「プラズマ加工」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

反応室内の異物の低減が図られ、加工形状のばらつきの少ないプラズマ処理装置、プラズマ処理装置を用いた処理方法および半導体装置の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma treatment apparatus that reduces foreign objects in a reaction chamber and has a small amount of variation in machining shape, and to provide a treatment method using the plasma treatment apparatus, and the manufacturing method of semiconductor devices. - 特許庁

大気圧環境下において簡単に高密度な大気圧プラズマを発生させることができ特に導電体の加工に好適な小形の大気圧プラズマ発生装置を実現すること。例文帳に追加

To provide a small atmospheric pressure plasma generator capable of simply generating high-density atmospheric pressure plasma in an atmospheric pressure environment, and particularly suitable for processing a conductor. - 特許庁

絶縁膜への高アスペクト比のホール加工を行うプラズマ処理方法において、高エッチングレートで高いマスク選択比を実現可能な、プラズマ処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma treatment method in which a high mask selection ratio can be realized at a high etching rate in the plasma treatment method in which a hole working at a high aspect ratio to an insulating film is conducted. - 特許庁

ドライエッチング装置１１は、真空容器１２内にプラズマを発生させるコイル３６と、プラズマが発生してドライエッチングにより加工中である基板（１）の被エッチング面の画像を撮影するカメラ４５を備える。例文帳に追加

A dry etching apparatus 11 includes a coil 36 for generating a plasma in a vacuum container 12, and a camera 45 which photoes the image of the surface to be etched of the substrate (1) which generates the plasma and is under processing by dry etching. - 特許庁

パターン加工性に優れ、かつ反射率の高い白色隔壁を形成するための感光性ガラスペースト、ならびにそれを用いたプラズマディスプレイ用部材およびプラズマディスプレイの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a photosensitive glass paste excellent in suitability to pattering and used for forming white barrier ribs having high reflectance, to obtain a member for a plasma display using the paste and to produce a plasma display. - 特許庁

電子シェーディングダメージが発生しにくく、加工精度が高く、かつ信頼性の高い、誘導結合型プラズマ処理装置を用いたプラズマ処理工程を含む半導体装置の製造方法及び製造装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method and device for manufacturing a semiconductor devices, including a plasma treatment process using an inductively coupled plasma treatment device, in which electronic shading damages can be made difficult to generate, and working accuracy can be increased, and reliability can be increased. - 特許庁

膜品質や膜厚分布が小さく、高速かつ大面積で高品質な薄膜の成膜が可能となるプラズマＣＶＤ装置あるいは、加工レート分布が小さく高速かつ大面積でエッチングが可能となるプラズマエッチング装置等に用いられる、プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide an equipment and a method for plasma processing being employed in a plasma CVD system where a high quality large area thin film can be deposited at a high rate with limited film quality and film thickness distribution or in a plasma etching system where a large area can be etched at a high rate with limited machining rate distribution. - 特許庁

従来の回転電極式プラズマ成膜方法及び装置（特開平９−１０４９８５号公報記載の方法及び装置）の場合よりも、薄膜形成の生産性をさらに向上することができ、また、プラズマを利用する加工、クリーニング等のプラズマ表面処理の生産性を向上することができるプラズマ表面処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma surface-treating apparatus for further improving the productivity of the formation of a thin film, as compared with a conventional rotary electrode type plasma film-forming method and apparatus, and improving the productivity of plasma surface treatment of machining, cleaning, or the like utilizing plasma. - 特許庁

排気手段と、原料ガス供給手段と、被加工試料設置手段と、被加工試料への高周波電力印加手段を有する真空容器内で、前記原料ガスをプラズマ化し、被加工試料の表面処理を行うプラズマ処理装置において、被処理基板の温度を処理の進行に従って予め設定された温度パターンに制御するよう構成したことを特徴とするプラズマ処理装置。例文帳に追加

A plasma processing device, which performs surface treatment for a workpiece sample by ionizing the raw gas inside a vacuum container with an evacuation means, a raw gas supply means, a processing sample installation means and a high frequency power application means to a workpiece sample, is constituted to control the temperature of a workpiece substrate to a temperature pattern which is preset according to proceeding of treatment. - 特許庁

加工軌跡が定まっているレーザー加工機及びプラズマ加工機において、加工時に発生する飛散物を効率良く回収する方法および装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method and a device for efficiently collecting scattering objects generated during the machining in a laser machine or a plasma machine having the determined machining locus. - 特許庁

そして、薄く加工した絶縁べ−ス材４の所定の箇所に再度プラズマエッチング又はウエットエッチング加工或いはレ−ザ−加工手段で導通用穴７の加工を行う。例文帳に追加

A conduction hole 7 is then bored at a specified position of the insulating base material 4 machined thin through plasma etching, wet etching or laser machining means. - 特許庁

レーザ加工機、プラズマ加工機、ガス切断機において、ノズルを傾けて加工するとき、簡単で容易にビーム等の照射点と加工プログラムとの間のズレを修正しワークとノズルの干渉を防止する。例文帳に追加

To prevent interference of a work with a nozzle by simply and easily correcting deviation between a point of irradiation of beams or the like and a machining program when performing the machining by inclining the nozzle in a laser beam machine, a plasma machine, and a gas cutting machine. - 特許庁

水素、窒素および／またはアルゴンに基づくガス混合物を用いるプラズマアーク加工方法およびユニット例文帳に追加

METHOD AND UNIT FOR PLASMA ARC MACHINING USING GAS MIXTURE BASED ON HYDROGEN, NITROGEN AND/OR ARGON - 特許庁

ハフニウムまたはジルコニウムのインサートをもつプラズマ加工用電極の電極寿命を向上させる。例文帳に追加

To improve the durability of an electrode for plasma processing having an insert of hafnium or zirconium. - 特許庁

プラズマスプレーコーティングは、負値である平均歪度を有する粗さのテクスチャー加工された表面を含む。例文帳に追加

The plasma spray coating includes the surface on which the rough texture processing, having average strain which is a negative value is performed. - 特許庁

ＮＨ_３（水素元素を含む非酸化物）を洗浄用ガスとして、且つ、該洗浄用ガスをプラズマ化して試料（被加工体）１０をドライ洗浄する。例文帳に追加

NH_3 (nonoxide containing hydrogen element) is used as a cleaning gas, and the cleaning gas is made into plasma to dry-clean a sample (target member) 10. - 特許庁

この表面は、機械加工によるか、または適切な被覆、好ましくはコランダムのプラズマ被覆の使用によって形成される。例文帳に追加

The surfaces are formed by machining, appropriate coating, or desirably by the use of corundum plasma coating. - 特許庁

温度センサの経時変化を監視することにより、ウエハ加工精度の再現性を向上したプラズマ処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a plasma processing apparatus that enhances the reproducibility of wafer processing precision by monitoring the secular change of a temperature sensor. - 特許庁

被加工物１の表面にセラミック皮膜３を形成するにあたり、セラミック材料をレーザ照射Ｌ下でプラズマ溶射Ｐする。例文帳に追加

A ceramic material is subjected to the plasma thermal spraying P under the laser irradiation in depositing the ceramic film 3 on the surface of a work 1. - 特許庁

ＲＩＥ加工時に真空処理容器の内壁に形成された堆積膜を短時間で除去できるプラズマクリーニングを実現すること。例文帳に追加

To actualize plasma cleaning which can remove a deposited film formed on the internal wall of a vacuum processing vessel, in a short time during RIE processing. - 特許庁

その後に、クロムマスク２１〜２３を用いて弗ッ素含有石英膜１２をプラズマ加工して階段形状を形成する。例文帳に追加

Then the fluorine-containing quartz film 12 is worked with plasma by using chromium masks 21 to 23 and formed into a step-like shape. - 特許庁

プラズマ漏れ防止部材１１３の通気部１１３ａには、パンチング加工により複数の開口穴が形成されている。例文帳に追加

In a ventilation part 113a of the plasma-leakage prevention member 113, several opening holes are formed by punching working. - 特許庁

トーチからプラズマを発生させる際に最適な加熱領域の形成を図り、良好なガラス加工を行う。例文帳に追加

To perform excellent glass working by forming an optimum heating area when generating plasma from a torch. - 特許庁

ネジ加工部を有するタングステンは、耐熱性、耐プラズマ製などが優れ、高温使用用途でも用いることができる。例文帳に追加

The tungsten sintered compact with a screw worked part has excellent heat resistance and plasma resistance, and also can be used in high temperature use. - 特許庁

トーチは、ノズル内に配置された電極から加工物にアークを飛ばすことにより作動モードで作動するプラズマアークトーチとしうる。例文帳に追加

The torch is a plasma arc torch which works in an operation mode by emitting the arc from an electrode installed inside a nozzle to a workpiece. - 特許庁

プラズマ中の一酸化炭素の解離を抑制しつつ磁性体材料の加工を行うドライエッチング方法及びその装置を提供すること。例文帳に追加

To provide a dry etching method and a device which are capable of processing a magnetic material while restraining carbon monoxide from dissociating in plasma. - 特許庁

フッ素ラジカルは集束イオンビーム加工によって薄片試料（３０）の切削端面に生じたダメージ層をプラズマエッチング処理する。例文帳に追加

The radical plasma-etches the damage layer generated on the cut surface of the thin piece sample 30 by the convereged ion beam working. - 特許庁

腐食性ガス及びそれらのプラズマに対する耐食性が優れ、高強度で、且つ加工性の高いシャワープレートを提供する。例文帳に追加

To provide a shower plate which has excellent resistance to attack by corrosive gases and their plasmas, high strength, and high workability. - 特許庁

半導体基板を加工するための反応ガスをプラズマ状態にするためのＲＦ電源が連結される電極組立体を提供する。例文帳に追加

To provide an electrode assembly coupled with an RF power supply in order to provide a reaction gas as plasma gas used to process a semiconductor substrate. - 特許庁

レーザ加工ノズルとワークの間の状態、例えば、ギャップ長やプラズマなどを精度良く検出できる状態検出装置などを提供する。例文帳に追加

To provide a state detection apparatus capable of accurately detecting the sate between a laser machining nozzle and a work such as the length of the gap and plasma. - 特許庁

絶縁層５をプラズマエッチングするに際し、曲率を持つ形状の電極を使用して加工することが望ましい。例文帳に追加

The insulation layer 5 is plasma-etched preferably by using an electrode whose shape has curvature. - 特許庁

プラズマ処理装置の保護部材等として好適な、機械加工性に優れた円筒状ガラス状カーボン部材を提供する。例文帳に追加

To provide a cylindrical glassy carbon member superior in machinability suited for protective members, etc., of plasma processors. - 特許庁

高アスペクト比かつ高精度のパターン加工を可能にするプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。例文帳に追加

To manufacture a plasma display panel which enables a high aspect ratio and a pattern processing of high precision. - 特許庁

ブラストの加工ムラが少なく、下地との密着性が高い隔壁を有するプラズマディスプレイパネルを提供する。例文帳に追加

To provide a plasma display panel having a separation wall having high adhesive property to a base, with few uneven blast finishing. - 特許庁

有機系低誘電率材料膜層に所定形状のエッチング加工を施すことが可能なプラズマ処理方法を提供する。例文帳に追加

To execute the etching work of a prescribed shape to an organic low dielectric constant material film layer. - 特許庁

ＲＦバイアス機能の制御性を向上させて、微細加工の様々な要求条件に対してプラズマプロセスの最適化を実現する。例文帳に追加

To optimize a plasma process for various requirements of microfabrication by enhancing the controllability of an RF bias function. - 特許庁

また、エッチングガスをプラズマ化するＵＨＦ出力を変えてテーパ形状となるホール加工の形状を制御する。例文帳に追加

The shape of the hole working formed in a tapered shape is controlled by altering a UHF output changing the etching gas into plasma. - 特許庁

プラズマディスプレイパネルのサンドブラストによる隔壁形成における加工基板のクリーニング方法及び装置例文帳に追加

CLEANING METHOD AND DEVICE OF MACHINED SUBSTRATE IN BARRIER RIB FORMATION BY MEANS OF SANDBLAST OF PLASMA DISPLAY PANEL - 特許庁

プラズマ加工装置用のチャックは、温度制御式ベースと、断熱材と、フラット支持体と、加熱器とを含む。例文帳に追加

A chuck for a plasma processor comprises a temperature-controlled base, a thermal insulator, a flat support, and a heater. - 特許庁

プラズマ処理システム（１０）の処理チャンバ（１２）内に、加工物を収容する基板サポート（６４）が設けられている。例文帳に追加

A substrate support (64) storing a workpiece is provided in the inside of a processing chamber (12) of a plasma processing system (10). - 特許庁

ＤＣバイアス電圧に応答した制御を含む、真空プラズマプロセッサ室においてワークピースを加工する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for processing a workpiece in a vacuum plasma processing chamber, including control in response to a DC bias voltage. - 特許庁

レーザ加工ノズルとワークの間の状態、例えば、ギャップ長やプラズマなどを精度良く検出できる状態検出装置などを提供する。例文帳に追加

To provide a state detecting device and the like for accurately detecting a state between a laser processing nozzle and a work, for example, a gap length or plasma. - 特許庁

局部的プラズマ処理方法は、帯電粒子蒸着およびエッチングに比べて、処理速度を向上させ、加工物損傷を低減する。例文帳に追加

The method improves the treatment speed and reduces damage of a workpiece in comparison with charged particle vapor deposition and etching. - 特許庁

水晶板を効率よく極薄に加工することができる水晶板のプラズマエッチング装置を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a plasma etching device for a quartz plate with which the quartz plate is efficiently worked and made extremely thin. - 特許庁

被加工物に対する複数の工程のうち、所定の工程における処理状態または当該プラズマ装置の状態をモニタする。例文帳に追加

In a plurality of processes with respect to a workpiece, a treatment state in a designated process or the state of plasma equipment is monitored. - 特許庁