「あとガス」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

加熱燃焼室１４内での燃焼により発生した排ガスは、加熱燃焼室１４内を上昇し、排ガス導入管路２１を介して排ガス通路に導かれて降下した後に、排ガス出口１７から炉外に取り出される。例文帳に追加

The exhaust gas produced by combustion in the heating combustion chamber 14 rises inside the heating combustion chamber 14, is introduced into the exhaust gas passage 16 via an exhaust gas introduction duct 21 and falls down, and subsequently is taken out from an exhaust gas outlet 17 to the outside of the furnace. - 特許庁

石炭ガス化プロセスの生成ガス中から吸収除去した硫黄化合物から硫酸が容易に回収でき、この硫酸を利用して生成ガス中のアンモニア等の除去処理が低コストで可能なガス精製方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of gas purification capable of easily recovering sulfuric acid from sulfur compounds absorbed and removed from the gas produced in a coal-gasifying process and capable of, at low cost, removing ammonia and the like in the produced gas using the sulfuric acid. - 特許庁

前記ガス精製装置に導入する前の未処理のガスおよび／または導入した後の処理後のガスに含まれる前記シロキサン化合物の濃度をオンサイトで実質連続的に検知し、得られたシロキサン化合物濃度に基づいて、前記ガス精製装置の運転諸元を決定することを特徴とする。例文帳に追加

In the refining method, the concentration of the siloxane compound contained in untreated gas before introducing into the gas refining apparatus and/or a gas after treatment after introduction is substantially continuously detected and operation specification of the gas refining apparatus is determined based on the resultant siloxane compound concentration. - 特許庁

溶解槽７にて有機性排水１０ａに未溶解の排気ガス１７によりガスリフト管２０内にガスリフトポンプ効果を生じさせ、リアクター１の下部の有機性排水１０ａと微生物付着担体６をガス分離槽１９に汲み上げた後、リアクター１の下端部に戻す循環流を形成させる。例文帳に追加

A circulation flow system, which produces the gas lift pump effect in the gas lift pipe 20 by an undissolved gas 17 at the organic drainage 10a in the dissolving tank 7, pumps the organic drainage 10a at the lower part of the reactor 1 and microorganism-attached carrier 7 to the gas. - 特許庁

カール発生による不具合を防止でき、ガスバリア層が多層構造を有する場合も高い製造効率且つ低コストで生産することができ、ガスバリア層の損傷を防止することにより、長期にわたり良好なガスバリア特性を発揮することが期待できるガスバリアフィルムを提供する。例文帳に追加

To provide a gas barrier film capable of inhibiting faults caused by curling incidence, producing even a gas barrier layer of a multilayered structure with high efficiency and low cost and anticipating long term exertion of good gas barrier properties by preventing damages on the gas barrier layer. - 特許庁

原料ガス供給ユニットは、第２制御バルブを開いて、第１制御バルブと第２制御バルブ間の減圧状態にある原料ガス管内に原料ガスを導入した後、第１制御バルブを開くように制御することにより、原料ガスを、成膜空間に供給する。例文帳に追加

The raw material gas supply unit opens the second control valve, introduces raw material gas into the raw material gas pipe in an evacuated state between the first and second control valves, and supplies raw material gas into the film deposition space by performing the control to open the first control valve. - 特許庁

石炭ガス化炉１２で生成した石炭ガス化ガスをガス精製装置１４で精製した後、これを膨張タービン１６に導き、膨張タービン１６に連結する発電機１８で発電し、これを本プラントの動力源として利用する。例文帳に追加

After purifying the coal-gasified gas which is generated in a coal gasifying furnace 12 by a gas purifying device 14, the purified coal-gasified gas is introduced into an expansion turbine 16, and a generator 18 connected to the expansion turbine 16 generates power, and the power is used as a power source for the coal-gasified gas supply plant. - 特許庁

熱交換器に通じてガスを予熱した後、メタンを接触酸化する酸化触媒に通じ、再び熱交換器に通じて反応前のガスとの熱交換により熱回収を行うとともに、被処理ガス中のメタン濃度に応じて被処理ガスの流量を変化させる。例文帳に追加

After the gas is preheated with a heat exchanger, methane is allowed to pass through an oxidation catalyst that catalytically oxidates methane, the gas is again allowed to pass through the heat exchanger to recover heat by exchanging heat with the gas before the chemical reaction, and the amount of the gas to be treated is allowed to vary in response to the methane concentration in the treated gas. - 特許庁

炭酸ガス等の不燃性ガスを空圧工具１０を作動させるために充分な容量となり得る圧力の不燃性ガスを封入させた高圧ガス保安法適用外の小型圧力容器１を用い，空圧工具を作動させる常用圧力帯に減圧させた後に空圧工具に接続し使用するものである。例文帳に追加

A small-sized pressure container 1 exempt from the application of the High Pressure Gas Safety Law, wherein noncombustible gas such as carbon dioxide gas is sealed with pressure of having capacity sufficient for actuating the pneumatic tool 10, is used by connecting to the pneumatic tool after decompressed to a normal pressure zone actuating the pneumatic tool. - 特許庁

バルブＶ１〜８を開閉し、バルーン１１内に窒素ガスを充填した後、ポンプ１２駆動によりバルーン内の窒素ガスを、吸着材が充填された置換容器１５に注入して置換容器内の被処理ガスを窒素ガスに置換する。例文帳に追加

A valve V1-8 is opened/closed, the nitrogen gas is packed in a balloon 11, and thereafter the nitrogen gas in the balloon is injected into a substitution vessel 15, in which an adsorbent is packed, by driving of a pump 12 so that a gas to be treated in the substitution vessel is substituted by the nitrogen gas. - 特許庁

このガス燃料Ｆ２の噴霧の先端部が点火プラグ３８の点火位置を通過した後であり、かつ、ガス噴射弁３５がガス燃料Ｆ２を噴射する期間の中間よりも後に、点火プラグ３８はガス燃料Ｆ２の噴霧に点火を行う。例文帳に追加

The spark plug 38 ignites the spray of the gaseous fuel F2 after a front end of the spray of the gaseous fuel F2 passes the ignition position of the spark plug 38 and after the middle of a time period in which the gas injection valve 35 injects the gaseous fuel F2. - 特許庁

成膜チャンバー内において全面にＷ膜６を成膜した後、この成膜チャンバー内にエッチングガスとして強い還元作用を有するＣｌＦ_3 ガスを供給し、このガスを用いたガスエッチングにより、Ｗ膜６および密着層５のエッチバックを行う。例文帳に追加

After a W film is formed over the entire surface in a film-forming chamber, the film-forming chamber is fed with a ClF3 gas comprising a string reducing function as an etching gas, so that the W film and the tight-contact layer 5 etched back by a gas etching using the gas. - 特許庁

室内の空気を用いてガスを燃焼させ、燃焼排ガスを空気で希釈した後に室内に放出するガスファンヒータに関し、高い設計自由度を確保でき、設置場所が限定されないガスファンヒータを提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a gas fan heater capable of securing a degree of freedom in designing and not limited in the place of installation, in the gas fan heater wherein gas is burnt employing indoor air and the combustion exhaust gas is diluted by air to discharge the diluted gas into an indoor space. - 特許庁

前面のエンドプレート２３ａの上部には未反応ガス入口マニホールド２４、下部には既反応ガス出口マニホールド２６が配設され、後面のエンドプレート２３ｂの上部には既反応ガス入口マニホールド２７、下部には未反応ガス出口マニホールド２５が配設されている。例文帳に追加

A non-reaction gas inlet manifold 24 is arranged in an upper part of the front surface end plate 23a, and a reacted gas outlet manifold 26 is arranged in a lower part thereof and a reacted gas inlet manifold 27 is arranged in an upper part of the rear surface end plate 23b, and a non- reaction gas output manifold 25 is arranged in a lower part thereof. - 特許庁

薫蒸処理した後の残留した薫蒸ガスおよびＶＯＣ、大気汚染ガス等の各種汚染ガスを吸着除去し、収蔵庫の薫蒸処理後の安全管理や、新築、リフォーム後の建材等から発生するＶＯＣや大気汚染ガスを吸着除去して、人や物に対して安全な環境を提供する。例文帳に追加

To provide a safe environment for the human body and substances by adsorbing and eliminating various kinds of gases such as a fumigate gas after fumigation, VOC and air pollution gas, by safely maintaining a storage after fumigation, and by adsorbing and eliminating VOC and the air pollution gas generated from construction materials after construction and reforming of houses. - 特許庁

ガスセンサ室１からの試料ガスの追出しを開始してから所望の時間が経過した後、バルブＶ３を閉じ、さらにバルブＶ２を切り替えて、ガスセンサ室１に残留する残香におい成分をガスセンサ室２に導入して測定する。例文帳に追加

After a lapse of desired time after started expulsion of the sample gas from the gas sensor chamber 1, the valve 3 is closed and the valve V2 is switched over, thereby a lingering odor component remained in the gas sensor chamber 1 is introduced into the gas sensor chamber 2 to be measured. - 特許庁

処理室に連通する第１ノズルから、処理室内の排気速度を低下させた状態で処理室内に第１ガスを供給する工程と、第１ガスの供給を止めた後、第１ノズル内に不活性ガスを供給する工程と、処理室内に残留する第１ガスを除去する工程と、を有する。例文帳に追加

A manufacturing method of a semiconductor device has steps of supplying a first gas into a processing chamber from a first nozzle communicating with the processing chamber while decreasing exhaust velocity in the processing chamber, supplying an inert gas into the first nozzle after stopping the supply of the first gas, and removing the first gas remaining in the processing chamber. - 特許庁

エアバッグ９のステアリングコラムカバーに対応する部位に区画部１０が形成されているため、ガスＧは区画部１０の左右両側にあるガス流路１４に導入された後、区画部１０内にガス導入口１３からガスＧの噴射方向に対する折り返し方向で導入される。例文帳に追加

Since a demarcation part 10 is formed at a part corresponding to a steering column cover of an airbag 9, gas G is introduced in gas flow passages 14 on both sides of the demarcation part 10, and introduced into the demarcation part 10 from a gas inlet 13 in the returning direction to the ejection direction of gas G. - 特許庁

原料ガスと反応ガスとの成膜ガスを用いて、原料ガスの分解温度以上に加熱された基板上で成膜せしめるＣＶＤ法による薄膜製造方法に従って薄膜を製造した後、さらにこの薄膜の成膜温度よりも低い温度で結晶化アニール処理を行う。例文帳に追加

After manufacturing a thin film by the thin film manufacturing method based on the CVD method for forming a film on a substrate heated to the decomposition temperature or more of raw material gas by using film formation gas consisting of the raw material gas and reaction gas, crystallization annealing processing is performed at a temperature lower than the film formation temperature of the thin film. - 特許庁

液化ガス中に含まれる残渣分を常温・常圧で液体である有機溶剤に抽出した後、該有機溶剤中の残渣分をガスクロマトグラフ法で測定することで、前記液化ガス中の残渣分を測定・定量する液化ガス中の残渣分分析方法。例文帳に追加

In this residual portion analytical method in a liquefied gas, the residual portion included in the liquefied gas is extracted into an organic solvent which is the liquid at an ordinary temperature and an normal pressure, and then the residual portion in the organic solvent is measured by a gas chromatograph method, to thereby measure and determine the residual portion in the liquefied gas. - 特許庁

次に、ガス導入部２６を介してパージガス供給源３１からパージガスをチャンバ１内に導入し、チャンバ１内雰囲気をパージガスで置換するとともに、チャンバ１内の圧力を大気圧に戻した後、封止部材２１を下降させて精密吐出ノズル５の隔離を解除する。例文帳に追加

Then, purge gas is introduced into the chamber 1 from a purge gas supply source 31 via a gas introduce part 26 to replace the atmosphere in the chamber 1 with the purge gas, and after returning the pressure in the chamber 1 to the atmospheric pressure, the sealing member 21 is lowered to release the isolation of the precise discharge nozzle 5. - 特許庁

そして、可視光カットＸ線透過膜１０７を加熱し、所定の温度になった後、ガス導入口１１５から塩素ガスとSiCl_4ガスの混合ガスを導入するとともに、真空ポンプ１１６により排気して、所定の圧力（例えば0.01〜0.1Torr）に維持する。例文帳に追加

The transmission screen 107 for cutting visible ray is heated to reach a prescribed temperature, and mixed gas containing chlorine gas and SiCl4 gas is introduced from a gas inlet 115, and exhausted by a vacuum pump 116 so as to hold to a prescribed pressure (for example 0.01-0.1 Torr). - 特許庁

シリコンウェーハに水素ガス、アルゴンガス、あるいはこれらの混合ガス雰囲気中で高温熱処理を施した後、ウェーハ取り出し温度まで降温される降温過程の一部または全部を、窒素ガス含有雰囲気中で２℃／ｍｉｎ以下の速度で降温する。例文帳に追加

After a silicon wafer has been subjected to high-temperature annealing in an atmosphere of hydrogen gas, argon gas or their mixture gas, a process for lowering the temperature down to a wafer take-out temperature is carried out partially or entirely, in an atmosphere containing nitrogen gas at a rate of 2°C/min or lower. - 特許庁

３００℃以上７００℃以下の含塵ガスを固気分離する固気分離装置を通過したガスで集塵ダストを加熱することができ、集塵ダストを加熱した後の塩素バイパスの排ガスに、塩素ガス又は塩化水素を注入する注入装置１３を備えてもよい。例文帳に追加

The collected dust can be heated with a gas passing through a solid-gas separating device subjecting a dust-containing gas of 300 to 700°C to solid-gas separation, and an injection device 13, injecting gaseous chlorine or hydrogen chloride into the exhaust gas of the chlorine bypass after the heating of the collected dust, may be equipped. - 特許庁

炭素原料Ｍを炉心管２１に入れ、水和ガス発生システム３０により発生した不活性ガスを９８℃以下の任意の温度に温水中に拡散させた湿性ガス（水和性ガス）を、２００〜３００℃に予備加熱した後、炉内２２内に投入する。例文帳に追加

Carbon raw material M is filled in a furnace core tube 21, a wet gas (hydrated gas) is prepared by diffusing an inert gas, which is generated from a hydrated gas generating system 30, in hot water at an arbitrary temperature of 98°C or lower, preheated to 200 to 300°C, and then fed to the inside of a furnace 22. - 特許庁

切換再生方式の排気ガス後処理装置１に用いる排気ガス切換弁１０において、円筒状の弁ハウジング１１の周壁部に排気ガス導入孔１２と排気ガス吐出孔１３、１４とを設け弁ハウジング１１内に同軸に回転軸１６を設ける。例文帳に追加

In this exhaust gas change-over valve 10 used in the exhaust gas aftertreatment device 1 of change-over regeneration system, an exhaust gas introduction hole 12 and exhaust gas discharge holes 13, 14 are provided in a peripheral wall part of a cylindrical valve housing 11, and a rotary shaft 16 is coaxially provided in the valve housing 11. - 特許庁

薫蒸処理した後の残留した薫蒸ガスおよびＶＯＣ、大気汚染ガス等の各種汚染ガスを吸着除去し、収蔵庫の薫蒸処理後の安全管理や、新築、リフォーム後の建材等から発生するＶＯＣや大気汚染ガスを吸着除去して、人や物に対して安全な環境を提供する。例文帳に追加

To provide environment safe to human and objects by adsorbing and removing various pollutant gases such as fumigation gas remaining after fumigation treatment, volatile organic compounds (VOC), or atmospheric pollutant gases, safety controlling after fumigation of a refrigerator, adsorbing and removing VOC or atmospheric pollutant gases occurring from building materials of new houses or after reforming. - 特許庁

燃料極における燃料ガスの圧力が低下した後に、燃料電池の電圧が判定電圧よりも下がったことを条件として、燃料極に供給されるガスに含まれる燃料ガスの純度低下による燃料ガスの欠乏を判断する。例文帳に追加

On condition that the voltage of a fuel cell has dropped lower than a judgement voltage after the pressure of a fuel gas in a fuel electrode has decreased, shortage of the fuel gas due to purity deterioration of the fuel gas contained in a gas supplied to the fuel electrode is determined. - 特許庁

これにより、混合金属などの異物が分離除去され、ここで発生したガス状の炭化水素は脱硫塔１５において凝固点の相違によって分別され、ガス発電装置３の燃料に適したガス成分のみが吸収塔２０を介して精製された後にガスホルダ２２に回収される。例文帳に追加

Thereby, foreign matters such as contaminated metals in the waste plastics are removed and gaseous hydrocarbons generated here are separated in a desulfurization column 15 by the difference in the solidification temperatures and only gas components suitable as the fuel for the gas electric power generation system are purified through an absorption column 20 and is collected into a gas holder 22. - 特許庁

炭化室内へ高温領域で炭素と反応するガスを吹込んで付着カーボンを除去する方法において、窯出しされた後の炭化室内へ空気を吹込む操作と、炭酸ガス及び／若しくは水蒸気、又は炭酸ガス及び／若しくは水蒸気を含むガスを吹込む操作を交互に行なう。例文帳に追加

This method for removing a gas adapted to react with carbon at high temperatures into a carbonizing chamber 10 through jet nozzles 52a and 52b is conducted by alternating an operating of injecting air and an operation of injecting carbon dioxide and/or steam or a gas containing carbon dioxide and/or steam into a carbonizing chamber 10, thus removing carbon adherent to the carbonizing chamber 10 of the coke oven. - 特許庁

薫蒸処理した後の残留した薫蒸ガスおよびＶＯＣ、大気汚染ガス等の各種汚染ガスを吸着除去し、収蔵庫の薫蒸処理後の安全管理や、新築、リフォーム後の建材等から発生するＶＯＣや大気汚染ガスを吸着除去して、人や物に対して安全な環境を提供する。例文帳に追加

To provide environment safe to human and objects by adsorbing and removing various pollutant gases such as fumigation gas remaining after fumigation treatment, volatile organic compounds (VOC), or atmospheric pollutant gases, safety controlling after fumigation of a refrigerator, adsorbing and removing VOC or atmospheric pollutant gases to be generated from building materials of new houses or after reforming. - 特許庁

装置の小型化が容易であり、エッチング装置毎に装着することができると共に、プラズマ反応に使用した後の排ガス全てを再利用することができ、排ガス成分を高効率で回収することができる排ガス再利用装置及び排ガス再利用方法を提供する。例文帳に追加

To provide a system and a method for reusing exhaust gas in which the size of the system can be reduced easily, the system can be fixed to each etching system, exhaust gas used for plasma reaction can be reused entirely, and exhaust gas component can be collected with high efficiency. - 特許庁

廃プラスチックをガス化することにより水素と一酸化炭素を含有する合成ガスとスラグを得た後スラグを分離する合成ガスを製造する方法において、二酸化珪素を含有する無機物質を添加してガス化する。例文帳に追加

The method for producing synthesis gas, in which waste plastics are gasified to obtain slag and synthesis gas containing hydrogen and carbon monoxide and the obtained slag is separated, is characterized in that an inorganic substance containing silicon dioxide is added to waste plastics and the inorganic substance-added waste plastics are gasified. - 特許庁

ハニカム構造の触媒系を有する排ガス流れについて、該触媒系を通過する前と、通過した後の排ガスの圧力を測定し、その圧力差に基づいて排ガスの体積流量を求めることにより排ガス流量を測定する。例文帳に追加

In an exhaust gas flow having catalyst system of honeycomb structure, pressures of exhaust gas before passing through the catalyst system and after passing through the catalyst system are measured, and based on a difference of the measured pressures, a volume flow rate of the exhaust gas is found thereby measuring the exhaust gas flow rate. - 特許庁

高圧下でガスを高濃度に溶解させたガス溶解水を気泡が発生しないように大気圧まで緩やかに減圧した後に冷却するようにしているため、水に溶解したガスが逃げない状態でガスハイドレートを生成することができる。例文帳に追加

Since after being gradually depressurized to the atmospheric pressure so as not allow the bubbles to be generated, the gas dissolved water in which the gas is dissolved in the water at a high concentration under the high pressure is cooled, the gas-hydrate may be produced with the water-soluble gas held. - 特許庁

加熱炉温度を任意の時間割合で上昇させる過程で試料から発生したガスを昇温脱離ガス分析器内部の空気と共に真空ポンプで吸引し分析室に送った後分析室内部のガス濃度を高精度ガスセンサーで検出しコントローラーに記録する。例文帳に追加

Gas generated from a sample in a process for raising a furnace temperature at an optional time ratio is sucked by a vacuum pump together with the air inside this thermal desorption gas analyzer and sent into an analysis chamber, and then, a gas concentration inside the analysis chamber is detected by a high-precision gas sensor, and recorded in a controller. - 特許庁

本発明は、フランジ接合部のガスケット部分を、ガス漏れに伴い泡を形成する液体を塗布することにより濡らした後に、前記フランジ接合部のガス漏洩速度を、超音波式漏れ検出器を用いて測定するガス漏洩速度の測定方法である。例文帳に追加

In the method of measuring gas leak rate, after a gasket portion of the flange joint part is wetted by applying liquid for forming bubbles with the leak of gas, the gas leak rate of the flange joint part is measured using an ultrasonic leak detector. - 特許庁

スリーブ２またはスリーブの溶湯流入口４付近に不活性ガス注入口６を形成せしめ、不活性ガス注入口６からスリーブ内にアルゴンガス等の不活性ガスを供給した後に溶湯流入口４から金型キャビティ内に溶湯を充満させるようにした。例文帳に追加

An inert gas injection opening 6 is formed near a sleeve 2 or a molten metal inflow opening 4 of the sleeve, and after the inert gas such as argon is supplied from the injection opening 6 into the sleeve, the molten metal from its inflow opening 4 is filled in the metal mold cavity. - 特許庁

加熱炉１１０にて気化させた金属ガスをアルゴンガスをキャリアとして成型型１００のキャビティ１００ａに導入し、窒素ガスボンベ１４０からキャビティ１００ａ内に窒素ガスを導入して、キャビティ１００ａ内で還元性化合物を生成させる。例文帳に追加

The gaseous metal vaporized in a heating furnace 110 is introduced with gaseous argon as the carrier into a cavity 100a of the molding tool 100 and gaseous nitrogen is introduced into the cavity 100a from a gaseous nitrogen cylinder 140, by which the reducing compound is formed within the cavity 100a. - 特許庁

燃料ガス供給遮断手段（Ａ１〜Ａ３）はシステムの異常発生時にアノード入口への燃料ガス供給を遮断する一方で、アノードオフガス遮断手段（Ａ４〜Ａ５）はシステムの異常発生時にアノード出口を開放しておき、所定の条件が満たされた後にアノードオフガスを遮断する。例文帳に追加

While the fuel gas supply shut-off means (A1 to A3) shuts off fuel gas supply to the anode entrance at abnormalities of the system, the anode offgas shut-off means (A4, A5) keeps the anode exit open at the abnormalities, and the anode offgas is shut off after given conditions are satisfied. - 特許庁

この装置を用いて成膜する際に、原料ガス、反応ガス、キャリアガスのガス類をバイパスラインのバルブを開いた状態で流した後、バルブを閉じ又は可変バルブの場合には徐々に閉じながら成膜を開始する。例文帳に追加

In the case of forming a film by using the apparatus, gas components such as raw gas, reactive gas and carrier gas are allowed to flow in the opened state of the valve of the by-pass line and then the valve is closed, or in the case of a variable valve, film formation is started while gradually closing the valve. - 特許庁

ここで、冷却工程には、冷却体１６に冷媒ガスを流す冷媒ガス供給工程と、冷媒ガス供給工程の後、冷却体１６に冷媒ガスよりも熱容量が大きい冷媒液を流す冷媒液供給工程と、が含まれる。例文帳に追加

The cooling process includes: a refrigerant gas supply process for making the refrigerant gas flow through the cooling body 16; and a refrigerant liquid supply process of making the refrigerant liquid, having the heat capacity higher than that of the refrigerant gas, flow through the cooling body 16 after the refrigerant gas supply process. - 特許庁

フッ化物ガスを用いたガスプラズマエッチングによって、プラズマＣＶＤ装置の反応容器のクリーニングを行った後、反応室内にフッ化物ガスが残留した状態で、反応容器に基板を搬入し、薄膜形成用のプロセスガスを反応室に導入し、基板上に薄膜を形成する。例文帳に追加

After a reaction vessel of a plasma CVD apparatus has been cleaned by gas plasma etching using a fluoride gas, a substrate is carried into a reaction chamber while the fluoride gas still remains in the reaction vessel, and a thin-film formation process gas is introduced into the reaction chamber, thus forming a thin film on the substrate. - 特許庁

燃料ガス及び酸化剤ガスを加湿器に供給して純水タンク６から供給される純水２３で加湿した後、その加湿した燃料ガス及び酸化剤ガスを燃料電池１に供給して発電させる燃料電池発電システムに使用される純水タンク６である。例文帳に追加

This is a pure water tank 6 used for a fuel cell generation system in which a fuel gas and an oxidant gas are supplied in a humidifier and humidified by pure water 23 supplied from the pure water tank 6, and then, by supplying the fuel gas and the oxidant gas humidified to the fuel cell 1, power is generated. - 特許庁

露光時に、ガス拡散吸引ユニット８０のエア吹き出し口８２から記録ドラム１上の刷版１００にエアが吹き付けられ、エアにより拡散したガスがエアとともにガス拡散吸引ブロック８０のガス吸引口８３から吸引される。例文帳に追加

In the case of exposure, air is jetted to a printing plate 100 on the drum 1 from the port 82 of the unit 80, and the gas diffused by the air is sucked from the port 83 of the gas diffusing and sucking block 80 with the air. - 特許庁