| 例文 (57件) |
"particle removal"を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 57件
WATER SUBSTITUTION TYPE DETERGENT COMPOSITION OR DETERGENT COMPOSITION FOR PARTICLE REMOVAL例文帳に追加
水置換型または粒子除去用洗浄剤組成物 - 特許庁
PLASMA ETCHING DEVICE AND FINE PARTICLE REMOVAL METHOD例文帳に追加
プラズマエッチング装置および微粒子除去方法 - 特許庁
Consequently, the particle removal rate is improved.例文帳に追加
その結果、パーティクル除去率が向上される。 - 特許庁
PARTICLE REMOVAL DEVICE AND EXPOSURE EQUIPMENT例文帳に追加
パーティクル除去装置および露光装置 - 特許庁
CLEANING METHOD BY STERILIZATION OR PARTICLE REMOVAL, AND APPARATUS USED THEREFOR例文帳に追加
除菌または除粒子による洗浄方法、およびそれに用いる装置 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING PANEL FOR INFORMATION DISPLAY, AND EXCESS PARTICLE REMOVAL DEVICE例文帳に追加
情報表示用パネルの製造方法および余剰粒子除去装置 - 特許庁
The particle removal tape is prepared by forming a common pressure-sensitive adhesive layer on either surface of the support of the outermost layer part of a particle removal tape being a laminate of particle removal tapes.例文帳に追加
パーティクル除去テープが積層して設けられたパーティクル除去テープの最表層部の支持体の片面に、通常の粘着剤層が設けられてなるパーティクル除去テープである。 - 特許庁
PARTICLE REMOVAL METHOD, MINUTE TWEEZER APPARATUS, ATOMIC FORCE MICROSCOPE, AND CHARGED PARTICLE BEAM APPARATUS例文帳に追加
パーティクル除去方法、微小ピンセット装置、原子間力顕微鏡および荷電粒子ビーム装置 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE, AND HARMFUL PARTICLE REMOVAL DEVICE OF SPRAYING AIR例文帳に追加
半導体装置の製造方法および吹き付けエアーの有害パーティクル除去装置 - 特許庁
To provide a particle removal method and a particle removal device for an electrostatic chuck that can easily and surely remove particles, sticking on a substrate suction surface of the electrostatic chuck arranged on a stage.例文帳に追加
ステージに配置される静電チャックの基板吸着面に付着したパーティクルを容易かつ確実に除去することのできる、静電チャックのパーティクル除去方法及び除去装置を提供する。 - 特許庁
The device generally includes a continuous perfusion fermentation system, a continuous particle removal system integrated with the perfusion fermentation system; and a continuous purification system integrated with the particle removal system, which is maintained under sterile conditions.例文帳に追加
本発明の装置は一般に、無菌状態で維持される、連続灌流発酵システムと、灌流発酵システムと一体化した連続粒子除去システムと、粒子除去システムと一体化した連続精製システムとを含む。 - 特許庁
A sampling port 52 is provided between the chemical filter 6 and an ULPA filter 53 for particle removal.例文帳に追加
ケミカルフィルタ６とパーティクル除去用のＵＬＰＡフィルタ５３の間にサンプリングポート５２を設ける。 - 特許庁
The particle removal performance is measured, with a solution containing ferric hydroxide colloidal particles having an average particle diameter of 9-70 nm as test solution.例文帳に追加
平均粒子径９〜７０ｎｍの水酸化第２鉄コロイド粒子を含む水溶液を試験液として粒子除去性能を測定する。 - 特許庁
To provide a method and device for cleaning a semiconductor substrate, capable of securing a good particle removal capability without damaging the substrate.例文帳に追加
基板を損傷することなく、良好な粒子除去能力を確保できる半導体基板のクリーニング方法および装置を提供する。 - 特許庁
To provide a substrate processing device capable of reducing damage of a substrate, and of securing particle removal performance to the utmost extent.例文帳に追加
基板のダメージを低減でき、かつ、パーティクル除去性能を最大限に確保できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide a new method to apply to a non-aqueous system of performance test to establish fine particle removal ability of a film and an integrity test of a non-destructive method for checking that a used film is within a set range in the fine particle removal performance, a test reagent to be applied to the test, and a method for manufacturing the reagent.例文帳に追加
膜の微粒子除去能を確定する性能試験および使用後の膜が微粒子除去性能においてあらかじめ設定内であることを確認す非破壊法の完全性試験の非水系で実施する新しい方法と該試験に適用させる試験試薬と該試薬を製造する方法を提供する。 - 特許庁
The fine particle removal apparatus comprises a magnetically permeable pipe for passing a solution through, a magnet capable of magnetically attracting magnetic fine particles in the solution passing through the pipe to the inner face of the pipe by magnetic force, and a moving means for moving the magnet close to and apart from the pipe and the fine particle removal method is carried out by the apparatus.例文帳に追加
溶液を通液する透磁性の配管と、該配管中を通液される溶液中の磁性微粒子を磁力により配管の内面に吸着可能な磁石と、該磁石を配管に対し近接、離反させる移動手段とを有することを特徴とする微粒子除去装置、及び微粒子除去方法。 - 特許庁
To provide a novel method for a performance test determining fine particle removal performance of a membrane and for a non-destructive integrity test confirming that the membrane after use is within a preset range in terms of the fine particle removal performance, a test reagent applied to the tests, and a method for producing the reagent.例文帳に追加
膜の微粒子除去能を確定する性能試験および使用後の膜が微粒子除去性能においてあらかじめ設定内であることを確認す非破壊法の完全性試験の新しい方法と該試験に適用させる試験試薬と該試薬を製造する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a fine particle removal apparatus which is capable of efficiently collecting magnetic fine particles in a solution without bringing a magnet into direct contact with the solution and easily discharging the collected magnetic fine particles without generating residual magnetism of the magnetic fine particles and which can be used almost permanently without requiring maintenance for lives and replacement of constituent members and to provide a fine particle removal method.例文帳に追加
磁石を直接接液させずに、溶液中の磁性微粒子を効率よく捕捉でき、かつ、磁性微粒子の残留磁気を生じさせずに、捕捉した磁性微粒子を容易に排出でき、しかも、部材の寿命や交換を考慮しなくて済み半永久的な使用が可能な微粒子除去装置及び方法を提供する。 - 特許庁
Also, by making ultrasonic vibration propagate to a chemical liquid having performance of removing an organic matter or a metal, this performance which the functional water such as ozone water or hydrogen water has, thereby can improve the particle removal performance.例文帳に追加
また、オゾン水，水素水等機能水のもつ、有機物や金属除去能力のある薬液に超音波振動を伝幡させることにより、パーティクルの除去性能を向上させることができる。 - 特許庁
In the acidic liquid treatment device, particle removal apparatuses 21, 22 of removing particles in the acidic liquid and/or an alkali solution are provided, and particles to be the nuclei of hydroxide scale in the acidic liquid and/or the alkali solution are beforehand removed.例文帳に追加
酸性液及び／又はアルカリ溶液中の粒子を除去する粒子除去装置２１，２２を設けて、酸性液及び／又はアルカリ溶液中の水酸化物スケールの核となる粒子を予め除去する。 - 特許庁
The particle removal performance of a membrane is evaluated using an aqueous solution produced by controlling the particle diameter of the ferric hydroxide colloidal particles by a ratio of a trivalent ferric ion to a hydroxide ion and a volume ratio when mixed.例文帳に追加
この水酸化第２鉄コロイド粒子の粒子径を３価の鉄イオンと水酸化イオンの比および混合時の容量比で制御して作製した水溶液を用いて膜の粒子除去性能を評価する - 特許庁
When pixels on the left side of a cell 36 are displayed in red, a voltage (alternating voltage) for particle removal is applied to a data electrode 32A and particles are moved to the periphery to expose the data electrode 32A.例文帳に追加
セル３６の左側の画素を赤表示する場合、データ電極３２Ａに粒子除去用電圧（交番電圧）を印加し、粒子を周囲へ移動させてデータ電極３２Ａを露出させる。 - 特許庁
To further enhance the efficiency of particle removal in a method and apparatus for processing a substrate, in which a substrate surface is physically cleaned while a pattern is structurally reinforced by solidifying a liquid entering gaps of the pattern.例文帳に追加
パターンの間隙内部に入り込んだ液体を凝固させることでパターンを構造的に補強した状態で基板表面を物理洗浄する、基板処理方法および装置においてパーティクル除去効率をさらに高める。 - 特許庁
To provide a substrate processing method and a substrate processing apparatus which can increase the rate of particle removal even if the contact angle of the front surface of a substrate is small.例文帳に追加
基板の表面の接触角が小さい場合であっても、パーティクルの除去率を増大させることができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁
Regarding dust and odor from an air intake 7, the odor is removed with a deodorizing net 8 carrying phthalocyanine (chelate compound of transition metal), and dirt or dust passing through the net 8 is removed with a (hepa) filter 6 having high efficiency for particle removal.例文帳に追加
空気取り入れ口７からの塵，臭気のうち臭気はフタロシアニン（遷移金属キレート化合物）担持消臭ネット８で取り除かれ、通り抜けた塵やダストは、高効率粒子除去（ヘパ）フィルタ６によって除去される。 - 特許庁
To provide a particle removal technique wherein in an immersion type substrate processing apparatus the working load of an operator is light and an apparatus operation rate is not lowered.例文帳に追加
浸漬型の基板処理装置において、オペレータの作業負担が軽く、装置稼動率を低下させることもないパーティクル除去技術を提供する。 - 特許庁
To provide a substrate cleaning method and substrate cleaning device that can clean a surface of a substrate to be processed at a superior particle removal rate without damaging the substrate.例文帳に追加
基板にダメージを与えることなく、優れたパーティクル除去率で基板の被処理面を洗浄することができる基板洗浄方法および基板洗浄装置を提供する。 - 特許庁
The particle removal device includes a first separator 650 comprising an arrangement of obstacles including at least two rows of obstacles 611a, 611b, 612a, 612b that extend laterally with respect to an ink flow path in the first separator.例文帳に追加
粒子除去デバイスは、第１の分離器内のインク流路に対して横方向へ延びる少なくとも２列の障害物６１１ａ、６１１ｂ、６１２ａ、６１２ｂを含む障害物の配列を備える第１の分離器６５０を含む。 - 特許庁
To provide a polishing agent capable of improving particle removal performance in cleaning after polishing and reducing polishing scratches, and a method for polishing a substrate using the polishing agent.例文帳に追加
研磨後の洗浄における粒子除去性能を向上させ、研磨傷を低減することのできる研磨剤及びこの研磨剤を使用した基板の研磨方法を提供する。 - 特許庁
The particle removal device for removing the particle adhered to the substrate in the vacuum atmosphere has a holding means for holding the substrate, and a vibration applying means for applying the vibration to the substrate.例文帳に追加
基板に付着したパーティクルを真空雰囲気内において除去するパーティクル除去装置であって、前記基板を保持する保持手段と、前記基板に振動を付与する振動付与手段とを有することを特徴とする。 - 特許庁
To provide a device and method for cleaning a substrate capable of minimizing physical damage on the substrate while keeping high particle removal capability.例文帳に追加
高いパーティクル除去能力を維持しつつも、基板に与える物理的ダメージを最小限に抑制することができる基板洗浄装置および基板洗浄方法を提供する。 - 特許庁
Thereby, physical force applied to the substrate W by the cleaning head 60 is always kept constant, and high particle removal capability can be balanced with suppression of physical damage.例文帳に追加
これにより、洗浄ヘッド６０が基板Ｗに与える物理力は常に一定となり、高いパーティクル除去能力と物理的ダメージの抑制とを両立することができる。 - 特許庁
To remove particles from a recording surface during mounting work of components into a case in which a magnetic disk and heads are installed while reducing cost increase due to particle removal, in assembling a magnetic disk device.例文帳に追加
磁気ディスク装置を組立てるにあたって、磁気ディスク及びヘッドが内装された筐体内への部品の組付作業時に記憶面からパーティクルの排除すること、及び、パーティクル排除によるコスト増加を抑える。 - 特許庁
The ultrafine particle removal device 250 has: a suction fan 251; and a duct that includes end edges 261, 262, where openings 263, 264 are formed in positions facing both end faces of a fixing roller 210 in a shaft direction.例文帳に追加
超微粒子除去装置２５０は，吸引ファン２５１と，定着ローラ２１０の軸方向の両端面に対向する位置に開口部２６３，２６４の形成された終端部２６１，２６２を備えるダクトを有する。 - 特許庁
Particle removal performance is measured by using an aqueous solution in which an average particle diameter of ferric hydroxide colloidal particles is 9 to 30 nm and a pH for stabilizing the colloidal particles is 1.5 to 3.5, as a test solution.例文帳に追加
平均粒子径９〜３０ｎｍの水酸化第２鉄コロイド粒子と該コロイド粒子を安定させるためのｐＨが１．５〜３．５であることを特徴とする水溶液を試験液として粒子除去性能を測定する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a display panel, raising productivity without variation in weight of particles which cells are filled with, and without requiring execution of particle removal step to a partition for securing a gap between substrates.例文帳に追加
セルに充填される粒子量にばらつきがなく、また、基板間ギャップ確保用隔壁に対する粒子除去工程を実施する必要がなく、生産性を高めることのできるディスプレイパネルの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an editing device for tape carrier for semiconductor device that can consistently perform processing, such as the various editing operations, particle removal, judgments of non-defective products and defective products, and so on.例文帳に追加
種々の編集作業、異物取り、良品および不良品の判定等の処理を一貫して行うことができる半導体装置用テープキャリアの編集装置を提供する。 - 特許庁
Particle removal performance is measured with non-aqueous solution having ferric hydroxide colloidal particles of an average particle diameter 13 to 200 nm where pH for stabilizing the colloidal particles ranges from 2.5 to 4.0 as testing liquid.例文帳に追加
平均粒子径１３〜２００ｎｍの水酸化第２鉄コロイド粒子と該コロイド粒子を安定させるためのｐＨが２．５〜４．０であることを特徴とする非水溶液を試験液として粒子除去性能を測定する。 - 特許庁
In the engine room, an engine 12, a drain pipe 25, a fine particle removal device 28 provided in the drain pipe 25, and a drain structure of the drain pipe 25 are installed.例文帳に追加
その内部には、エンジン１２や排気管２５、排気管２５内に設けられた微粒子除去装置２８、排気管２５の水抜き構造３０が設置されている。 - 特許庁
The non-aqueous solution created by controlling mixture ratio of the ferric hydroxide colloidal particles of small diameter having a particle diameter of the ferric hydroxide colloidal particles as a nucleus with surfactant concentration is used to evaluate the particle removal performance of the film.例文帳に追加
この水酸化第２鉄コロイド粒子の粒子径を核としての小径の水酸化第２鉄コロイドと界面活性剤濃度の混合比で制御して作製した非水溶液を用いて膜の粒子除去性能を評価する - 特許庁
To easily remove a particle adhered to a substrate or an elecrostatic chuck in a vacuum atmosphere about a particle removal device for removing the particle adhered to the substrate of the reticle or the like or the electrostatic chuck, and an exposure device.例文帳に追加
本発明は、レチクル等の基板あるいは静電チャックに付着したパーティクルを除去するパーティクル除去装置および露光装置に関し、基板あるいは静電チャックに付着したパーティクルを真空雰囲気内において容易に除去することを目的とする。 - 特許庁
To provide a cleaning agent for a magnetic disk substrate; wherein the dispersibility of particles detached from the surface of a substrate is good because the cleaning agent has reasonable etching properties while having excellent detergency to residues derived from a coolant, thereby achieving excellent particle removal performance.例文帳に追加
クーラント由来の残渣に対して優れた洗浄性を有するとともに適度なエッチング性を有することで基板表面から脱離したパーティクルの分散性が良好であり、優れたパーティクルの除去性を実現可能にする磁気ディスク用基板洗浄剤を提供することを目的とする。 - 特許庁
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