「あとガス」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

回収された不純ヘリウムガスをガスバッグ５２に貯め、これを回収ガス圧縮機５３で加圧した後、ヘリウム乾燥機５４で乾燥し、不純カードル５５に貯留する。例文帳に追加

The recovered impure gaseous helium is stored in a gas bag 52, pressurized with a recovery gas compressor 53, dried with a helium dryer 54, and stored in an impure cadre 55. - 特許庁

ＮＯx 含有排ガスをアンモニア注入器１０に導入した後、この排ガスを脱硝反応塔１１で反応させて排ガス中のＮＯx を分解する。例文帳に追加

After introducing an exhaust gas containing NOx into an ammonia infuser 10, the exhaust gas is made to react in a denitrification tower 11 to decompose NOx in the exhaust gas. - 特許庁

作業を停止した後、ガスボンベケースから簡単な操作手順でカセットガスボンベを取り外すことができる作業機のカセットガスボンベ取付構造を提供する。例文帳に追加

To provide a mounting structure of a cassette gas cylinder of a work machine capable of removing the cassette gas cylinder with simple operation procedures from a gas cylinder case after stopping a work operation. - 特許庁

ＣＶＤ排ガス中に含まれる未反応の原料ガス及び中間生成物を分解処理又は反応転化処理して一部を分解した後、ハロゲン化水素ケイ素ガスと塩化水素とを分離回収する。例文帳に追加

Unreacted raw material gas and intermediate products contained in a CVD waste gas are decomposed or converted by reaction to decompose a part thereof, following which hydrogen halide, silicon gas, and hydrogen chloride are separated and recovered. - 特許庁

水素プラズマ処理の後、水素ガスを十分排気するために窒素プラズマ処理を行い、続いて窒素含有ガスでパッシベーション膜９の成膜初期から水素ガスを含まないパッシベーション膜９を形成する。例文帳に追加

After a hydrogen plasma treatment, nitrogen plasma treatment is conducted, so as to sufficiently discharge gaseous hydrogen and then the passivation film 9 which does not contain gaseous hydrogen from the initial period of the formation of the passivation film 9 is formed by a gas which contains nitrogen. - 特許庁

発泡が完了し、キャビテ3 内の樹脂表面温度が所定の脱ガス温度以下になった後に、発泡成形体内の発泡ガスを金型内で脱ガスする。例文帳に追加

After foaming is complieted and the surface temperature of the resin in the cavity 3 become predetermined degassing temperature or lower, the foaming gas in the foamed molded object is degassed in a mold. - 特許庁

一方、キャリアガスによって希釈された炭素原料ガスが、ガス排気配管系３０から石英管１３へ供給され、加熱手段１５で加熱分解された後に触媒基板１と接触させられる。例文帳に追加

A carbon raw material gas diluted by a carrier gas is supplied to the quartz tube 13 from a gas exhaust pipe line 30, is thermally decomposed by a heating means 15 and brought into contact with the catalyst substrate 1. - 特許庁

そして、前記炭化水素系ガスはトルエンガス、ガス圧力は０.１〜２Ｐａとし、前記パルスＲＦ電圧の印加終了後、１０〜５０μｓ経過した後にＤＣパルス電圧を印加する。例文帳に追加

The hydrocarbon-based gas is toluene gas, the gas pressure is set to be 0.1-2 Pa, and the DC pulse voltage is applied in 10-50 μs after completion of application of the pulse RF voltage. - 特許庁

燃料電池システム１は、エアと水素ガスを混合して構成された反応ガスを触媒反応により燃焼しオフガスとともに水蒸気を排出する触媒ヒータ５０をさらに備える。例文帳に追加

The fuel cell system 1 also includes a catalytic heater 50 firing the reactive gas constituted by mixing the air with hydrogen gas by catalytic reaction to discharge water vapor together with the offgas. - 特許庁

ガス導入口からの原料ガスＧが、堤部材２３の外周面に形成されたガス受入領域６０に当たってその上面側に乗り上げた後、サセプタ１２上の基板Ｗの主表面に沿って流れる。例文帳に追加

A raw material gas G from a gas inlet hits a gas-receiving region 60 formed on the outer side of a bank 23, then runs over onto its upside and flows along the main surface of a substrate W on a susceptor 12. - 特許庁

パージ用ガスは所定の温度まで昇温された後、プロセスガスライン９及びパージ用ガスライン１９を介して、真空ポンプ６により排気される。例文帳に追加

After the purging gas is heated to a specified temperature, the purging gas is exhausted by a vacuum pump 6 through a process gas line 9 and a purging gas line 19. - 特許庁

このインキュベーション工程は、モノシランガスを所定時間導入する第１工程と、この第１工程の後にフッ化タングステンガスとモノシランガスを所定時間導入する第２工程と、を複数回繰り返す工程である。例文帳に追加

The incubation process repeats a first step for introducing monosilane gas for a specified time, and a second step for introducing tungsten fluoride gas and monosilane gas for a specified time following to the first step a plurality of times. - 特許庁

生物学的処理に際し発生する消化ガスから硫化水素を分離した後の、主成分がメタンと二酸化炭素である混合ガスを、吸着貯蔵することを特徴とする消化ガスの貯蔵方法。例文帳に追加

In the method for storing digestive gas, a gas mixture whose main components are methane and carbon dioxide is adsorbed and stored after hydrogen sulfide is separated from digestive gas generated along with a biological treatment. - 特許庁

分離した天然ガスはガスコンプレッサ３で昇圧した後ガスホルダー５に貯留し、コージェネレーション装置７に供してエネルギ源に供される。例文帳に追加

The separated gas is pressurized with a gas compressor 3, stored in a gas holder 5 and supplied to a cogeneration device 7 as an energy source. - 特許庁

ＴＭＩ、ＴＭＩ以外のIII族元素の原料及び窒素ガスの供給を停止し水素ガスの供給を開始した後にアンモニアガスの供給を継続することにより行ってもよい。例文帳に追加

Further, the particle suppression processing may be performed by continuously supplying the ammonia gas, after the supply of TMI, the material of group III element other than TMI, and the nitrogen gas is stopped and then the supply of hydrogen gas is started. - 特許庁

揮発性麻酔剤と亜酸化窒素を含む余剰麻酔ガスを処理する方法であって、前記麻酔余剰ガスを触媒と接触させた後、吸着材と接触させることに要旨を有する余剰麻酔ガスの処理方法。例文帳に追加

The anesthetic gas containing volatile anaesthetics and nitrous oxide is processed, the surplus anesthetic gas is brought into contact with a catalyst, and then brought into contact with an adsorbent. - 特許庁

製造工程１０から生じるＣＦ４、ＮＦ３を含むＰＦＣガスを含有する排ガスを濃縮装置１８で濃縮した後、窒素をキャリアガスとしてクロマト分離装置２０でクロマト分離する。例文帳に追加

An exhaust gas containing PFC gas containing CF_4 and NF_3 generated from a production process 10, after being concentrated by a concentrator 18, is separated by a chromatographic separator 20 using nitrogen as carrier gas. - 特許庁

乾燥ガス発生部３１にて発生されたフッ素系不活性液体の乾燥ガスはヒータ３７によって加熱された後、乾燥ガス供給ノズル３０から供給される。例文帳に追加

Drying gas of fluorine inert fluid generated by a drying gas generator 31 is heated by a heater 37 and then fed through a drying gas feed nozzle 30. - 特許庁

乾燥ガス発生部３１にて発生された低分子シリコーンの乾燥ガスはヒータ３７によって加熱された後、乾燥ガス供給ノズル３０から供給される。例文帳に追加

The drying gas of low molecular silicone generated by drying gas generator 31 is supplied from a drying gas supply nozzle 30 after being heated by heater 37. - 特許庁

易重合性物質を燃焼させた後のガスを排気ガスに送るための送風機として耐熱性の高いものを用いなくてもよく、エネルギー効率に優れた排気ガス処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exhaust gas treatment device having a high energy efficiency and dispensing with the use of an air blower with a high heat resistance to distribute, to the exhaust gas, a gas after burning an easy polymerizable substance. - 特許庁

排ガス中の三酸化硫黄と、この排ガス中に注入したアンモニアとの生成化合物を集塵装置で効率良く捕集することのできる排ガス処理方法及び装置を提供する。例文帳に追加

To provide a waste gas treating method, by which a produced compound of sulfur trioxide in a waste gas with ammonia injected in the waste gas is efficiently collected by a dust collector, and an apparatus therefor. - 特許庁

製造工程１０から生じるＣＦ４、ＮＦ３を含むＰＦＣガスを含有する排ガスを吸着装置１８で一旦吸着した後、窒素をパージガスとして脱離させる。例文帳に追加

Exhaust gas containing PFC gas, which contains CF4 and NF3, generated from a manufacturing process 10 is once adsorbed in an adsorbing device 18 and, thereafter, nitrogen is used as purge gas to desorb the adsorbed gas. - 特許庁

空気を主精留部で製品窒素と酸素富化液化空気とに分離した後、さらに酸素富化液化空気を第２の精留部で酸素富化液と窒素富化ガスとに分離し、得られた窒素富化ガスを循環ガスとする。例文帳に追加

Air is separated, at a main rectifying section, into product nitrogen and oxygen rich liquefied air which is then further separated, at a second rectifying section, into oxygen rich liquid and nitrogen rich gas serving as circulation gas. - 特許庁

ガス通路に配置されたガス流量制御子６の手動での操作を可能とする操作手段７と、このガス流量制御子とを、バックラッシュを有するギアトレイン８を介して連結する。例文帳に追加

The operation means 7 enabling the manual operation of the gas flow control element 6 disposed in the gas passage is connected to the gas flow control element through a gear train 8 with a backlash. - 特許庁

作動時においてガス発生器１内で発生した燃焼ガスは、ガス排出口16から排出された後、環状空間72を通り、連通孔58から外部に排出される。例文帳に追加

The combustion gas generated in a gas generator 1 during operation passes through an annular space 72 and is discharged from the communication holes 58 to the outside after being discharged from the gas discharge openings 16. - 特許庁

ガス上昇管を上昇するガスをノズルから吐出させ、そのノズルの外周において、ガス上昇管にエア供給量調整手段を備えたブロア（２２）のエア吐出口を接続してもよい。例文帳に追加

The ascending gas through the gas ascending pipe is discharged through the nozzle and the air discharging port of the blower (22) equipped with the air supplying amount regulating means can be connected to the gas ascending pipe in the outer periphery of the nozzle. - 特許庁

冷房時、水量制御弁装置９０をして冷却水を排気ガス熱交換装置３０を介さずに直接ガスエンジン７に帰還せしめるようにし、ガスエンジン７を冷却した後の温度を、低くした。例文帳に追加

The water rate control valve 90 controls cooling water not to flow through the exhaust gas heat exchanger but to return directly back to a gas engine 7 during cooling operation thus lowering the temperature of cooling water after cooling the gas engine 7. - 特許庁

赤外光源１からの光はセル３、４のサンプルガスに含まれる^１２ＣＯ_２ガスおよび^１３ＣＯ_２ガスによって吸収された後、赤外検出器１１、１２により強度が測定される。例文帳に追加

The light from an infrared light source 1 is absorbed by 12CO2 gas and 13CO2 gas contained in a sample gas of cells 3 and 4 and thereafter measured by infrared detectors 11 and 12. - 特許庁

製造工程１０から生じるＣＦ_4、Ｃ_2Ｆ_6を含むＰＦＣガスを含有する排ガスを濃縮装置１８で濃縮した後、窒素をキャリアガスとしてクロマト分離装置２０でクロマト分離する。例文帳に追加

Exhaust gas comprising PFC gas which contains CF_4 and C_2F_6 produced from a producing process 10 is concentrated by a concentrator 18 and, thereafter, is separated by a chromatographic separator 20 by using nitrogen as a carrier gas. - 特許庁

真空容器３２を１×１０＾４Ｐａまで排気した後、カソードケース５０に付属するガス噴出管８２からプロセスガス（アルゴンと酸素の混合ガス）８８を導入する。例文帳に追加

After the inside of the vacuum vessel 32 is exhausted to 1×10^4 Pa, a process gas (a gaseous mixture of argon and oxygen) 88 is introduced from a gas jet tube 82 belonging to the cathode case 50. - 特許庁

ＮＯx 含有排ガスをアンモニア注入器１０に導入した後、この排ガスを脱硝反応塔１１で反応させて排ガス中のＮＯx を分解する方法。例文帳に追加

The denitrification process for decomposing NO_x in the exhaust gas comprises a step of causing the exhaust gas to react in a denitrification tower 11 after introducing an NO_x containing exhaust gas into an ammonia injection vessel 10. - 特許庁

熱分解部３０で発生するガスの一部を水蒸気改質部９０で水蒸気改質することにより水素ガス濃度を高め、しかる後にこのガスを熱分解部３０に直接導入する。例文帳に追加

A part of a gas generated in a thermal decomposition part 30 is reformed with steam at a steam reforming part 90 to raise the concentration of a hydrogen gas and then the gas is directly introduced into the thermal decomposition part 30. - 特許庁

生物学的処理に際し発生する消化ガスから硫化水素を除去し、硫化水素が除去された消化ガスを加圧した後、水分を除去し、次いで吸着貯蔵することを特徴とする消化ガスの吸着貯蔵方法例文帳に追加

In this adsorptive storage method for the digestion gas, hydrogen sulfide is eliminated from the digestion gas generated in a biological treatment, and after pressurizing the digestion gas, from which the hydrogen sulfide is eliminated, moisture is eliminated, and the digestion gas is adsorbed for storage. - 特許庁

還元雰囲気溶融炉１１から排出される溶融排ガス１３を導くための溶融排ガスライン１４に炭素析出反応塔３６、後燃焼室１５、ガス冷却器１６及びバグフィルタ１７を備える。例文帳に追加

A carbon deposition reaction column 36, a post combusting chamber 15, a gas cooler 16 and a bag filter 17 are arranged in a melting waste gas line 14 for introducing the melting waste gas 13 discharged from the reducing atmosphere melting furnace 11. - 特許庁

脱水・脱ガス処理で予めガスを放出した後、エキシマレーザ光を照射するので、エキシマレーザ光照射時のガスの放出が低減し、ＥＬ発光層の剥離が防止できる。例文帳に追加

The irradiation of the excimer laser beam after the previous discharge of gas by dehydrating and degassing can reduce gas discharge at the time of the irradiation with the excimer laser beam, thus preventing any peeling of an EL light emitting layer. - 特許庁

放出ガス中の管理対象ガス温度Ａ１が管理値に達した後は、その管理対象ガス成分濃度が管理値となるように、燃焼炉１１の入口温度Ｔ１及び出口温度Ｔ２を上げて運転する。例文帳に追加

After a gas temperature A1 to be managed in the released gas reaching a management value, it operates the combustion furnace 11 with the inlet temperature T1 and the outlet temperature T2 on the increase so that the concentration of the gas component to be managed reaches the management value. - 特許庁

これにより、蒸発部１からの排気ガスは一部が大気に放出され（排気ガス９）、残りが過熱部２へ流入した後に大気に放出される（排気ガス１０）。例文帳に追加

The exhaust gas from the evaporation part 1 is partly emitted into the atmosphere (the exhaust gas 9), and the remaining part flows into the superheating part 2, and then, is emitted in the atmosphere (the exhaust gas 10). - 特許庁

また、５００〜８００℃で亜硫酸ガス、無水硫酸ガス又は塩素ガスを接触、反応させた後ガラス表面を６５０〜９００℃に再加熱するガラス表面処理方法である。例文帳に追加

Or, after the glass surface is brought into contact and reacted with sulfurous acid gas, anhydrous sulfuric acid gas or chlorine gas at 500 to 800°C, the glass surface is heated again to 650 to 900°C. - 特許庁

次に、シリコン領域６Ｂをエッチングした後、ＣＦ__4ガスとＯ_2ガスとの混合ガスを用いたプラズマエッチングにより残渣９を除去するとき、側壁保護膜８によりシリコン薄膜１０の形状を保つ。例文帳に追加

In addition, the protective films 8 maintain the shape of the film 10 at the time of removing etching residues 9 by performing plasma etching using a mixed gas of CF4 gas and O2 gas after the silicon area 6B is etched. - 特許庁

ガスアトマイズ法による金属粉末の製造方法において、ガスを巻き込ませた状態の金属溶湯をノズルより噴出させ、該ノズルの周囲から高圧ガスを吹き付ける金属微粉末の製造方法。例文帳に追加

In the production method for a fine metal powder by gas atomizing, a molten metal in a gas-entrained state is jetted from a nozzle and a high-pressure gas is blown from the circumference of the nozzle against the metal. - 特許庁

排ガス中の三酸化硫黄と、排ガスに注入したアンモニアとの生成化合物を乾式電気集塵装置で効率良く捕集することのできる排ガス処理方法及び装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method for treating exhaust gas capable of efficiently collecting compounds formed of sulfur trioxide in the exhaust gas and ammonia injected to the exhaust gas by a dry electrical dust precipitator and to provide equipment therefor. - 特許庁

都市ガスと燃料電池から排出される未反応排ガスとを合流部305で合流混合させた後、燃料ガスとして分流管8に供給する。例文帳に追加

After a city gas and an un-reacted exhaust gas discharged from a fuel cell are joined and mixed together in a joining section 305, the mixed gas is supplied to a branching pipe 8 as a fuel gas. - 特許庁

溶融塩を凝固させた後、又は当該溶融塩を凝固させる前、若しくは当該溶融塩を凝固させる途中から槽内空間にガス供給管１９から乾燥ガスを注入して、槽内空間を乾燥ガスで置換する。例文帳に追加

Dry gas is injected into the tank space through a gas delivery pipe 19, and replaces the air in the tank space after, before, and while the fused salt is solidified. - 特許庁

エアバッグ14が展開した後は、ガス通路部35の開口面積を小さくして、ガス量を抑制し、長時間にわたりガスを供給してエアバッグ14が展開した状態を維持する。例文帳に追加

After deploying the airbag 14, the opening area of the gas passage 35 is reduced, the gas amount is reduced, and gas is supplied for long hours to maintain the airbag 14 in a deployed state. - 特許庁

本発明の呼気ガス分析装置１は、搬送手段２によって、複数の被検者の検査試薬投与前・後における呼気ガスをそれぞれ収納した複数の呼気ガス容器１０を任意の順序で搬送する。例文帳に追加

In this expired gas analyzer 1, a plurality of expired gas vessels 10 individually storing expired gas from a plurality of subjects before/after medication of a test reagent are conveyed in an optional sequence by means of a conveying means 2. - 特許庁