「硬膜下」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

導電性および十分な耐傷性（硬さ）を有し、基材が被覆されて黒みを帯びた色調を呈する数μｍ以下の薄膜を提供する。例文帳に追加

To provide a thin film of several μm or below having conductivity and sufficient damage resistance (hardness) and exhibiting a blackish color tone when a base material is covered therewith. - 特許庁

養生硬化後のシーラーの塗膜３の、枠置き法による耐透水性試験で測定される透水量が、５０００ｇ／ｍ^2以下となるようにする。例文帳に追加

A permeated water amount of the coating 3 on the sealer after curing measured by a water resistance test by the frame leaving method is 5000 g/m^2 or less. - 特許庁

一実施形態では、鋼製医療用メスの刃先部１を、０．０２μｍを超え０．５μｍ以下の厚さの硬質炭素膜２で被覆する。例文帳に追加

The cutting edge portion 1 of a steel knife for medical use is coated with a hard carbon film 2 with a thickness above 0.02 mμ and equal to 0.5 μm or less. - 特許庁

続いて、上金型を下方に移動し、コア部の型面４３３を紫外線硬化樹脂に密着させ、樹脂膜を形成する。例文帳に追加

Subsequently, an upper die is moved to the under side and a die surface 433 of a core part is brought into close contact with the ultraviolet-curing resin to form a resin film. - 特許庁

蒸気、熱湯にさらされる環境下における耐久性に優れる塗膜を得ることができる硬化性組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a curable composition which can give a coated film excellent in the durability in the environment exposed to steam or hot water. - 特許庁

これによって、摺動面１０ａに硬質皮膜１２が被着されると共に、下地ディンプル１１ａと対応するディンプル１０ｂが形成される。例文帳に追加

A hard coating film 12 is applied to the sliding face 10a and dimples 10b corresponding to the substrate dimples 11a are formed by this process. - 特許庁

大気中かつ無潤滑環境下でも耐摩耗性・低摩擦性能に優れた硬質炭素被膜を提供する。例文帳に追加

To provide a hard carbon film having excellent wear resistance and low friction performance even in the atmosphere and under a non-lubricant environment. - 特許庁

鋼板表面に熱硬化型樹脂の下塗り塗膜を形成し、その上に熱硬化型ポリエステル系樹脂を主成分とする塗料を加熱乾燥することにより上塗り塗膜を形成したプレコート鋼板において、梱包資材の加圧による塗膜への模様転写を防止したものを提供する。例文帳に追加

To prevent the transfer of a pattern to a coating film due to the pressure of a packaging material in a precoated steel plate having an under coating film of a thermosetting resin formed on the surface of the steel plate and a top coating film formed thereon by heating and drying a coating material consisting essentially of a thermosetting polyester based resin. - 特許庁

非磁性支持体上の両側に塗膜を形成し、両面構造とした磁気ディスクの製造方法において、上記塗膜の硬化工程における硬化温度を、上記塗膜の結合剤のガラス転移点以上、且つ非磁性支持体のガラス転移点以下とする。例文帳に追加

In the process for producing the magnetic disk formed to a double side structure by forming coating films on both sides on a nonmagnetic base, the curing temp. in a curing stage of the coating films is set at above the glass transition point of the binder of the coating films and below the glass transition point of the nonmagnetic base. - 特許庁

低温および／または高湿度環境下における硬化造膜性、基材に対する付着性、および、さらに上塗りを塗布する際に、付着性に優れた水系硬化性樹脂組成物、膜形成方法および複層膜形成方法を提供することを目的とするものである。例文帳に追加

To provide a water-based curable resin composition excellent in curing and film-forming properties in the environment of a low temperature and/or a high humidity, in adhesion to a base material, and in adhesion when a top coat is further applied, a film forming method and a double-layer film forming method. - 特許庁

金属や半導体、セラミックス、プラスチックの表面に被覆したTiN、TiC、TiCN、DLCなどの硬質被膜を剥離するに際し、フェムト秒レーザを照射することにより、下地素材を損傷することなく被覆被膜のみを剥離するようにしたことを特徴とする硬質膜の剥離方法。例文帳に追加

Disclosed is a method for peeling a hard film where, when the hard film of TiN, TiC, TiCN, DLC or the like applied to the surface of a metal, a semiconductor, ceramics or plastics is peeled, by emitting a femtosecond laser, only the applied film is peeled without damaging the substrate stock. - 特許庁

基板１に近い層は膜硬度を高める原子５を添加し、最表面層６には表面エネルギーを下げる原子７を添加する、或いは添加割合を膜厚方向で変化させることにより、硬度が高く、かつ表面エネルギーの低い耐摩耗性に優れた保護膜を形成する。例文帳に追加

A protective film having an excellent wear resistance, an increased hardness and reduced surface energy is formed by adding atoms 5 which increases film hardness into layers near to a substrate 1 and atoms 7 which decreases surface energy into top surface layer 6, or changing the adding rate in the direction of film thickness. - 特許庁

（ＡｌＣｒ）Ｎ系皮膜又は（ＡｌＣｒＳｉ）Ｎ系皮膜よりも高硬度で耐酸化性に優れ、同時に熱応力が作用する環境下においても安定して優れた耐摩耗性及び密着強度を発揮し、高温における強度・靱性を高めた硬質皮膜又は該硬質皮膜を被覆した被覆工具を提供することである。例文帳に追加

To provide a hard film which has higher hardness and more excellent oxidation resistance than an (AlCr)N-based film or an (AlCrSi)N-based film, stably shows excellent abrasion resistance and cohesion strength even in an environment in which thermal stress works, and has enhanced strength and toughness at high temperatures, and to provide a tool coated with the hard film. - 特許庁

リソグラフィーで用いられる少なくとも３層を有する多層レジスト膜のレジスト下層膜の形成方法であって、ビスナフトール基を有する化合物を含有するレジスト下層膜材料を基板上にコーティングし、該コーティングしたレジスト下層膜材料を３００℃を超え、６００℃以下の温度で、１０秒〜６００秒間の範囲で熱処理して硬化させることを特徴とするレジスト下層膜形成方法。例文帳に追加

The method of forming the resist underlay film for the multilayer resist film having at least three layers to be used in lithography is characterized by: applying a resist underlay film material containing a compound having a bisnaphthol group on a substrate; and curing the applied resist underlay film by heat-treating at a temperature of >300°C and ≤600°C in a time range from 10 to 600 sec. - 特許庁

リソグラフィーで用いられる少なくとも３層を有する多層レジスト膜のレジスト下層膜の形成方法であって、ビスナフトール基を有する化合物を含有するレジスト下層膜材料を基板上にコーティングし、該コーティングしたレジスト下層膜材料を３００℃を超え、６００℃以下の温度で、１０秒〜６００秒間の範囲で熱処理して硬化させることを特徴とするレジスト下層膜形成方法。例文帳に追加

The method for forming a resist underlayer film of a multilayer resist film having at least three layers used in lithography includes: applying a resist underlayer film material containing a compound having a bisnaphthol group on a substrate; and curing the applied resist underlayer film material by heat treatment at a temperature of >300 to 600°C within a range of 10-600 s. - 特許庁

前記第二の基板５の表面に紫外線硬化樹脂膜からなる下地層１６が形成され、この下地層１６の上に水性インクが定着可能の親水性紫外線硬化樹脂膜からなるプリンタブル層１５が形成されている。例文帳に追加

A base layer 16 made of a UV-curing resin film is formed on the surface of the second substrate 5, and the printable layer 15 made of a hydrophilic UV-curing resin film in which water-based ink can be fixed is formed on the base layer 16. - 特許庁

樹脂板に対して、ウレタン硬化型下塗り塗料を塗布して下塗り塗膜を形成した後、シリケート化合物を含有するウレタン硬化型上塗り塗料を塗布して耐汚染性上塗り塗膜を形成することを特徴とする耐汚染性樹脂板の製造方法。例文帳に追加

In the method of manufacturing the stain-resistant resin plate, an urethane setting type under coating material is applied on a resin plate to form an under coating film and then an urethane setting type top coating material containing a silicate compound is applied thereon to form a stain- resistant top coating film. - 特許庁

摺動面に非晶質硬質炭素皮膜（２）を被覆したバルブリフター（１）及びシム（３）の製造方法において、ショットブラスト処理により基材表面（下地）の算術平均粗さをＲａ０．０１〜０.０３μｍかつキズの最大長さを２５０μｍ以下とし、その後に非晶質硬質炭素皮膜を被覆する。例文帳に追加

After that, the surfaces are coated with the amorphous hard carbon film. - 特許庁

床面に対し、（Ａ）硬化被膜の水に対する接触角が７０度以下である親水性反応硬化型樹脂、（Ｃ）平均粒子径３００μｍ以下の粉粒体、を含有し、単位体積当たりの粉粒体比率が３〜５５体積％の被膜を形成する塗床材を塗付する。例文帳に追加

A floor coating material containing (A) a hydrophilic reaction curing type resin having ≤70° contact angle of a hardened film to water and (C) granules having ≤300 μm average particle diameter and forming a coating film having a granular body ratio by volume of 3 to 55 vol.% per unit volume is applied on the surface of a floor. - 特許庁

抗菌性、防黴性、耐熱性に優れ、また、乾燥・硬化した塗膜の透明性が低下することがなく、しかも紫外線硬化後の塗膜が変色して意匠性が低下するおそれもない抗菌防黴性ハードコーティング塗料を提供することを課題とする。例文帳に追加

To obtain an antibacterial midewproofing hard coating material excellent in antibacterial properties, mildew resistance and heat resistance which does not reduce the transparency of dried and cured coated films and, in addition, does not have a possibility of causing the discoloration of the coated films after curing by ultraviolet rays to reduce designing properties. - 特許庁

アダマンタン構造を最小単位とする構造からなるカゴ型構造を有する化合物を含む有機絶縁膜であって、前記カゴ型構造を有する化合物を含む乾燥膜の誘電率が、該乾燥膜を硬化し有機絶縁膜とした硬化膜の誘電率に対する比として０．９５以上１．２以下であることを特徴とする有機絶縁膜。例文帳に追加

In the organic insulating film, the ratio of the dielectric constant of a drying film containing the compound having the cage structure to the dielectric constant of a cured film which is the organic insulating film obtained by curing the drying film is ≥0.95 and ≤1.2. - 特許庁

硬質皮膜被覆小径部材の基体は、ＷＣの平均結晶粒径が０．９μｍ以下、Ｃｏ含有量が２〜１３質量％、該Ｃｏ中にＣｒがＣｏの１．５〜１２質量％含有されているＷＣ基超硬合金であり、前記部材の少なくとも実作用部の表面に硬質皮膜が被覆され、該実作用部における該硬質皮膜の平均膜厚をＴａｖｅ、基体表面から突起表面までの最大高さをＴｍａｘとした時、Ｔｍａｘ／Ｔａｖｅが１〜１．３であることを特徴とする硬質皮膜被覆小径部材である。例文帳に追加

At least the surface of the actual working part of the member is covered with a hard film, and when the average film thickness of the hard anodic oxide coating in the actual working part is Tave, and the maximum height from the substrate surface to the projecting surface is Tmax, Tmax/Tave is 1 to 1.3. - 特許庁

膜の形成方法は、酸素濃度が５０〜３，０００ｐｐｍである雰囲気下で、ポリカルボシランを含有する塗膜を硬化させて膜を形成する工程を含む。例文帳に追加

The forming method of the film comprises a process for forming the film by curing film coating containing polycarbosilane under the atmosphere having oxygen concentration of 50-3,000 ppm. - 特許庁

塗膜上層が十分な塗膜硬度を有し、かつ塗膜下層が耐擦り傷性及び擦り傷の復元性に優れた水分散スラリー塗料を提供する。例文帳に追加

To obtain an aqueous dispersion slurry coating material which gives a coating film upper layer having sufficient coating film hardness and a coating film lower layer having excellent scratch resistance and scratch restorability. - 特許庁

ガラス基板２の上面の透明導電膜５及びＰＥＴフィルム１０の下面の透明導電膜１１は、共に、カーボンナノチューブを１０％未満分散含有する紫外線硬化型のアクリル樹脂の膜である。例文帳に追加

A transparent conductor film 5 on the upper face of the glass substrate 2 and a transparent conductor film 11 on the lower face of the PET film 10 each are a film of an ultraviolet-curable acrylic resin dispersively containing carbon nanotubes less than 10%. - 特許庁

窒化アルミニウム膜１０３は、化学気相成長法により成膜されたＣＶＤ膜であり、相対密度が５０％以上９８％未満であり、硬度は２ＧＰａ以上１０ＧＰａ以下である。例文帳に追加

The aluminum nitride film 103 is a CVD film deposited by a chemical deposition process, and, in which relative density is 50 to <98% and hardness is 2 to 10 GPa. - 特許庁

腹膜透析液のカルボニルストレス状態を改善することにより、腹腔内のタンパク質のカルボニル修飾による腹膜の機能（除水能）の低下や腹膜硬化症の進展の抑制につながる。例文帳に追加

By ameliorating carbonyl stress conditions of the peritoneal dialyzing fluid, it results in suppression of reduction in peritoneal functions (dehydration function) caused by carbonyl modification of protein in the abdominal cavity, also in suppression of development of peritoneal sclerosis. - 特許庁

電気めっき方法で形成される鉄−ニッケル合金めっき皮膜について、熱処理後においても皮膜硬度の低下が生じ難い新規な鉄−ニッケル合金めっき皮膜の形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for forming an iron-nickel alloy plating film which hardly causes the deterioration of film hardness even after heat treatment in the iron-nickel alloy plating film formed according to an electroplating method. - 特許庁

合わせガラス用中間膜としての機能を低下させることなく、機能性硬化膜と積層された、合わせガラス用積層中間膜シートの効率的な製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for efficiently producing a laminated interlayer sheet for laminated glass laminated with a functional hardened film without deteriorating functions as an interlayer for laminated glass. - 特許庁

この後、外的に水分調整を行いつつ、下塗り塗膜２及び上塗り塗膜３を硬化し、基材１上に耐候性塗膜４を形成する。例文帳に追加

The primer coating film 2 and the finish coating film 3 are thereafter cured while the coating films are externally subjected to moisture control and the weather resistant coating film is formed on the base material 1. - 特許庁

ΔＷ＝Ｗ２−Ｗ１ （Ｉ） ここで、Ｗ１及びＷ２は、下記式で算出した値で、Ｗｐは塗布時の塗布膜中のポリマー重量、Ｗ１ｔは鉛筆硬度２Ｂ時の塗布膜重量、Ｗ２ｔは塗布後２４時間後の塗布膜重量である。例文帳に追加

The content of the polymer (A) is 3-50 wt.%. - 特許庁

耐熱性、電気絶縁性（比誘電率３以下）、クラック耐性、ＣＭＰ耐性に優れた硬化膜が得られ、絶縁膜形成用材料として有用な膜形成用組成物を得る。例文帳に追加

To provide a composition for film formation which gives a cured film excellent in heat resistance, electrical insulation properties (with a relative permittivity of 3 or lower), and resistances to cracks and CMP and is useful as a material for insulation film formation. - 特許庁

基材１０上に少なくとも２層の薄膜を積層した積層膜２０であって、積層される薄膜の最上層２１のビッカース硬度を１２００Ｈｖ以上２５００Ｈｖ以下の範囲としたものである。例文帳に追加

The laminated film 20 includes at least two thin layers on a substrate 10, wherein the Vickers hardness of the uppermost layer 21 of the laminated thin films is in the range of ≥1,200 Hv and ≤2,500 Hv. - 特許庁

本発明のプリント基板用当て板材は、アルミニウムまたはアルミニウム合金の基材表面に、皮膜硬度１０００ｋｇ／ｍｍ^２以上の陽極酸化皮膜が、５０ｎｍ以上８００ｎｍ以下の膜厚で形成されている。例文帳に追加

The patch material for printed circuit boards is constituted by forming an anodically oxidized film having film hardness of ≥1,000kg/mm^2 and thickness of 50-800nm on the front surface of a base material surface of aluminum or aluminum alloy. - 特許庁

旧塗膜や下塗り塗膜を痛めることなく上塗り塗装でき、硬度の高い塗膜を形成できる塗料用組成物および塗料を提供すること。例文帳に追加

To obtain a coating material composition with which overlay coating can be done without damaging an old coating film or an underlay coating film and a coating film with a high hardness can be formed, and to obtain a coating material. - 特許庁

シリコン基板の上面、側面および下面を有機樹脂からなる封止膜、側部保護膜および下層保護膜で覆った半導体装置の製造に際し、液状樹脂からなる封止膜を硬化させるとき、半導体ウエハが反りにくいようにする。例文帳に追加

To prevent a semiconductor wafer from being easily warped in hardening a sealing film formed of a liquid resin when manufacturing a semiconductor device with an upper surface, side surfaces and an undersurface of a silicon substrate covered with the sealing film formed of an organic resin, a side part protective film and a lower layer protective film. - 特許庁

高温高湿環境下や光曝露下での光反射膜の劣化を抑制でき、耐久性、耐光性に優れ、なお且つ、柔軟性を有する硬化膜を与えることにより、反りの低減に優れた光ディスクを提供する。例文帳に追加

To provide an optical disk which prevents its light reflection film from deteriorating under an environment of high temperature and high humidity or under light exposure, is excellent in durability and in light resistance, and is also excellent in curvature reduction by using a cured film having flexibility. - 特許庁

主剤と硬化剤の混和性に優れ且つ混合後時間が経過しても形成される塗膜の光沢低下が少ない水系２液型塗料組成物及び光沢の低下が少ない塗膜の形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a water-based two-component coating composition having excellent miscibility of a main agent and a curing agent and causing little lowering of luster of the formed coating film even by the lapse of time after the mixing of the agents and provide a method for forming a coating film causing little lowering of the luster. - 特許庁

下ガラス基板１の配向膜５上および上ガラス基板１１の配向膜１６下には紫外線硬化型の透明なポジ型レジストからなる柱状のスペーサ１８が形成されている。例文帳に追加

Colmnar spacers 18 consisting of a transparent positive resist hardened by ultraviolet rays are formed on an alignment layer 5 of a lower glass substrate 1 and under an alignment layer 16 of an upper glass substrate 11. - 特許庁

この表面酸化皮膜は均一な厚みおよび構造を有し、ナノインデンテーション測定による硬度が５ＧＰａ以上（＝０.２ＧＰａ^-1以下）と皮膜強度が高く、表面の水の接触角が６０°以下と濡れ性に優れている。例文帳に追加

The surface oxide film has uniform thickness and structure, has high film strength such that hardness according to nanoindentation measurement is ≥5GPa (≤0.2GPa^-1), and has excellent wettability such that the contact angle of water in the surface is ≤60°. - 特許庁

下地基材に塗布した際にレベリング性が良く、膜欠陥を生じにくく、下地基材との密着性が高い透明塗膜を容易に形成可能な常温硬化型のコーティング用組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a room temperature-curable coating composition which exhibits good leveling properties when it is applied to a ground substrate, hardly causes a film defect, and can easily form a transparent coating film having high adhesion with the ground substrate. - 特許庁

ポリイミド系樹脂などの熱硬化性樹脂からなる保護膜上に強誘電体膜を有する薄膜容量素子が設けられた半導体装置において、強誘電体膜を形成するとき、その下の絶縁膜が熱的ダメージを受けないようにする。例文帳に追加

To make an insulating film under a ferroelectric film free from a thermal damage when the ferroelectric film is formed in a semiconductor device in which a thin film capacitive element having the ferroelectric film is provided on a protective film consisting of a thermosetting resin, such as a polyimide series resin, etc. - 特許庁

再生下ギャップ１３の上に成膜された磁気抵抗効果素子１７ａは、硬質磁性の磁石膜３１ａ，３１ｂ、非磁性膜３２ａ，３２ｂ、及び軟質磁性膜３３ａ，３３ｂを含む積層体からなる一対のバイアス磁石膜１４ａ，１４ｂに挟まれるように配置される。例文帳に追加

A magneto-resistance effect element 17a formed on a reproduced lower gap 13 is arranged so as to be interposed between a pair of bias magnet films 14a and 14b constituted of laminated bodies including hard magnetic magnet films 31a and 31b, non-magnetic films 32a and 32b, and soft magnetic films 33a and 33b. - 特許庁

表面被覆超硬合金製切削工具が、炭化タングステン基超硬合金で構成された超硬基体の表面に、プラズマＣＶＤにて、水素含有量：１０〜１５原子％、硬さ：２５〜３５ＧＰａ、表面粗さ（Ｒ）：３０ｎｍ以下、平均層厚：０．６〜１．５μｍ、を有するダイヤモンド状炭素被膜を磁場中成膜してなる。例文帳に追加

This surface covered cemented carbide cutting tool is constituted by depositing the diamond type carbon coat having hydrogen contents:10 to 15 atomic %, hardness:25 to 35GPa, surface roughness (R):less than 30nm and average layer thickness:06 to 1.5μm in a magnetic field by plasma CVD on a surface of a cemented carbide base body constituted of tungsten carbide group cemented carbide. - 特許庁

潤滑剤の存在下で摺動し硬質炭素薄膜を基材表面に被覆して成り、被覆前の基材のＲａが０．０２μｍ以下、アーク式イオンプレーティング法により成膜された硬質炭素薄膜の膜厚が０．５〜２．０μｍであり、被覆後のＲｐｋが０．０２μｍ以上である自動車エンジン用摺動部材である。例文帳に追加

The sliding member for automobile engines slides in the presence of a lubricant, and is formed by coating a base material surface with the hard carbon thin film, in which Ra of the base material prior to the coating is ≤0.02 μm, and the film thickness of the hard carbon thin film deposited by an arc type ion plating method is 0.5 to 2.0 μm. - 特許庁