例文 (999件) |
ぱいかぴっちの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 7457件
このときの、スパッタリング装置50の容器51内の圧力は、0.28Pa(パスカル)以上0.32Pa(パスカル)以下とする。例文帳に追加
Pressure in the container 51 of the sputtering system 50 is set in the range of 0.28-0.32 Pa(Pascal). - 特許庁
マスクパターンのピッチが狭くなった時のマスクパターンからの回折光の強度低下を抑える。例文帳に追加
To suppress reduction in the intensity of diffracted light from a mask pattern when the pitch of the mask pattern narrows. - 特許庁
ゲートウェイ回路18はIPスイッチ回路11と非パケット処理部15とを接続し、IPパケットを64Kpbsの音声データ等に変換する機能と、その音声データをIPパケットに変換する機能とを有する。例文帳に追加
A gateway circuit 18 has a function for connecting the IP switch circuit 11 and a non-packet processing part 15 and converting the IP packet to the audio data or the like of 64 Kpbs and a function for converting these audio data to the IP packet. - 特許庁
第1の動作モードが選択されている場合には、パイプライン回路P1〜P4が活性化される。例文帳に追加
When a first operation mode is selected, the pipe lines P1 to P4 are activated. - 特許庁
たとえば、1分経過後には発光パターンP1による発光動作を行い、2分経過後には発光パターンP2による発光動作を行い、さらに、5分経過後には発光パターンP5による発光動作を行う。例文帳に追加
For example, a light-emitting operation by the light-emitting patterns P1 is executed after one minute dapses the light-emitting operation by the light-emitting pattern P2 is executed after two minutes pass and, moreover, the light-emitting operation by the light-emitting pattern P5 is executed after a five minutes elapse. - 特許庁
ベツリンをN−メチルピロリドン(NMP)に対して5.5wt%以下の濃度、またはクロタミトンに対して12.4wt%以下の濃度に溶解する。例文帳に追加
Betulin is dissolved in N-methyl pyrrolidone (NMP) in concentration of ≤5.5 wt.%, or in crotamiton in concentration of ≤12.4 wt.%. - 特許庁
質量%で、Si:3%以下、Al:2%以下、P:0.1%以下、残部実質的にFeであり、YS:160〜280MPa、局部伸び:15%以下である鉄損特性に優れたヘリカル加工用コア材料。例文帳に追加
This is core material for helical processing excellent in iron loss properties, where Si is 3% or under, Al 2% or under, P 0.1% or under, and the rest substantially Fe, and YS is 160-280MPa, and the partial elongation is 15% or under. - 特許庁
パネル状の非常誘導灯P1と、案内表示パネルP2とからなる各パネル体Pが、天井から垂下状態に設置されているパネル設置構造において、非常誘導灯P1と案内表示パネルP2とを、互いの表示面どうしが同一面に沿って横に並ぶ状態に配置してある。例文帳に追加
A panel installation structure installing each panel body P, including a panel-like emergency guide lamp P1 and a guide display panel P2, from a ceiling in a suspended state disposes the light P1 and the panel P2 in a state so that mutual display surfaces thereof are aligned laterally along with the same plane. - 特許庁
MP3パートは、指示された再生開始位置Pよりも前に遡った再生開始位置P’から再生され始める。例文帳に追加
An MPS 3 part is begun to be reproduced from a reproduction start position P' traced back to earlier than an instructed reproduction start position P. - 特許庁
本発明に係るパケット通信システムでは、第2無線基地局1BのIRTP部12B、RLP部13B及びSP部14Bは、第1無線基地局1Aから受信したパケットがリアルタイム通信用パケットである場合、IRTPヘッダ、RLPヘッダ、SPヘッダの挿入を省略する。例文帳に追加
In the packet communication system, when a packet received from a first radio base station 1A is the real-time communicating packet, an IRTP part 12B, an RLP part 13B, and an SP part 14B of a second radio base station 1B overleap an insertion of an IRTP header, an RLP header, and an SP header. - 特許庁
第1配線パターンのラインとコンタクトパッドとの間隔は所定ピッチであり、所定ピッチは100nm以下である。例文帳に追加
The distance between the line of the first wiring pattern and the contact pad is the predetermined pitch, and the predetermined pitch is 100 nm or less. - 特許庁
ついでパラメータP1,P2を対角線Bに平行な線に沿って、(m,m)から振って、エラーレートの値を評価し、エラーレートが最小値を取るパラメータの組み合わせ(Po1,Po2)を最適パラメータとして決定する。例文帳に追加
Then, the parameters P1 and P2 are moved from (m, m) along the diagonal line B to evaluate the values of error rates, and the combination (P01, P02) of parameters where an error rate takes a minimum value is determined as an optimal parameter. - 特許庁
ソチ冬季パラリンピックの閉会式が3月16日に行われた。例文帳に追加
The closing ceremony of the Sochi Winter Paralympics was held on March 16. - 浜島書店 Catch a Wave
パルプの白色度低下を防止した微生物によるピッチコントロール法例文帳に追加
PITCH CONTROL WITH MICROORGANISM WITH PREVENTED DETERIORATION OF DEGREE OF WHITENESS OF PULP - 特許庁
p53タンパク質の活性化を調節する薬物のスクリーニング法例文帳に追加
METHOD FOR SCREENING MEDICINE FOR ADJUSTING THE ACTIVATION OF P53 PROTEIN - 特許庁
不純物としてのPb成分を0.01wt%以下に抑えると良い。例文帳に追加
Preferably, the component of Pb as impurities is suppressed to ≤0.01%. - 特許庁
p53タンパク質活性化調節剤のスクリーニング法の提供。例文帳に追加
To provide a method for screening a p53 protein activation-adjusting agent. - 特許庁
そして、当該加算の結果を信号IPとして検波部130へ送る。例文帳に追加
A signal IP resulted from the detection is transmitted to a detection part 130. - 特許庁
{(ボール径×ボール個数÷(π×ピッチ円直径))×100(%)}で表されるボール27、28の充填率を複列毎に91%以上とした。例文帳に追加
The filling rate of the balls 27, 28 represented by {(ball diameter×ball number÷(π×pitch circle diameter))×100(%)} is 91% or more in double rows. - 特許庁
この際に、焼結体2の窒素量を0.02%以下、好ましくは0.015%(150ppm)以下に形成する。例文帳に追加
In this case, the content of nitrogen in the sintered compact 2 is controlled to ≤0.02%, preferably to ≤0.015% (150 ppm). - 特許庁
よって、収納空間KからパイロンPを挿入して支持台11に載置することにより、パイロンPがパイロン収納部10に収容されるので、パイロンPの積み下ろし作業を簡易化することができると共に、パイロンPをパイロン収納部10に確実に固定することができる。例文帳に追加
Since the pylons P are accommodated in the pylon magazine 10 by placing the pylons P on the support base 11 inserting the pylons P from the storing space K, the loading and unloading work of the pylons P can be simplified and the pylons P can surely be fixed to the pylon magazine 10. - 特許庁
活性化MAPKK(Mitogen−activatedproteinkinasekinase)タンパク質と該タンパク質を用いた活性型MAPキナーゼの製造方法例文帳に追加
ACTIVATED MAPKK (MITOGEN-ACTIVATED PROTEIN KINASEKINASE) PROTEIN AND METHOD FOR PRODUCING ACTIVATED-TYPE MAP KINASE USING THE PROTEIN - 特許庁
p38MAPKの活性化を介してストレス応答に関与する新規タンパク質およびその遺伝子例文帳に追加
NEW PROTEIN AND ITS GENE ASSOCIATED WITH STRESS RESPONSE THROUGH ACTIVATION OF p38 MAPK - 特許庁
また、パッケージ部1内の雰囲気は、水分濃度5000ppm以下の酸素含有雰囲気である。例文帳に追加
The atmosphere in the package 1 is the oxygen content atmosphere with 5,000 ppm or less of moisture concentration. - 特許庁
網状パターンのピッチPとしては50μm以上5mm以下が好ましい。例文帳に追加
The pitch P of the mesh pattern is preferably ≥50 μm and ≤5 mm. - 特許庁
BaseQP’は上位階層量子化パラメータEnhQPの関数で表される。例文帳に追加
The BaseQP' is represented by a function of the quantization parameter EnhQP of high hierarchy. - 特許庁
ターゲットを継続して使用しても、成膜速度が低下することがないスパッタリング装置、このスパッタリング装置を利用したPDPの製造装置、スパッタリング方法及びPDPの製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide a sputtering apparatus capable of preventing degradation of the film deposition rate even when a target is continuously used, a PDP (plasma display panel) manufacturing device using the sputtering apparatus, a sputtering method, and a method for manufacturing a plasma display panel. - 特許庁
SIP判定部105が受信したパケットがWAN側から送信されたSIPのリクエストパケットであるかあるいはそれ以外のSIPパケットであるかあるいはSIPパケットではないかを判定し、IPアドレス変換部103がWAN側通信部から受信したSIPのリクエストパケットのペイロードに含まれるToヘッダフィールドのURIに従いIPヘッダのdestination IPアドレスを書き換える。例文帳に追加
An SIP determination section 105 determines whether a received packet is an SIP request packet transmitted from a WAN side or any other SIP packet or is not an SIP packet, and an IP address conversion section 103 rewrites a destination IP address of an IP header according to a URI in a "To" header field included in a payload of the SIP request packet received from a WAN side communication section. - 特許庁
計算された3つのPV^κ(θ_start)、PV^κ(θ_CN)、PV^κ(θ_END)を用いて、セタン価を判別すべき燃焼中間点のクランク角度θ_CNに対する筒内の燃焼割合MFB(θ_CN)を算出する。例文帳に追加
Using the calculated three PV^κ (θ_start), PV^κ (θ_CN), PV^κ(θ_END), a combustion percentage MFB (θ_CN) in cylinder to a crank angle θ_CN of a combustion intermediate point at which the cetane value is discriminated. - 特許庁
Tiを1.5〜4.5%(%は質量割合、以下同じ)含有し、残部がCuおよび不可避的不純物からなり、表面に銅めっきを施したチタン銅において、銅めっき層中の不純物が、S≦30ppm、P≦10ppm、O≦100ppmであることを特徴とするCuめっきチタン銅。例文帳に追加
The Cu plating titanium copper contains 1.5 to 4.5% (% is a ratio by mass, hereafter the same) Ti and consists of the balance Cu and inevitable impurities and is subjected to copper plating on its surface, in which the impurities are S≤30 ppm, P≤10 ppm and O≤100 ppm. - 特許庁
また、前記パターンは、最小ピッチ寸法が100nm以下である配列パターンを含む。例文帳に追加
The pattern includes an array pattern having the smallest pitch dimension below 100 nm. - 特許庁
駆動信号発生回路は、周期t毎に発生される基本吐出パルスと(PS1,3,5)、基本吐出パルスの発生タイミングから1/2t経過後のタイミングで発生される補助吐出パルス(PS4)と、微振動加圧パルス(PS2)と、微振動減圧パルス(PS6)とを含む駆動信号を発生する。例文帳に追加
A drive signal generating circuit generates a drive signal comprising basic ejection pulses (PS1, 3, 5) being generated at a period t, an auxiliary ejection pulse (PS4) being generated with a time lag of 1/2t behind the generation timing of basic ejection pulses, a micro vibration pressurization pulse (PS1), and a micro vibration pressure reduction pulse (PS1). - 特許庁
窒化けい素を主成分とするセラミックス焼結体からなる耐磨耗性部材であって、前記耐磨耗性部材はFe成分の含有量が10ppm以上3500ppm以下かつCa成分の含有量が10ppm以上1000ppm以下であり、硬度および破壊靱性値のバラツキが±10%以内であるもの。例文帳に追加
The wear resistant member comprising the ceramic sintered compact mainly made up of silicon nitride, contains ≥10 ppm and ≤3,500 ppm Fe component and ≥10 ppm and ≤1,000 ppm Ca component and has ≤±10% variation in hardness and a fracture toughness value. - 特許庁
ピッチパターン生成手段は、所定の規則にしたがって入力テキストの解析情報から第1のピッチパターンもしくはその特徴量を生成し、この第1のピッチパターンもしくはその特徴量からピッチパターン生成過程モデルに基づいて補正した第2のピッチパターンを生成し、この第2のピッチパターンを出力する。例文帳に追加
A pitch pattern generation means generates a first pitch pattern or its feature quantity from analysis information of an input text in accordance with a prescribed rule and generates a second pitch pattern, which is obtained by correction based on a pitch pattern generation process model, from the first pitch pattern or its feature quantity and outputs this second pitch pattern. - 特許庁
Ni:0.1〜1.0mass%(以下、同じ)、Fe:0.01〜0.3%、P:0.03〜0.2%、Zn:0.01〜1.5%含有し、Si:0.01%以下、Mg:0.001%以下、残部が実質的にCuと不可避不純物からなり、P量とSi量の関係がP量/Si量≧10を満足する銅合金。例文帳に追加
This copper alloy has a composition containing, by mass, 0.1 to 1.0% Ni, 0.01 to 0.3% Fe, 0.03 to 0.2% P, 0.01 to 1.5% Zn, ≤0.01% - 特許庁
さらに、Ti:0.02%以上0.1%以下とNb:0.02%以上0.3%以下の一方又は両方、La:0.01%以上0.1%以下、Ce:0.01%以上0.1%以下、P:0.01%以上0.05%以下を含む。例文帳に追加
The foil further comprises either or both of 0.02 to 0.1% Ti and 0.02 to 0.3% Nb, 0.01 to 0.1% La, 0.01 to 0.1% Ce and 0.01 to 0.05% P. - 特許庁
第1のドーパントの発光ピーク波長と第2のドーパントの発光ピーク波長との差は20nm以下であることが好ましい。例文帳に追加
Preferably, the difference between the emission peak wavelength of the first dopant and the emission peak wavelength of the second dopant is 20 nm or smaller. - 特許庁
CMP用パッドの固定化方法は(1)上記のパッド固定化剤をCMP用パッド表面と定盤表面の間に位置せしめ、(2)該固定化剤を加熱して溶融させて該パッドを該定盤に固定する固定を含む。例文帳に追加
The fixing method of the pad for CMP contains fixing wherein (1) the pad fixing agent is positioned between a surface of the pad and a surface of the polishing plate, and (2) the pad is fixed to the polishing plate by heating and fusing the fixing agent. - 特許庁
特に、環境負荷物質の低減の観点から、溶融亜鉛中のPb成分が0.1質量%以下、Cd成分が100ppm以下であることが望ましく、理想的には溶融亜鉛中のPb成分が0.01質量%以下、Cd成分が10ppm以下がよい。例文帳に追加
In particular, from the viewpoint of reducing environmental loading substances, the content of the Pb component and the content of the Cd component in the hot-dip galvanizing layer are preferably ≤ 0.1% by mass and ≤ 100 ppm, respectively, and ideally ≤ 0.01% by mass and ≤ 10 ppm, respectively. - 特許庁
そのピーク間隔における平均発光出力L3は、2つの発光ピークEP1,EP2のうちの最小の発光ピークEP1の最高到達出力L1の50%以下である。例文帳に追加
An average luminous output L3 during the peak interval is ≤50% of the highest achieved output L1 of the minimum emission peak EP1 among two emission peaks EP1, EP2. - 特許庁
この評価方法を用いたモールドパウダの焼結体の圧縮強度が20MPa以下であるパウダ。例文帳に追加
The sintering body of mold powder has ≤20 MPa compression strength by using this evaluating method. - 特許庁
IPCS(一体形パワートレーン制御システム)用の一体形光電子制御システムを提供する。例文帳に追加
To provide an integral photoelectron control system for IPCS (Integral Power Train Control System). - 特許庁
図形パターンに含まれる1以上のアレイについての繰り返しピッチのうちの最頻出のピッチである代表アレイピッチを取得し、代表アレイピッチにピッチを固定してアレイ化を行う。例文帳に追加
A representative array pitch, which is a pitch most frequently appearing among repetitive pitches as to one or more arrays included in a graphic pattern, is obtained, and arraying is carried out while fixing a pitch to the representative pitch. - 特許庁
グリッド20のピッチGPは、グリッド20をフラットパネル型X線センサ30に投射したときに、その投射像のピッチGP’の1/2を奇数倍した長さがフラットパネル型X線センサ30の検出画素31のピッチSPと等しい関係を有している。例文帳に追加
The pitch GP of the grid 20 has such a relationship that when the grid 20 is projected on a flat panel type X-ray sensor 30, the length wherein 1/2 of the pitch GP' of the projected image is multiplied by an odd number is equal to the pitch SP of a detecting picture element 31 of the flat panel type X-ray sensor 30. - 特許庁
所定時間以上開く場合には、PCRパケット生成部106〜109によりPCRパケットが追加される。例文帳に追加
When the interval is larger than prescribed, the PCR packets are added by PCR packet generating parts 106-109. - 特許庁
これにより、パッド開口PKから吸湿した水分が内部へ侵入することを、第1パッド周辺ガードリングPG1が遮断する。例文帳に追加
This structure allows the first pad periphery guard ring PG1 to block moisture absorbed through the pad opening PK from intruding to the interior. - 特許庁
遅延測定回路12は、被測定回路20に測定パルスPS2を入力して伝播遅延後に得られる遅延パルスPS2dを被測定回路20から入力し、基準パルスPS1をパルス発生回路11から入力する。例文帳に追加
The delay measuring circuit 12 inputs the reference pulse PS1 from the pulse generating circuit 11 and inputs a delayed pulse PS2d from a circuit to be measured 20 which is obtained after a propagation delay in an operation of inputting the measuring pulse PS2 to the circuit to be measured 20. - 特許庁
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