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CM pとは 意味・読み方・使い方

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意味・対訳 シチジン一リン酸

「CM p」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 154



例文

Si of 1×1016 cm^-3 to 1×1018 cm^-3 is contained in a p-type layer.例文帳に追加

p型層にはSiが1×1016cm-3以上1×1018cm-3未満含有されている。 - 特許庁

In a process for press-fitting the lamination, the lamination is press-fitted in a pressure areapressure P (kgf/cm^2), satisfying ΔB/ΔA≤0.005 (%/(kgf/cm^2)) and ≤ (P+200) (kgf/cm^2).例文帳に追加

積層体を圧着する工程において、ΔB/ΔA≦0.005(%/(kgf/cm^2))となるプレス圧P(kgf/cm^2)以上、(P+200)(kgf/cm^2)以下のプレス圧領域で圧着を行う。 - 特許庁

To obtain a p-type GaAs single crystal having an average dislocation density of ≤100/cm^-2, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

平均転位密度100cm^-2以下のp型GaAs単結晶及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The Si layer 14 comprises an n-type Si layer with the concentration of an n-type impurity of about 7×10^18 atoms cm^-3, and a p-type Si layer with the concentration of a p-type impurity of about 2×10^17 atoms cm^-3 which is formed on the n-type Si layer.例文帳に追加

Si層14は、n型不純物濃度が7x10^18atoms・cm^-3程度のn型Si層と、n型Si層の上に形成され、p型不純物濃度が2x10^17atoms・cm^-3程度のp型Si層とからなる。 - 特許庁

The p type carrier concentration of the p type InGaAsP diffraction grid layer is specified so as to be 1.5×10^18 cm^-3-4.0×10^18 cm^-3 and especially so as to be 2.0×10^18 cm^-3-3.0×10^18 cm^-3.例文帳に追加

p型のInGaAsP回析格子層のp型キャリア濃度を1.5×10^18cm^−3から4.0×10^18cm^−3、特に2.0×10^18cm^−^3から3.0×10^18cm^−3とする。 - 特許庁

The p-type impurity density in the p-type body regions 4 is more than or equal to10^16 cm^-3.例文帳に追加

そして、p型ボディ領域4におけるp型不純物密度は5×10^16cm^−3以上である。 - 特許庁

例文

The p-type GaAs single crystal has an average dislocation density of ≤100/cm^-2 and contains Si, Zn, B and In as dopants.例文帳に追加

本発明のp型GaAs単結晶は、平均転位密度100cm^-2以下のp型GaAs単結晶であって、ドーパントとして、Si,Zn,B,及びInを含有することを特徴とする。 - 特許庁

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機械工学英和和英辞典での「CM p」の意味

CMP (configuration management plan)


CMP (controlled materials production)


ライフサイエンス辞書での「CM p」の意味

日英・英日専門用語辞書での「CM p」の意味

CMP

遺伝子名称シソーラスでの「CM p」の意味

cmp

fly遺伝子名cmp
同義語(エイリアス)cm; crumpled
SWISS-PROTのID---
EntrezGeneのIDEntrezGene:248126
その他のDBのIDFlyBase:FBgn0000335
human遺伝子名CMP
同義語(エイリアス)CRTM; Cartilage matrix protein precursor; matrilin 1, cartilage matrix protein; Matrilin-1; MATN1
SWISS-PROTのIDSWISS-PROT:P21941
EntrezGeneのIDEntrezGene:4146
その他のDBのIDHGNC:6907
mouse遺伝子名Cmp
同義語(エイリアス)Cartilage matrix protein precursor; matrilin-1; matrilin 1, cartilage matrix protein 1; Matrilin-1; Matn1; CMP; Crtm
SWISS-PROTのIDSWISS-PROT:P51942
EntrezGeneのIDEntrezGene:17180
その他のDBのIDMGI:106591

本文中に表示されているデータベースの説明

SWISS-PROT
スイスバイオインフォマティクス研究所欧州バイオインフォマティクス研究所によって開発運営されているタンパク質アミノ酸配列データベース
EntrezGene
NCBIによって運営されている遺伝子データベース染色体上の位置配列発現構造機能、ホモロジーデータなどが含まれている
FlyBase
米英大学のショウジョウバエ研究者などにより運営されるショウジョウバエ生態遺伝子情報に関するデータベース
HGNC
HUGO遺伝子命名法委員会により運営されるヒト遺伝子に関するデータベース
MGI
様々なプロジェクトによる研究マウス遺伝的生物学的なデータを提供するデータベース

Weblio専門用語対訳辞書での「CM p」の意味

CMP

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Weblio英和対訳辞書での「CM p」の意味

CMP

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Wiktionary英語版での「CM p」の意味

CMP

出典:『Wiktionary』 (2026/04/28 14:36 UTC )

関連する語

参考

アナグラム

Weblio例文辞書での「CM p」に類似した例文

cmp

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「CM p」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 154



例文

The pitches E.F of the markings 15 are larger than that P of the knots 12, are 30 cm or shorter and made the integer times of 5 cm.例文帳に追加

刻印15のピッチE・Fは、節12のピッチPよりも大きく、且つ、30cm以下で5cmの整数倍にする。 - 特許庁

The first p-type contact layer 16a has an Mg concentration not higher than10^19/cm^3.例文帳に追加

第1p型コンタクト層16aは、Mg濃度が3×10^19/cm^3 以下である。 - 特許庁

A p-side electrode 114 is formed over a p^+-GaAs contact layer 113 having a doping concentration of ≥1×10^18 cm^-3 and a p-AlGaAs second upper cladding layer 109 having a doping concentration of ≤1×10^17 cm^-3.例文帳に追加

ドーピング濃度が1×10^18cm^-3以上のp^+-GaAsコンタクト層113上およびドーピング濃度が1×10^17cm^-3以下のp-AlGaAs第2上クラッド層109上にp側電極114を形成する。 - 特許庁

The GaAs substrate 13 has an n-type carrier concentration of10^16 cm^-3 or higher and 2×10^18 cm^-3 or lower, or a p-type carrier concentration of10^18 cm^-3 or higher and 3×10^19 cm^-3 or lower.例文帳に追加

GaAs基板13は、5×10^16cm^-3以上2×10^18cm^-3以下のn型キャリア濃度または5×10^18cm^-3以上3×10^19cm^-3以下のp型キャリア濃度を有する。 - 特許庁

The second p-type contact layer 16b has an Mg concentration in a range between10^19/cm^3 and 9×10^19/cm^3, and is 10 to 60 nm in thickness.例文帳に追加

第2p型コンタクト層16bは、Mg濃度が4×10^19〜9×10^19/cm^3 で、厚さは10〜60nmである。 - 特許庁

Fiber occupation ratio (%) (A)=0.106×n×√(D)/(P-T), and n means the number of thread to be put in one reed, D means fineness (dtex) of polyhexamethylene adipamide, P means reed wire pitch (cm), and T means thickness (cm) of the reed wire.例文帳に追加

繊維占有率(%)(A)=0.106×n×√(D)/(P−T)n:筬1羽に入れる糸本数 、D:ポリヘキサメチレンアジパミドの繊度(dtex)P:筬羽ピッチ(cm) 、T:筬羽厚(cm) - 特許庁

The p-type GaN layer 12 is doped with p-type impurities, i.e., Mg (magnesium) and O (oxygen), by about 1×10^20 cm^-3 and 3×10^19 cm^-3, respectively.例文帳に追加

ここで、p型GaN層12は、p型不純物のMg(マグネシウム)とO(酸素)が、それぞれ、Mgは1×10^20cm^-3程度、O(酸素)は3×10^19cm^-3程度ドーピングされている。 - 特許庁

例文

In this case, formation is made as a p+-InGaAs layer where carrier concentration Na of the p-type semiconductor layer is set within 1.0×1020 cm-3>Na≥5.0×1018 cm-3.例文帳に追加

その場合、p型半導体層のキャリア濃度Naが1.0×10^20cm^-3>Na≧5.0×10^18cm^-3の範囲内の値となるp^^+−InGaAs層として形成する。 - 特許庁

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「CM p」の意味に関連した用語

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