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「プラズマ加工」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索


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プラズマ加工の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 561



例文

電子写真用感光体の製造としてアルミニウムを主成分とする円筒状基体を切削加工し、その後、珪酸塩を含んだ水により洗浄をおこなうことで10μm×10μm範囲における表面粗さRaが2.5nm以下の範囲である被膜を形成し、その後、プラズマCVD法によりアモルファスシリコン層を堆積させる。例文帳に追加

For manufacturing the electrophotographic photoreceptor, the cylindrical base body mainly consisting of the aluminum is machined, and then, coating film whose surface roughness Ra in the area of 10 μm X 10 μm is set to2.5 nm is formed by cleaning with water incorporating silica salt, and the amorphous silicon layer is heaped by a plasma CVD method. - 特許庁

スミアの除去方法は、(a)金属からなる内層配線層を被覆する絶縁樹脂層を有する加工対象物の該絶縁樹脂層に紫外レーザを照射して前記絶縁樹脂層にビアホールを形成する工程と、(b)前記ビアホールの底面に残留するスミアを、希ガスのプラズマに晒して除去する工程とを有する。例文帳に追加

The smear removing method comprises (a) a process of applying an ultraviolet laser beam to the insulating resin layer of a workpiece having an insulating resin layer coating a metal-made inner wiring layer for the formation of a via hole in the insulating resin layer, and (b) a process of removing smears residual on the via hole bottom floor by exposure to rare gas plasma. - 特許庁

この導通用孔5に導電ペ−スト又は導電インキを充填して導通部6を形成し、次に一方の導体層1に所要の配線パタ−ンを形成する為に必要な溝7を形成した後、この溝7を利用してレ−ザ−加工プラズマエッチング手法又はウエットエッチング手法で絶縁べ−ス材2に溝8を形成する。例文帳に追加

The through-holes 5 are filled with a conductive paste or a conductive ink to form conductor sections 6, and after grooves 7 needed for forming required wiring patterns are formed in the conductor layer 1, grooves 8 are formed utilizing the grooves 7 in the insulation base 2 by laser beam machining, plasma etching or wet etching. - 特許庁

半導体素子表面に有機ポリマー樹脂層を設け、パターン加工及び硬化処理を施したのち、この樹脂パターンをマスクとしてエッチング処理し、開口部の導通層を露出させ、次いで100℃以上の温度で酸素プラズマ処理を行い、上記開口部の導通層をクリーニングすることにより、半導体装置を製造する。例文帳に追加

An organic polymer resin layer is provided on the surface of a semiconductor device, after pattern processing and hardening treatment are performed, the resin pattern is etched as a mask, the conduction layer of the opening part is exposed, next, oxygen plasma treatment is performed at a temperature of 100°C or higher, and the semiconductor device is manufactured by cleaning the conduction layer of the opening part. - 特許庁

例文

反応ガスは第二電極15へシャワー状に中空孔加工されたガス噴出口22から導入され、高周波電力と低周波電力の結合により発生した高密度で高エネルギーなプラズマ中の荷電粒子が被処理物を囲む第二電極間15で左右交互に加速且つ揺り動かされる。例文帳に追加

Reactive gas is introduced like a shower to a second electrode 15 from hollowly processed gas ejecting holes 22, and charged particles in plasma having high density and high energy which is generated by combination of high frequency power and low frequency power are horizontally and alternately accelerated and swung between the second electrodes 15 surrounding the object to be processed. - 特許庁


例文

誘電率が3以下と小さく、しかもマイクロフォトリソグラフィ加工時の酸素プラズマ耐性に優れるとともに機械的強度、耐アルカリ性などの耐薬品性、耐クラック性に優れた絶縁膜を形成できるような低誘電率シリカ系被膜形成用塗布液、およびこのような低誘電率シリカ系被膜が形成された基材を提供する。例文帳に追加

To provide a coating liquid for a silica-based film with a low dielectric constant, forming an insulating film having a dielectric constant as low as 3 or less and excellent not only in resistance to oxygen plasma during the microphotolithography processing but also in mechanical strength, chemical resistance such as alkali resistance and crack resistance and to provide a substrate having formed thereon such a silica-based film with a low dielectric constant. - 特許庁

世界で初めて、ラジカル計測により微細加工を自律的に最適化する自律型ナノエッチング装置の開発に成功上記のラジカルモニターを活用することにより、ラジカル等の密度等をリアルタイムに計測し、装置にフィードバックすることで、プラズマの状態が常に最適となるように自律的に制御して最適なナノエッチングが可能となる装置の試作に成功した。例文帳に追加

The world’s first successful development of automated nano-etching equipment that automatically optimizes ultra-fine processing based on radical measurement The Tokai Region Nano Technology Manufacturing Cluster successfully manufactured a prototype of equipment that enables optimum nano-etching through automated control that ensures an optimum plasma state based on the feedback of the real-time measurement of the density of radicals with the use of the above-mentioned radical monitor. - 経済産業省

一実施形態では、真性微結晶シリコン層を形成する方法は、加工チャンバ内に配置された基板の表面へガス混合物中で供給されるシランガスを動的に増加させるステップと、加工チャンバへ供給されるガス混合物中で印加されるRF電力を動的に減少させて、ガス混合物中でプラズマを形成するステップと、基板上に真性微結晶シリコン層を形成するステップとを含む。例文帳に追加

In one embodiment, a method for forming an intrinsic type microcrystalline silicon layer comprises: dynamically ramping up a silane gas supplied in a gas mixture to a surface of a substrate disposed in a processing chamber; dynamically ramping down an RF power applied in the gas mixture supplied to the processing chamber to form a plasma in the gas mixture; and forming an intrinsic type microcrystalline silicon layer on the substrate. - 特許庁

制御装置を備えたロボットにより移動または回動するトーチと前記トーチに対し一体的に設けたテレビカメラを備え、前記テレビカメラによる撮像画像の画像処理装置を備え、前記画像処理装置はプラズマアークに係る波形信号を抽出して前記トーチのノズルと被加工材との距離を推定した情報を出力し、前記情報は前記制御装置に入力して前記ロボットにより前記ノズルと被加工材との距離を制御する。例文帳に追加

A waveform signal relating to a plasma arc is extracted and information estimating the distance between a torch nozzle and the material to be worked is outputted by the picture processor, the information is inputted into the controller and the distance between the nozzle and the material to be worked is controlled by the robot. - 特許庁

例文

圧縮機ホイール4と共働する内側壁8上に摩耗コーティング7が設けられたターボ過給機の圧縮機ハウジング1であり、プラズマスプレー法による摩耗コーティング7の製造では、例えば粗い旋盤加工のような表面の深さ方向であって圧縮機ハウジング壁8に直接施される活性化を必要とせず、コーティング7は一定の気孔率および相対的に小さな粒子サイズを有する。例文帳に追加

In the compressor housing 1 for a turbo supercharger provided with the friction coating 7 on the inside wall 8 cooperating with a compressor wheel 4, when manufacturing the friction coating 7 with a plasma display method, activation such as rough lathing to be directly performed to a surface of the compressor housing wall 8 in the depth direction is unnecessary, and the coating 7 has a fixed porosity and relatively small grain size. - 特許庁

例文

圧延加工された金属板であって、その圧延方向に直角な幅方向が前面ガラスパネルと直交するように配置し、かつ直交した格子状に組み立てられた面同士の交点は予め形成した溝で相互に埋め合わせられ、かつその交点の全てもしくは選択された交点において、直交する面同士が一部で溶着していることを特徴とするプラズマディスプレイパネル(以下PDPと称す)用格子状メタル隔壁。例文帳に追加

This metal barrier rib is a rolled metal plate, with its width direction at right angles with its rolling direction deployed to be orthogonally crossed to a front glass panel, and intersections of faces mutually assembled into a crossed lattice shape are mutually filled with grooves formed beforehand, and at all of those intersections or at selected intersections, orthogonally crossing faces are partly welded to each other. - 特許庁

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