCE SWITCH ON PCMO THIN FILM WHEN INTEGRATED WITH HIGHLY CRYSTALLIZED SEED LAYER例文帳に追加
高度結晶化シード層と一体化される場合にPCMO薄膜上に可逆性抵抗スイッチを得る方法 - 特許庁
To provide a manufacturing method of an optical recording medium capable of forming a thin cover layer covering a recording reflecting film to desired thickness.例文帳に追加
記録反射膜を覆う薄いカバー層を所望の厚さに形成できる光学記録媒体の製造方法。 - 特許庁
A microcomponent storage device and a thin layer deposition device for the above method are also provided.例文帳に追加
本発明はまた、上記方法を実施するマイクロコンポーネント保管装置および薄層形成装置をも提供する。 - 特許庁
To develop a plate preventing lateral diffusion in the case of carrying out a thin-layer chromatography (TLC) process, and develop a method adaptable for quantitative / qualitative analyses of compounds such as docosahexaenoic acid (DHA).例文帳に追加
薄層クロマトグラフィーを行う際に、横方向に拡散しないプレートの開発を課題とする。 - 特許庁
TRANSFER SHEET HAVING METAL THIN FILM IN PART OF SHEET SURFACE AND EPOXY BASED ANCHOR LAYER AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
シート面の一部に金属薄膜を有し、エポキシ系アンカー層を有する転写シート、及びその製造方法 - 特許庁
GAN SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD OF USING GAN ON SAPPHIRE THIN LAYER ON POLYCRYSTALLINE SILICON CARBIDE SUBSTRATE例文帳に追加
GaN半導体装置および多結晶炭化ケイ素基板上のサファイア薄層上のGaNを用いる方法 - 特許庁
When TBC is manufactured by the above method, a thin aluminum oxide layer is formed on a top coat/bond coat interface.例文帳に追加
上述の方法でTBCを作製すると、トップコート/ボンドコート界面に薄い酸化アルミの層が生成する。 - 特許庁
ZINC-BASE PLATED STEEL SHEET HAVING PRIMARY RUSTPROOF COATING LAYER OF THIN FILM AND EXCELLENT SURFACE ELECTROCONDUCTIVITY, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加
薄膜一次防錆被覆層を有する表面導電性に優れた亜鉛系めっき鋼板とその製造方法 - 特許庁
TRANSFER SHEET HAVING METAL THIN FILM IN PART OF SHEET SURFACE AND POLYESTER BASED ANCHOR LAYER AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
シート面の一部に金属薄膜を有し、ポリエステル系アンカー層を有する転写シート、及びその製造方法 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a large area thin film on which nano-particles are regularly arranged in a single layer.例文帳に追加
ナノ粒子が単層で規則性をもって配列した大面積の薄膜を作製する方法を提供する。 - 特許庁
This method for manufacturing the magnetic recording medium having a magnetic and metallic thin film on a non-magnetic substrate, comprises a process for forming a thin metallic substrate in the preferably whole width of the non-magnetic substrate and forming a magnetic layer on the thin metallic substrate so that the width of the magnetic layer becomes narrower than the width of the thin metallic substrate.例文帳に追加
非磁性基板上に磁性金属薄膜を有して成る磁気記録媒体の製造方法であって、非磁性基板の好ましくは全幅に、薄い金属下地層を形成し、当該下地層の上に、磁性層を、その幅が下地層の幅よりも狭くなるように形成する工程を含む。 - 特許庁
To provide a substrate for wiring circuit formation capable of improving the adhesiveness between an insulating layer and a conductive pattern and preventing delamination in metal thin layer, and to provide a wiring circuit substrate for which the substrate is employed and a method of forming a metal thin layer for forming the metal thin layer.例文帳に追加
絶縁層と導体パターンとの間の密着性の向上を図ることができ、しかも、金属薄層における層間剥離を防止することのできる、配線回路形成用基板、それが用いられる配線回路基板、その金属薄層を形成するための金属薄層の形成方法を提供すること。 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR REFORMING POLYSILICON LAYER, METHOD OF MANUFACTURING POLYSILICON SOLAR CELL, AND METHOD OF MANUFACTURING POLYSILICON TYPE THIN-FILM TRANSISTOR例文帳に追加
ポリシリコン層の改質方法、ポリシリコン太陽電池の製造方法及びポリシリコン型薄膜トランジスタの製造方法並びにポリシリコン層の改質装置 - 特許庁
COMPOSITE FOR ORGANIC SEMICONDUCTOR LAYER, METHOD OF MANUFACTURING THIN-FILM TRANSISTOR, METHOD OF MANUFACTURING ACTIVE MATRIX DEVICE, METHOD OF MANUFACTURING ELECTROOPTICAL DEVICE, AND METHOD OF MANUFACTURING ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加
有機半導体層用組成物、薄膜トランジスタの製造方法、アクティブマトリクス装置の製造方法、電気光学装置の製造方法および電子機器の製造方法 - 特許庁
As the depositing method of the protective layer, a dry type thin film producing method which performs the depositing in vacuum such as plasma CVD is preferable, especially an ICPCVD method, an ECRCVD method or the like.例文帳に追加
保護層の成膜法としては、真空中で成膜する乾式薄膜作製法、特にICPCVD法、ECRCVD法等のプラズマCVDが好ましい。 - 特許庁
The EL element comprises a thick film dielectric layer 3 formed by a powder calcination method, a thin film dielectric layer 6, a phosphor thin layer 5 interposed between the dielectric layers 3, 6, and a buffer layer 7 made of zinc oxide (ZnO) as a main component interposed between the thin film dielectric layer 6 and a transparent electrode 8.例文帳に追加
粉体焼成法により形成された厚膜誘電体層3と、薄膜誘電体層6と、これらの誘電体層3,6間に蛍光体薄膜5を有するEL素子であって、前記薄膜誘電体6と透明電極8の間に酸化亜鉛(ZnO)を主成分とするバッファ層7を有する構成のEL素子およびその製造方法とした。 - 特許庁
To provide a method for reducing the cut-off of a metallic thin-film layer when laminating a resin layer and the metallic thin-film layer that is divided by a non-metallic band on an orbiting support and the cutting off to manufacture electronic components.例文帳に追加
周回する支持体上に樹脂層と非金属帯で分割された金属薄膜層とを積層した後、切断して電子部品を製造するに際して、金属薄膜層の切断を少なくする方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing an SOI substrate associating a silicon-based region with a GaAs-based material region, in a thin layer of the SOI substrate including a silicon support object supporting a dielectric layer and a silicon thin layer.例文帳に追加
本発明は、誘電体層及びシリコン薄層を支持するシリコン支持体を備えるSOI基板の薄層において、シリコンベース領域及びGaAsベース材料領域を関連付けるSOI基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
The method for manufacturing a thin-film transistor array substrate comprises a process of forming a buffer layer on a substrate made of a low-grade glass and a process of building thin-film transistors and picture element electrodes, which include a semiconductor layer, on the buffer layer.例文帳に追加
本発明は、低級なガラスからなる基板上にバッファ層を形成する段階と、前記バッファ層上に半導体層を含む薄膜トランジスタ及び画素電極を形成する段階とを含めてなることを特徴とする。 - 特許庁
An essentially intrinsic microcrystal silicon thin-film layer 5 and a P-type microcrystal silicon carbide layer 6 are formed on the N-type single-crystal silicon layer 4 and the microcrystal silicon thin-film layer 5, respectively by the plasma CVD method, and a transparent conductive film 7 is formed on the uppermost surface.例文帳に追加
前記N型単結晶シリコン層(4) の上に実質的に真性の微結晶シリコン薄膜層(5) と、同微結晶シリコン薄膜層(5) の上にP型微結晶シリコンカーバイド層(6) とをプラズマCVD法により成膜し、最表面に透明導電膜(7) を形成する。 - 特許庁
To provide a method for forming a thin film which can enhance the quality and productivity not depending upon a reaction furnace capacity, in a method for growing the thin film controlling an atomic layer (hereinafter referred to as the ALD).例文帳に追加
原子層制御薄膜成長法(以下ALD)に於いて、反応炉容量に依らず品質及び生産性を向上することができる薄膜形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a thin-film transistor, a method of manufacturing the same, and an organic electroluminescent display device including the thin-film transistor in which a polycrystalline silicon layer has a specific Raman spectrum peak value when an amorphous silicon layer is crystallized into the polycrystalline silicon layer by SGS crystallization method.例文帳に追加
SGS結晶化法で非晶質シリコン層を多結晶シリコン層に結晶化する場合、多結晶シリコン層が特定なラマンスペクトラムのピーク値を有する薄膜トランジスタ、その製造方法及びこれを備えた有機電界発光表示装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a thin film magnetic head by which a highly flat upper electrode layer can be formed even when a wide magnetic domain controlling bias layer is provided, and the thin film magnetic head.例文帳に追加
ワイド型磁区制御用バイアス層を設けた場合にも、平坦性の良好な上部電極層を形成することができる薄膜磁気ヘッドの製造方法及び薄膜磁気ヘッドを提供する。 - 特許庁
In the thin sheet manufacturing method, a planar surface layer part of the ground sheet 10 is dipped into a silicon molten liquid 1002 and the thin sheet is manufactured by solidifying the silicon on the surface layer part.例文帳に追加
この薄板製造方法は、シリコン融液1002中に、下地板10の平面状の表層部を浸漬し、表層部にシリコンを凝固させて薄板を製造する薄板製造方法である。 - 特許庁
The method for forming a polysilicon thin film comprises the steps of forming a silica aerogel layer 52 having excellent heat insulation on a substrate 51, then directly emitting an excimer laser directly to the amorphous silicon thin film provided on the layer 52.例文帳に追加
基板51上に断熱性に優れたシリカエアロゲル層52を形成し、次いで、当該シリカエアロゲル層52上に設けたアモルファスシリコン薄膜にエキシマレーザを直接照射して、ポリシリコン薄膜を形成する。 - 特許庁
To provide a thin film magnetic head and a manufacturing method of the thin film magnetic head in which oxidation of a Cu layer of a lead conductor layer and a connection pad can be suppressed without increasing the number of processes.例文帳に追加
工程数を増大させることなくリード導体層及び接続パッドのCu層の酸化抑制を図ることができる薄膜磁気ヘッド及び薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a nonvolatile memory device, the method making a phase change region be a thin layer without executing an etching process.例文帳に追加
エッチング工程を実施することなく相変化領域を薄層化する不揮発性メモリ装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁
METHOD AND DEVICE FOR MEASURING SURFACE CHARACTERISTIC OF SELECTED THIN LAYER OF THREE-DIMENSIONAL ARTICLE FORMED BY STERIC SHAPING METHOD例文帳に追加
立体造形法により形成される三次元物体の選択された薄層に関する表面特徴を特定する方法および装置 - 特許庁
FUNCTIONAL ORGANIC THIN FILM, METHOD AND DEVICE FOR MANUFACTURING THE SAME, LIQUID CRYSTAL ALIGNMENT LAYER AND METHOD AND DEVICE FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
機能性有機薄膜、その製造方法およびその製造装置、ならびに液晶配向膜、その製造方法およびその製造装置 - 特許庁
To provide a substrate and its forming method wherein, in a strain layer/stain-applied crystal layer structure, the crystallinity deterioration of the strain layer due to crystal defects caused in the starin-applied crystal layer structure is reduced and the strain layer/strain-applied crystal layer structure is formed with a thin film on an insulation layer.例文帳に追加
歪み層/歪み印加結晶層構造において、歪み印加結晶層構造より発生する結晶欠陥による歪み層の結晶性劣化を低減し、かつ絶縁層上に歪み層/歪み印加結晶層構造を薄膜で形成した基板とその形成方法とを提供する。 - 特許庁
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