1016万例文収録!

「"last process"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索


小窓モード

プレミアム

ログイン
設定

設定

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > "last process"に関連した英語例文

セーフサーチ:オン

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

"last process"を含む例文一覧と使い方

該当件数 : 26



例文

sempid ID of the last process that performed a semaphore operation on this semaphore. 例文帳に追加

sempidこのセマフォーを最後に操作したプロセスの ID。 - JM

Send a hangup signal when the last process closes the tty. 例文帳に追加

tty の最後のプロセスが終了したら hangup シグナルを送る。 - JM

This last process is the origin of the following ceremony to be called Jotoshiki or muneage shiki. 例文帳に追加

その最後の作業からその後の儀式を上棟式、棟上式という。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Lower modem control lines after last process closes the device (hang up). 例文帳に追加

最後のプロセスがデバイスをクローズした後、モデムの制御線を low にする(切断する)。 - JM

例文

To improve work efficiency by integrally holding keytop members to the last process.例文帳に追加

キートップ部材が最終工程まで一体的に保持させて作業性の向上を図る。 - 特許庁


例文

A semiconductor device 100 includes a first gate 210, which is formed using the gate last process.例文帳に追加

半導体装置100は、ゲートラストプロセスで形成された第1のゲート210を含む。 - 特許庁

Otherwise, the return status is the exit status of the last process or job waited for. 例文帳に追加

それ以外の場合、返却ステータスはwait していた最後のプロセスまたはジョブの終了ステータスとなります。 - JM

(This device can be used only once: the data is freed as soon as the last process that used it has closed /dev/initrd .) 例文帳に追加

(このデバイスは一度しか使えない。 データは、そのデータを使った最後のプロセスが/dev/initrdをクローズするとすぐに解放される。 - JM

In the last process, semiconductor devices 32 constituted into one packaging structure are obtained, by dicing the wafer along the boundary line between the semiconductor elements.例文帳に追加

最後の工程で、上記半導体素子の境界線に沿って、上記ウェハをダイシングすることによってパッケージ化された半導体装置32を得る。 - 特許庁

例文

To reduce the fringe capacity and gate resistance of a transistor and to shorten an effective gate length when applying a gate last process.例文帳に追加

ゲートラストプロセスの適用に際して、トランジスタのフリンジ容量及びゲート抵抗の低減と、実効的なゲート長の短縮を実現する。 - 特許庁

例文

To prevent a short circuit between a contact and a gate electrode connected to a source-drain region in a gate structure formed by a gate last process.例文帳に追加

ゲートラストプロセスで形成されたゲート構造において、ソース・ドレイン領域に接続するコンタクトとゲート電極とのショートを防ぐ。 - 特許庁

To perform a treatment which reduces adverse influences due to treatment liquid, treatment liquid in the last process which remains on a substrate is performed, while preventing that rinse liquid flows backwards to the processing tank of a previous process to the substrate, even in a case where the treatment liquid, the treatment liquid which is hard to remove from the substrate in the last process is given, etc.例文帳に追加

前工程において基板から除去し難い処理液が付与されていた場合等であっても、基板に対してリンス液が前工程の処理槽に逆流することを防止しつつ、基板上に残存する前工程での処理液による悪影響を低減する処理を行う。 - 特許庁

The header (the first five lines) shows the PID of the last process to run, the system load averages (which are a measure of how busy the system is), the system uptime (time since the last reboot) and the current time. 例文帳に追加

ヘッダ(最初の5行です)は動作している最新のプロセスの PID、システムの平均負荷(システムがどれくらい忙しいかの指標)、システムの稼働時間(最後の再起動からの時間) と現在の時刻を示します。 - FreeBSD

Besides, the remaining toner patches are formed by a developing bias Vb set based on a developing bias Vb adjusted in the last process control period.例文帳に追加

また、残りのトナーパッチについては、前回のプロセスコントロール時に調整されに現像バイアスVbに基づいて設定されたげ現像バイアスVbで作像する。 - 特許庁

During the last process of the anodization C to D in forming the porous layer 12, intermittent energization is performed by repeatedly energizing and non-energizing the surface of the semiconductor substrate.例文帳に追加

そして、多孔質層12を形成する工程の最後の陽極化成処理CからDにおいて、半導体基体表面への通電と停止とを繰り返す間欠通電を行う。 - 特許庁

When it is judged that the last process of updating the firmware has been interrupted in the middle of process, whole of the image data of the firmware after the last update is obtained via the network and it is used to update the firmware.例文帳に追加

ファームウェアを更新する処理が前回途中で中断したと判定した場合は、ファームウェアの更新後イメージデータを全てネットワーク経由で取得し更新する。 - 特許庁

In the plurality of hot-forgings, the hot-forging at the last process is performed while controlling the working temperature of the based part S of a flange 10 for fitting the wheel, an introduced von-Mises strain quantity and a hot-forging parameter P_F.例文帳に追加

複数工程の熱間鍛造のうち最終工程の熱間鍛造は、車輪取り付け用フランジ10の付け根部分Sの加工温度、導入されるvon Mises歪の量、熱間鍛造パラメータP_F を制御しつつ行う。 - 特許庁

When bash starts a job asynchronously (in the background ), it prints a line that looks like: [1] 25647 indicating that this job is job number 1 and that the process ID of the last process in the pipeline associated with this job is 25647. 例文帳に追加

このテーブルはjobsコマンドを使ってリスト表示できます。 bashがジョブを非同期的に( バックグラウンドで) 起動したときには、bashは以下のような行を出力します:[1] 25647これは、このジョブのジョブ番号は 1 であり、このジョブを構成するパイプライン中の最後のプロセスの ID が25647 であることを示しています。 - JM

To prevent variations in gate resistance caused by the fact that polysilicon of the gate cannot be extracted because of variations in height of the active region and the element isolation region in a transistor which is fabricated by gate-last process.例文帳に追加

ゲートラストプロセスで作製するトランジスタにおいて、活性領域と素子分離領域の高さばらつきのためゲートのポリシリコンを抜くことができないことにより、ゲートの抵抗にばらつきが生じるのを防ぐことを目的とする。 - 特許庁

In at least one of these processes, the depositing process is carried out in a gas containing an organic material in viscous flow range, and in the last process from among these processes, the depositing process is carried out in an atmosphere which at least has a lower total pressure in comparison with that in the preceding process to the preceding stage.例文帳に追加

そして、これら各工程のうち、少なくとも1つの工程は、有機物質を含む粘性流領域の気体中で前記堆積処理を行ない、前記各工程の最終工程は、少なくともその前段階の前記工程に比して全圧の低い雰囲気下で前記堆積処理を行なう。 - 特許庁

The two fluids which have the gas and the liquids are supplied from the two-fluid nozzle 21 throughout along the substrate width of the surface, which crosses in the substrate conveyance direction, and the processing liquid of the last process which still remains on the substrate front surface is removed.例文帳に追加

そして、このリンス液が供給された後の基板Wの表面に対して、2流体ノズル21から、基板搬送方向に交差する基板幅の全域に亘って、気体と液体とからなる2流体を供給して、基板表面になお残存する前工程の処理液を除去する。 - 特許庁

Then a process after which the core material 11 is positioned to be fixed to the core support 2, for example, some core half bodies 1 are divided by removing a connection part 11a connecting some core half bodies of the core material 11 in the last process grinding the magnetic recording medium sliding surface of a magnetic head.例文帳に追加

そして、コア材11をコアサポート2に位置決めして固定した後の工程、例えば最後の工程で磁気ヘッドの磁気記録媒体摺動面を研削する工程により、コア材11の複数のコア半体1どうしを連結している連結部11aを除去して複数のコア半体1を分離する。 - 特許庁

The graphite waste and the defective formed material are constituted of at least one kind of an electrode for electric furnace, an electrode for electric discharge machining, a graphite crucible, an iron tapping runner of blast furnace, a sliding nozzle material of tundish and a fate valve material of tundish in the last process in the blast furnace.例文帳に追加

黒鉛の廃棄物及び不良成形物は、電気炉用電極、放電加工用電極、黒鉛坩堝、高炉出銑樋、溶鉱炉の最終工程にあるダンディッシュのスライディングノズルの材料及びダンディッシュのゲートバルブの材料の少なくとも1種から構成されている。 - 特許庁

When the operation starts the flags F1, F2 are read out after a start key is operated and in case the last process of the previous operation is drying and the cover is not open it is determined that the chances of dried laundry is left behind in the drum are high and the operation is restricted and a display or a buzzer notifies that there is still some laundry to be taken out.例文帳に追加

運転開始時には、スタートキーの操作を受けてフラグF1、F2を読み出し、前回の最終行程が乾燥であって上蓋が開放されていない場合には、乾いた洗濯物がドラム内に残っている可能性が高いと判断して運転を禁止し、表示やブザーで洗濯物の取り出し忘れを報知する。 - 特許庁

To reduce an element rank inventory, for example a non-defective inventory left from combination but not for sale, as well as reduce a delivery (delivery date) risk by optimizing entire production including an inventory for production across multiple production sites (processes), for example optimizing a rank derivation rate of a proceeding process according to a shipment plan of a last process.例文帳に追加

複数生産拠点(工程)に跨った生産を行う場合の在庫量など、生産全体の最適化、例えば、最終工程の出荷計画に従い、前工程のランク派生率を最適化して、素子ランク在庫、例えば組み合わせて残った良品ではあるが販売できない在庫を削減すると共に、デリバリ(納期)リスクを低減する。 - 特許庁

例文

In the firmware update method, when it is judged that the last process of updating the firmware has not been interrupted in the middle of process, only a difference in image data of the firmware just after the last update from the present firmware is obtained via a network, and the difference is applied to the firmware before the update so as to update the firmware.例文帳に追加

本発明に係るファームウェア更新方法では、ファームウェアを更新する処理が前回途中で中断していないと判定した場合は、ファームウェアの更新後イメージデータのうち現在のファームウェアとの間の差分のみをネットワーク経由で取得し、当該差分を更新前のファームウェアに適用することによりファームウェアを更新する。 - 特許庁

索引トップ用語の索引



  
本サービスで使用している「Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス」はWikipediaの日本語文を独立行政法人情報通信研究機構が英訳したものを、Creative Comons Attribution-Share-Alike License 3.0による利用許諾のもと使用しております。詳細はhttp://creativecommons.org/licenses/by-sa/3.0/ および http://alaginrc.nict.go.jp/WikiCorpus/ をご覧下さい。
  
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
  
この対訳コーパスは独立行政法人情報通信研究機構の研究成果であり、Creative Commons Attribution-Share Alike 3.0 Unportedでライセンスされています。
  
Copyright (c) 2001 Robert Kiesling. Copyright (c) 2002, 2003 David Merrill.
The contents of this document are licensed under the GNU Free Documentation License.
Copyright (C) 1999 JM Project All rights reserved.
  
Copyright 1994-2010 The FreeBSD Project. All rights reserved. license
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する
英→日 日→英
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

©2024 GRAS Group, Inc.RSS