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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > w.に関連した英語例文

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w.を含む例文一覧と使い方

該当件数 : 25405



例文

A laser-beam welded part W continues in the peripheral direction over the whole periphery of the positioning projected part 14.例文帳に追加

レーザー溶接部Wは位置決め突部14の全周にわたり周方向に連続する。 - 特許庁

The work W and the rotating device disks 24 and 34 are rotated so as to clean the work W.例文帳に追加

そして、ワークと回転工具円盤24,34を回転させてワークを洗浄する。 - 特許庁

Therefore, the polishing work to the wafer W is carried out stably, with the force acting on the wafer W being detected.例文帳に追加

そのため、ウェーハの研磨は、作用される力を検出されつつ安定して行われる。 - 特許庁

This pin 50 does not come into contact with a wafer W when heating the wafer W as a process substrate.例文帳に追加

このピン50は,処理基板としてのウエハを加熱する際にはウエハに接触しない。 - 特許庁

例文

The workpiece W is separated into each material by cutting the workpiece W while pressing it with a press plate 22.例文帳に追加

プレスプレート22でワークを押圧しながら切断してワークを素材別に分離する。 - 特許庁


例文

A conductor layer (10) consisting of Ti or W etc. is arranged on the remainder of the one main surface (16) of the substrate (1).例文帳に追加

基板(1)の一方の主面(16)の残部にTi又はW等の導電体層(10)を配置する。 - 特許庁

The wafer W movement mechanism moves the wafer W at least to a specified measurement position.例文帳に追加

ウェーハ移動機構は、ウェーハを所定の測定位置まで少なくとも動かす。 - 特許庁

The evaluation value PVR of 'feeling of relaxation' is evaluated using PVR=-17.8(W/H)^2+26.1(W/H)-4.5.例文帳に追加

「くつろぎ感」評価値PVRを、PVR=−17.8(/H) ^2 + 26.1(/H) − 4.5 を用いて評価する。 - 特許庁

The width W of a band passage 70 is formed wider than the width L of the band part 40.例文帳に追加

バンド挿通路70内の横幅Wを、バンド部40の横幅Lより幅広に形成している。 - 特許庁

例文

Thus, the vehicle body 12 travels along a guide route W without deviation from the guide route W.例文帳に追加

そのため、車体12は誘導経路を逸脱することなく、誘導経路に沿って走行する。 - 特許庁

例文

The weight ratio W/C is 4.0 or higher (wherein W is water, and C is the cement).例文帳に追加

また、水とセメントCとの重量比/Cが4.0以上である。 - 特許庁

Especially, the surface layer 103 is composed of Cu, W or Cu-W alloy.例文帳に追加

特に、表面層103は、Cu、、またはCu及びの合金から成る。 - 特許庁

The present month, the day of the week, and the present time are read out from a clock and stored in a register R (Mo), R (W) (S1-S4).例文帳に追加

時計から現在の月、曜日、時刻を読み取り、レジスタR(Mo)、R(W)に格納する(S1〜S4)。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a W/O/W multiphase emulsion excellent in stability.例文帳に追加

安定性に優れた/O/型多相エマルジョンの製造方法を提供する。 - 特許庁

When carrying the substrate W, the substrate W is placed at the substrate placement sections PASS1, DPASS2.例文帳に追加

基板の搬送時においては、基板載置部PASS1,DPASS2に基板が載置される。 - 特許庁

Dry air is blown to the substrate W when it is being pulled up thus drying the substrate W.例文帳に追加

引き上げられつつある基板にドライエアーを吹き付けて基板を乾燥させる。 - 特許庁

Raw water W is fed to a pre-treating system 1 to remove turbidity components in the raw water W.例文帳に追加

原水を前処理システム1に供給して、原水中の濁質成分を除去する。 - 特許庁

The compositional material includes Mo, W, Mo-Cu, W-Cu, and the like.例文帳に追加

そのような構成材料として、例えばMo、、Mo−Cu、−Cu等を挙げることができる。 - 特許庁

Then, F/W stored in memories 50B, 51B, 60B is rewritten with the downloaded F/W.例文帳に追加

そして、メモリ50B,51B,60Bに記憶されているF/をダウンロードしたF/に書換える。 - 特許庁

Further, the operation is carried out so that the average discharge output becomes 0.47 (W/cm^2) or less in the discharging.例文帳に追加

さらに放電時において平均放電出力が0.47(W/cm^2)以下になるように運転する。 - 特許庁

The width (w) (width viewed from cutting face 3 side) of the flat drag 13 is in the range of 0<w≤1.5 mm.例文帳に追加

このさらい刃13の幅(すくい面3側から見た幅)は、0<≦1.5mmの範囲である。 - 特許庁

A shut-off plate 2 smaller in external form than the substrate W is arranged in opposition to the substrate W.例文帳に追加

基板に対向して、基板よりも小さな外形の遮断板2が配置されている。 - 特許庁

A part from a point W to a free edge F is rotatable to a rear side with the point W as a fulcrum.例文帳に追加

点を支点として、点から自由端Fまでの部分は後方へ回動可能である。 - 特許庁

It is more effective that the width of the P-guide layer 7 is formed so as to coincide with the width(w) of the Ni electrode 10.例文帳に追加

pガイド層7をNi電極10の幅(w)に合わせて形成するとさらに効果的である。 - 特許庁

An R/W installation place map database 7 stores information on an installation place of an R/W device.例文帳に追加

R/設置場所地図データベース7は、R/装置の設置場所の情報を記憶する。 - 特許庁

A first imaging point 15 to a workpiece W is installed between a camera 11 and the workpiece W.例文帳に追加

カメラ11とワークの間にワークに対する第1結像点15を設けた。 - 特許庁

A developer is discharged thereafter to the rotating wafer W and spread over the surface of the wafer W.例文帳に追加

その後、回転しているウエハに現像液を吐出し、現像液をウエハの表面に広げる。 - 特許庁

The coiled spring W is annealed by electrically heating the coiled spring W (Step S2).例文帳に追加

コイルばねに通電加熱を行うことにより、コイルばねに焼鈍を行う(ステップS2)。 - 特許庁

Furthermore, the melting points of the MgO and W metal are as high as 3100 K and 3700 K, respectively, and the infrared light source is not damaged even if it is heated to 3000 K.例文帳に追加

しかも、MgO、W金属の融点は3100K、3700Kと高く、3000Kに加熱されても破損しない。 - 特許庁

The composition for oral cavity includes (a) 0.01-10 w/w% of a mastic resin and/or a mastic oil, (b) 0.02-0.44 w/w% of sodium fluoride and/or 0.07-1.52 w/w% of sodium monofluorophosphate and (c) 0.005-1.0 w/w% of citric acid and/or its salt.例文帳に追加

次の成分(a)〜(c):(a)マスティック樹脂及び/又はマスティックオイル0.01〜10%、(b)フッ化ナトリウム0.02〜0.44%及び/又はモノフルオロリン酸ナトリウム0.07〜1.52%、並びに(c)クエン酸及び/又はその塩0.005〜1.0%を含有する口腔用組成物。 - 特許庁

A solvent S1 is fed to the center part of a wafer W to pre-wet the surface of the wafer W.例文帳に追加

先ずウェハの中心部に溶剤S1を供給し、ウェハの表面をプリウェットする。 - 特許庁

Coils C wounded with windings W are arranged at external peripheries of respective teeth 12 to form the stator.例文帳に追加

各ティース12の外周には、巻線Wを巻回してなるコイルCが配置されてステータを構成する。 - 特許庁

An integer w equal to or larger than 0 and smaller than p is included in a secret key, and the g_2 is g_1^w.例文帳に追加

0以上p未満の整数が秘密鍵に含まれ、g_2はg_1^である。 - 特許庁

A sticking device 1 holds a wafer W by sticking in vacuum the wafer W.例文帳に追加

吸着装置1は、ウエハを真空吸着することによりウエハを保持する。 - 特許庁

The delivery conveyor 18 rises up to take the load W and reduces the descending speed of the load W.例文帳に追加

払い出しコンベヤ18は上昇して荷を迎えに行き、荷の下降速度を減速させる。 - 特許庁

The turning angle θ_W (actual turning angle) is substantially reduced to reduce traveling resistance.例文帳に追加

転舵角θ_W (実転舵角)を実質的に減少させて、走行抵抗を減じる。 - 特許庁

The aspect ratio t/w of thickness (t) to width (w) of a cross section of the coil conductor is 0.7 and more.例文帳に追加

また、コイル導体の断面の厚みtと幅とのアスペクト比t/を0.7以上とする。 - 特許庁

The rear surface of a wafer W is sucked and held by a plate 2 and the wafer W is rotated.例文帳に追加

プレート2によって、ウエハの裏面を吸着保持して、そのウエハを回転させる。 - 特許庁

For the approximation function of the W pixel, a constant term is defined independent of the approximation function of the color components of the primary colors.例文帳に追加

W画素の近似関数は、定数項を原色の色成分の近似関数とは独立に定義する。 - 特許庁

The receive probability (w, w') is adaptively determined taking into account the channel characteristics.例文帳に追加

受信確率(’)は、チャネル特性を考慮し、アダプティブに算定され、決定される。 - 特許庁

Thereafter, a viewed object is determined at which the viewing participant (W') is gazing.例文帳に追加

その後、閲覧参加者(W')が注視している被閲覧オブジェクトが求められる。 - 特許庁

The pieces of data coincide, the verifier 1 is confirmed as the said person with probability of 1-(1/2)w.例文帳に追加

一致すれば、1−(1/2)^^wの確率で、証明者1が本人であることを確認できる。 - 特許庁

Path opening/closing means 7 operable from outside of a wall w is incorporated in a joint 5.例文帳に追加

W外から操作可能な通路開閉手段7が継手5に内蔵されている。 - 特許庁

A turning actuator is turning-controlled based on the corrected target turning angle θ_W^*.例文帳に追加

補正された目標転舵角θ_W ^* に基づいて転舵アクチュエータを転舵制御する。 - 特許庁

The printer 1 mounts the substrate W thereon and has a stage 22 which conveys the substrate W.例文帳に追加

印刷装置1は、基板を載置するとともに搬送するステージ22を有している。 - 特許庁

Since the work W is heated by the induction heating, only the work W becomes hot.例文帳に追加

また、ワークを誘導加熱により昇温しているので、ワークのみが高温になっている。 - 特許庁

Since the wafer W is supported to the substrate at all times, the wafer W is not damaged.例文帳に追加

半導体ウェーハは常に支持基板に支持されているため、損傷することがない。 - 特許庁

A write node accessible to the memory is expressed as mem_w, whereas a read node is expressed as mem_r.例文帳に追加

メモリへのアクセスが可能な書込ノードはmem_wとして表現され、読出ノードはmem_rとして表現される。 - 特許庁

A temperature sensor 13 for detecting a temperature of the workpiece W is provided at the tip part of an arm 11b of the gauge 11.例文帳に追加

ゲージ11のアーム11b先端部に、ワークWの温度を検出する温度センサ13が設けられている。 - 特許庁

例文

The width of the flat yarn and the sewing pitch of a needle meet the following expression: 3W≥P≥W (W: width of the flat yarn [mm]; and P: sewing pitch of the needle [mm]).例文帳に追加

≧P≧:フラットヤーン幅[mm]、P:ミシン針縫いピッチ[mm]) - 特許庁

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