「硬膜下」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

硬質炭素薄膜の被覆前における基材の表面粗さが、Ｒａで０．０３μｍ以下である。例文帳に追加

The surface roughness Ra of a base material before being coated with the hard carbon thin film is ≤ 0.03 μm. - 特許庁

１０Ｔｏｒｒを超え常圧以下において、比較的低硬度の炭素膜を生成する。例文帳に追加

To form an amorphous carbon film having a relatively low hardness at a pressure of more than 10 Torr and smaller than or equal to atmospheric pressure. - 特許庁

前記硬質炭素被膜は、質量％でＭｏを９％以上１５％以下含有するのが好ましい。例文帳に追加

Preferably, the hard carbon film contains 9 to 15 wt.% of Mo. - 特許庁

層間絶縁膜を硬化した後，処理室内にプラズマを発生させ，ウェハＷの電位を下げる。例文帳に追加

After the interlayer insulating film is hardened, plasma is generated in a treating chamber to lower the potential of the wafer W. - 特許庁

しかも、この硬質膜(6) は品質を長く維持でき、シール部の密封機能を低下させることがない。例文帳に追加

Furthermore, this hard film can maintain satisfactory quality for a long time to prevent the reduction of a sealing function of the sealing part. - 特許庁

軟磁性下地層３の膜厚は、基板表面の硬度を確保するために３μｍ以上である。例文帳に追加

The film thickness of the soft magnetic underlayer 3 is ≥3 μm in order to assure the hardness of the substrate surface. - 特許庁

この情報記録部１７の上に硬化収縮率が７．５％以下の紫外線硬化型樹脂からなる保護膜３３を形成する。例文帳に追加

A protective film 33 consisting of a UV curing resin having ≤7.5% curing shrinkage rate is formed on the information recording part 17. - 特許庁

基材上に下記成分（Ａ）〜（Ｃ）を含有する組成物を硬化して得られる硬化膜を有するハードコートフィルム。例文帳に追加

The hard coat film includes a cured film obtained by curing a composition including the following components (A) to (C) on a substrate. - 特許庁

紫外線硬化樹脂層１３の硬度としてはＨＢ以上、膜厚としては、２μｍ以上４０μｍ以下が望ましい。例文帳に追加

The ultraviolet curing resin layer 13 has hardness of HB or more and, desirably, has a film thickness of ≥2 μm to ≤40 μm. - 特許庁

微粒子積層膜の表面硬度が６Ｂ以上３Ｈ以下の濃度記号の鉛筆硬度を有することが好ましい。例文帳に追加

The surface hardness of the fine particle-layered film is preferably the pencil hardness of 6B-3H concentration mark. - 特許庁

熱硬化性粉体塗料の仕上がり外観が優れ、かつその他の塗膜との密着性を低下させない熱硬化性調整剤を提供することにある。例文帳に追加

To provide a thermosetting modifier which gives excellent appearance to a thermosetting powder coating and which does not decrease adhesion to other coatings. - 特許庁

本発明は、低温硬化性、塗膜硬度、ダイスマーク隠蔽性に優れる６０°グロス１０以下の艶消しアニオン電着塗料を提供する。例文帳に追加

To provide a matting anionic electrodeposition coating excellent in cold setting property, coating hardness and die-mark hiding property and having 60° gloss of ≤10. - 特許庁

優れた耐擦傷性を有し、かつ、下地との密着性も良好な硬化塗膜を形成できる、紫外線硬化性組成物を提供する。例文帳に追加

To provide an ultraviolet curable composition which excels in mar resistance and can form a cured coating film having good adhesion to a prime coat. - 特許庁

ここで、有機接着剤４０としては、加熱硬化後の硬化膜の弾性率が５００ＭＰａ以下のものを用いる。例文帳に追加

Here, the organic adhesive 40 in use is so selected that the elasticity of its film which has been hardened by heating is ≤500 MPa. - 特許庁

基板上に樹脂膜を塗布，硬化した後、高温条件下で一定期間放置し、上記硬化反応を十分に促進する。例文帳に追加

A resin film is applied on a substrate and hardened. - 特許庁

ハードバイアス膜１１５は、積層された下層硬磁性層１５１と上層硬磁性層１５２とを有する。例文帳に追加

The hard bias film 115 has a lower layer hard magnetic layer 151 and an upper layer hard magnetic layer 152 which are laminated. - 特許庁

本発明は、支持体上に塗布した膜厚０．００５〜１μｍの紫外線硬化性塗膜を酸素濃度１０００ｐｐｍ以下に保って紫外線により硬化させ、硬化塗膜を製造するための紫外線照射式硬化装置である。例文帳に追加

In this ultraviolet irradiation-type curing apparatus, a 0.005 to 1 μm-thick ultraviolet curable coating film provided by coating a support is cured by exposure to ultraviolet light in such a state that the concentration of oxygen is maintained at not more than 1,000 ppm to form a cured coating film. - 特許庁

移動子の固定子との接触面において、複数の柱状の突起を形成した下地材１２の上に下地材１２より硬度が高い材料による膜１３を形成し、突起を下地材１２と硬質膜１３で構成する。例文帳に追加

On the contact surface of a mover where the mover contacts a stator, a film 13 made of a material having a hardness higher than that of a base material 12 is formed on the material 12 having a plurality of columnar projections thereon, thereby forming the projections by the material 12 and the film 13. - 特許庁

硬質皮膜形成装置１を用いた硬質皮膜形成方法は、アークイオンプレーティング法による硬質皮膜形成方法であって、前記硬質皮膜の形成対象となるワーク１３・１３・・・と、ワーク１３・１３・・・に形成する硬質皮膜との界面において存在する酸素濃度を、予め設定した基準濃度以下とする。例文帳に追加

The hard film forming method using a hard film forming apparatus 1 is the hard film forming method by an arc ion plating method, in which the concentration of the oxygen existing at the boundaries between workpieces 13, 13, etc., being objects for formation of the hard films and the hard films formed at the workpieces 13, 13, etc., is specified to a preset standard concentration or less. - 特許庁

低酸素濃度の下で塗布膜を硬化させ、塗布層の品質（硬度、密着性、 等）を向上させるとともに、不活性ガスの使用量を抑えることができる塗布膜の硬化方法、装置及び光学フィルムを提供する。例文帳に追加

To provide a curing method for a coating film capable of enhancing quality (hardness, adhesion property, and the like) of a coating layer by curing the coating film under a low oxygen concentration and suppressing an amount of an inert gas used, a curing apparatus and an optical film. - 特許庁

硬質粒子は、被膜中の体積率が５％〜３０％であり、粒径が２０μｍ以下である微細硬質粒子と、被膜中の体積率が２０％〜６０％であり、粒径が５０μｍ以上である粗大硬質粒子とを含む。例文帳に追加

The hard grains include fine hard grains in which the volume ratio in the film is 5 to 30% and the grain size is ≤20 μm, and coarse hard grains in which the volume ratio in the film is 20 to 60% and the grain size is ≥50 μm. - 特許庁

相対湿度の高い環境下及び厚膜での硬化性、塗膜硬度及び密着性に優れた紫外線硬化型缶用塗料組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide an ultraviolet-curable coating composition for cans, which is excellent in curability, hardness of a coating film and adhesion in a high relative-humidity environment and as a thick film. - 特許庁

表面硬度が１５０Ｎ／ｍｍ^2以上３２０Ｎ／ｍｍ^2以下の硬化性組成物の硬化皮膜が表面に形成された、鉛筆硬度７Ｈ以上であることを特徴とする表面処理アルミニウム成型品。例文帳に追加

In the surface-treated aluminum molding, a cured membrane of the curable composition having a surface hardness of 150-320 N/mm^2 or below is formed on the surface, and pencil hardness is 7H or higher. - 特許庁

この硬質炭素薄膜付き機械加工工具用切削油の存在下における機械加工に用いる硬質炭素薄膜付き機械加工工具としてのドリル１において、切れ刃２を含めた全面を覆う硬質炭素薄膜３に含まれる水素原子の量を１原子％以下とする。例文帳に追加

Amount of a hydrogen atom contained in a thin hard carbon film 3 covering the whole surface of a cutting edge 2 of a drill 1, which is a cutting tool coated with a hard carbon thin film to be used for a cutting work in the presence of the cutting oil for a cutting tool coated with a hard carbon thin film, is not more than 1 atom%. - 特許庁

大気圧雰囲気下での炭化水素系ガスを原料とした、従来より高硬度の非晶質硬質炭素皮膜が得られる非晶質硬質炭素皮膜の成膜方法及びその成膜装置を提供することを解決すべき課題とする。例文帳に追加

To provide a film deposition method of an amorphous hard carbon film capable of obtaining the amorphous hard carbon film having higher hardness compared with the former, with hydrocarbon-based gas under the atmospheric pressure being raw material thereof, and to provide a film deposition apparatus therefor. - 特許庁

ポリエステルイミド加熱硬化膜の密度と誘電率との間に相関関係があることに基づき、ポリエステルイミド樹脂組成物の加熱硬化膜で密度１．３９ｇ／ｃｍ^3以下の硬化膜を絶縁被膜として用いる。例文帳に追加

A cured film that is a thermally-cured film of a composition of a polyester imide resin and has a density of 1.39 g/cm^3 or less is used for an insulation coating film, based on a correlation between a density and dielectric constant of a thermally-cured film of polyester imide. - 特許庁

例えば、気相法による硬質炭素皮膜の成膜中に成膜雰囲気の水素分圧を変化させることによって、硬質炭素皮膜を少なくとも最表面の軟質層１と該軟質層２の下層側に位置する硬質層２から成る多層構造とする。例文帳に追加

By varying the hydrogen partial pressure in the film-forming atmosphere during formation of the hard carbon film by the vapor phase process, the hard carbon film is made a multi-layered structure composed at least of a soft-layer 1 on the outermost surface and a hard layer 2 under the soft layer 1. - 特許庁

その状態で皮膜に活性エネルギ−線を照射して光重合を行なって皮膜を硬化させることにより硬化皮膜の親水性を増加（水接触角の値は低下）する。例文帳に追加

The hydrophilicity of the hardened film increases (reduction of contact angle with water) by irradiating the film in the state with an active energy ray and carrying out the photopolymerization to harden the film. - 特許庁

硬化性、硬化後の塗膜外観、塗膜の機械強度、さらには下地やトップコートとの接着性に優れるポリウレタン系塗膜防水材を提供する。例文帳に追加

To provide a polyurethane-based coating film waterproof material excellent in curability, coated film externals after curing, mechanical strength of the coating film and adhesion to substrate and topcoat. - 特許庁

絶縁膜の誘電率を低下させながら硬度を高めることができる半導体装置の絶縁膜形成方法、低誘電率絶縁膜形成装置ならびに低誘電率かつ高硬度の半導体装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method for forming an insulating film for a semiconductor device by which hardness can be improved while the dielectric constant of the insulating film is reduced, a device for forming a low dielectric constant insulating film, and a semiconductor device with a low dielectric constant and high hardness. - 特許庁

金属や半導体、セラミックス、プラスチックの表面に被覆したTiN、TiC、TiCN、DLCなどの硬質被膜を剥離するに際し、下地素材を損傷することなく被覆被膜のみを剥離することができる硬質膜の剥離方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for peeling a hard film where, when a hard film of TiN, TiC, TiCN, DLC or the like applied to the surface of a metal, a semiconductor, ceramics or plastics is peeled, only the applied film can be peeled without damaging the substrate stock. - 特許庁

ポットライフの制限が緩和され、しかも高温の耐熱性試験でも塗膜の硬さが十分であり、厚膜時にも高温の耐熱性が高く、塗膜の外観が良好な紫外線硬化型下塗り液組成物を提供する。例文帳に追加

To obtain a UV curable primer composition that alleviates a restriction of a pot life, keeps enough hardness of a coating film even in a heat resistance examination at a high temperature, has high temperature heat resistance even when a thick film, and has a good appearance of the coating film. - 特許庁

インクジェット法でマイクロレンズを形成する際の下地膜をインクジェットで形成する際に、膜厚が薄くて均一な表面撥水性硬化膜を形成できる光硬化性組成物を提供すること。例文帳に追加

To provide a photocurable composition capable of forming a thin, uniform surface water-repellent cured film when an underlayer film when a microlens is formed by inkjet is formed by inkjet method. - 特許庁

粘着性物質の接着性を低下させることがなく、優れた剥離特性を有し、かつ、皮膜背面へのシリコーン移行の少ない硬化皮膜を形成する溶剤型剥離性硬化皮膜形成用シリコーン組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a solvent-based peelable cured coating-forming silicone composition exhibiting excellent peeling properties without reducing adhesiveness of an adhesive substance and forming a cured coating film hardly causing silicone migration to the coating back face. - 特許庁

本発明の積層体は、支持フィルム層と硬化塗膜層と保護フィルム層とを有し、硬化塗膜層が支持フィルム層と保護フィルム層の間に配置され、硬化塗膜層が放射線硬化性塗料の硬化塗膜から形成されており、保護フィルム層が、引張破断強度２２０ＭＰａ以下である樹脂フィルムで形成されていることを特徴とする。例文帳に追加

The laminated body includes the support film layer, the cured coating film layer and the protective film layer, wherein the cured coating film layer is arranged between the support film layer and the protective film layer, the cured coating film layer is formed from a cured coating film of a radiation curing coating material, and the protective film layer is formed from a resin film having ≤220 MPa tensile rupture strength. - 特許庁

第１硬質炭素膜２ｃの厚さは０．０２μｍを超え０．１μｍ以下であり、かつ第２硬質炭素膜２ｄの厚さは０．１μｍを超え０．５μｍ以下であることが好ましい。例文帳に追加

It is preferable that the thickness of the first hard carbon film 2c is above 0.02 μm and equal to 0.1 μm or less, and the thickness of the second hard carbon film 2d is above 0.1 μm and equal to 0.5 μm or less. - 特許庁

マイクロカプセルの皮膜は熱硬化性の尿素ホルマリン樹脂、メラミンホルマリン樹脂皮膜であり、且つ体積平均粒子径が１０μｍ以下である。例文帳に追加

The film of the microcapsule is a thermosetting urea-formalin resin or melamine-formalin resin film and has ≤10 μm volume average particle diameter. - 特許庁

下記一般式１で表される含フッ素ポリマーの硬化被膜よりなる低屈折率層を備えた反射防止膜。例文帳に追加

The antireflection coating is provided with a low-refractive index layer, comprising a hardening coating containing fluorine polymer expressed by general Formula 1. - 特許庁

金属傾斜層以外の硬質炭素膜は、その金属の体積比率を３０％以下にし、膜厚を０．５〜５μｍにする。例文帳に追加

As for the hard carbon film other than the metallic gradient layer, the volume ratio of the metal is controlled to ≤30%, and the film thickness is controlled to 0.5 to 5 μm. - 特許庁

第２のインク２は、それを硬化させて厚さ５０〜２００μｍの膜としたとき、膜の弾性率が２００ＭＰａ以下となる。例文帳に追加

A film of the second ink has an elastic modulus of no more than 200 MPa when the second ink is cured into the film with a thickness of 50 to 200 μm. - 特許庁

ピストンリングの上下面及び側面に配設する非晶質硬質炭素膜を、それぞれＰＶＤ法、ＣＶＤ法で成膜する。例文帳に追加

The amorphous hard carbon film having a hydrogen content of 10% or less disposed on the upper and lower surfaces and the side of the piston ring are deposited by PVD method and CVD method, respectively. - 特許庁

絶縁膜が、下記一般式（１）、（２）、（３）、（４）の各化学構造ユニットが結合したシリコーン系ポリマーの硬化膜である磁気抵抗センサ素子。例文帳に追加

In the magnetic resistance sensor element, the insulating film is the cured film of silicon polymer, where respective chemical structure units of general formulas (1), (2), (3) and (4) are combined. - 特許庁

基材２の表面粗さはＲｙ（最大高さ）で０．１μｍ以下であり、硬質炭素被膜３はスパッタリング法により成膜されている。例文帳に追加

The surface roughness of the base material 2 is ≤0.1 μm by Ry (maximum height), and the hard carbon film 3 is deposited by a sputtering process. - 特許庁

耐摩耗性溶射皮膜４は、膜厚０．２〜０．８ｍ、気孔率０．１％以下、ビッカース硬さ１，０００〜１，４５０とする。例文帳に追加

In a preferred embodiment, the abrasion-resistant coated layer has a thickness of 0.2-0.8 μm, a porosity of ≤0.1% and a Vickers's hardness of 1,000-1,450. - 特許庁

硬質炭素膜４それぞれの膜厚は０．０１μｍ以上０．５μｍ以下であり、シリコン膜５それぞれの膜厚は０．００５μｍ以上０．５μｍ以下である。例文帳に追加

The thickness of each hard carbon film 4 is not less than 0.01 μm nor more than 0.5 μm and the thickness of each silicon film 5 is not less than 0.005 μm nor more than 0.5 μm. - 特許庁