ng-Lとは 意味・読み方・使い方

A malt fermentative alcohol beverage containing ≥25 ng/L furfuryl thiol is provided.例文帳に追加

本発明は、フルフリルチオールを２５ｎｇ／Ｌ以上含有する麦芽発酵アルコール飲料を提供する。 - 特許庁

To provide an ultrapure water production apparatus which can stably produce ultrapure water having a metal concentration of 0.1 ng/L or less, and an ultrapure water production method and a washing method and apparatus for electronic component members using the ultrapure water production apparatus.例文帳に追加

金属濃度が０．１ｎｇ／Ｌ以下の超純水を安定して製造することができる超純水製造装置と、これを用いた超純水製造方法、電子部品部材類の洗浄方法及び洗浄装置を提供する。 - 特許庁

To provide an ultrapure water production apparatus which can stably produce ultrapure water having a boron concentration of 1 ng/L or less, and an ultrapure water production method and a washing method and apparatus for electronic component members using the ultrapure water production apparatus.例文帳に追加

ホウ素濃度が１ｎｇ／Ｌ以下の超純水を安定して製造することができる超純水製造装置と、これを用いた超純水製造方法、電子部品部材類の洗浄方法及び洗浄装置を提供する。 - 特許庁

To provide cleaning technique for a wafer that never contaminates a wafer surface with metal elements, even if metal ions of ng/L (ppt) level are present in ultrapure wafer used to clean the wafer, through relatively easy operation without requiring any intricate operation.例文帳に追加

煩雑な操作を必要とすることなく、比較的簡単な操作で、ウエハの洗浄に使用する超純水中にｎｇ／Ｌ（ｐｐｔ）レベルの金属イオンが存在していても、ウエハ表面を金属元素で汚染させることのないウエハの洗浄技術を提供する。 - 特許庁

An aliphatic organic carboxylic acid or an organic compound capable of being converted into an aliphatic organic carboxylic acid by the oxidation at the decomposition process is added into the water to be treated so that the concentration of the residual TOC in the water to be treated is maintained at a concentration of ≥1 ng/L.例文帳に追加

被処理水中の残留ＴＯＣ濃度が１ｎｇ／Ｌ以上に維持されるように、脂肪族有機カルボン酸、又は分解過程において酸化されて脂肪族有機カルボン酸を生成する有機物を被処理水中に添加する。 - 特許庁

To provide a secondary pure water making apparatus not lowering water quality by metalic colloids or fine particles generated from a metalic material constituting a feed water pump, a heat exchange, or an UV irradiator or the secondary pure water making apparatus and capable of stably obtaining ultrapure water of high quality with a residual ion concentration of 10 ng/L or less.例文帳に追加

二次純水製造装置の給水ポンプ、熱交換器、ＵＶ照射装置等を構成する金属材料から発生した金属のコロイドや微粒子による水質低下の問題がなく、残留イオン濃度１０ｎｇ／Ｌ以下の高水質の超純水を安定に得ることができる二次純水製造装置を提供する。 - 特許庁