硬膜下の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 817件
硬膜下血種例文帳に追加
a subdural hematoma - Weblio英語基本例文集
クモ膜下硬膜外シャント例文帳に追加
SUBARACHNOID EPIDURAL SHUNT - 特許庁
下塗り塗膜の硬化方法例文帳に追加
METHOD FOR CURING PRIMER COATING FILM - 特許庁
電子線硬化のレジスト下層膜形成組成物例文帳に追加
ELECTRON BEAM CURABLE RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION - 特許庁
還元性雰囲気下における絶縁膜の硬化例文帳に追加
CURING OF INSULATING FILM UNDER REDUCTION ATMOSPHERE - 特許庁
DLC膜、ta−C膜など、高硬度の膜厚50nm以下の薄膜について、きわめて短時間にその硬度を測定する。例文帳に追加
To extremely quickly measure the hardness of a thin film that has high hardness and has a film thickness of 50 nm or less such as a DLC film and a ta-C film. - 特許庁
該熱硬化型有機樹脂塗膜は、下塗り塗膜層と上塗り塗膜層との少なくとも2層を含む。例文帳に追加
The thermosetting organic resin coating film contains at least two layers, that is, an undercoating film layer and a topcoating film layer. - 特許庁
光架橋硬化のレジスト下層膜を形成するためのレジスト下層膜形成組成物例文帳に追加
RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION FOR FORMING OPTICAL CROSSLINKING/CURING RESIST UNDERLAYER FILM - 特許庁
なお、この鉄−ニッケル合金メッキの皮膜硬度は、マイクロビッカース硬度で約300以下である。例文帳に追加
Then, the hardness of this iron-nickel alloy plating film 2 is ≤ about 300 micro Vickers hardness. - 特許庁
下記(A)〜(G)成分を含むコーティング液及び該コーティング液を硬化してなる硬化膜である。例文帳に追加
The coating liquid contains the following components (A) to (G) and the cured film is obtained by curing the coating liquid. - 特許庁
硬膜下電極は、頭の硬膜下において脳表面11に接触して脳表面11の電位を検出する。例文帳に追加
The subdural electrode makes contact with the brain surface 11 under the dura mater to detect the electric potential of the brain surface 11. - 特許庁
硬質炭素薄膜の水素原子濃度が1原子%以下である。例文帳に追加
The hydrogen atom concentration of the hard carbon thin film is ≤1atom.%. - 特許庁
非経口的な投与ルートは静脈内、筋肉内、皮下または硬膜である。例文帳に追加
The parenteral administration routes include forms of intravenous, intramuscular, subcutaneous or dural routes. - 特許庁
また、窒化層2と硬質皮膜3の間にCrNからなる下地皮膜4を形成してもよい。例文帳に追加
And a base coating 4 in CrN may be formed between the nitric layer 2 and the hard coating 3. - 特許庁
薄膜条件下や、低照射エネルギー条件下でも速硬化性を有し、その硬化膜が高硬度等の優れた物性を有する硬化型組成物の提供。例文帳に追加
To provide a curable composition that has quick curability even under thin film conditions or under low irradiation energy conditions and gives a cured film having excellent physical properties such as high hardness and the like. - 特許庁
少なくとも、基材と、 下記成分(A)、(B)、(E)及び(F)を含有する硬化性組成物を硬化させてなる硬化膜層と、を有する積層体。例文帳に追加
The laminate comprises a substrate and a cured film layer made by curing a curable composition comprising components (A), (B), (E) and (F) described below. - 特許庁
そして、これら炭化物皮膜の硬度比(大きい方の硬度/小さい方の硬度)を、1.4以下の範囲とする。例文帳に追加
In addition, the hardness ratio between these carbide films (film having high hardness/film having low hardness) is in a range of 1.4 or lower. - 特許庁
)からなる群より選ばれた少なくとも1種の元素の窒化物、炭化物、炭窒化物、酸化物又はホウ化物を含有する硬質被膜で被覆してなる超硬材における硬質被膜を除去する方法であって、前記超硬材を100℃以上250℃以下の温度でアルカリ薬液に接触させる超硬材における硬質被膜の除去方法。例文帳に追加
The method includes bringing the superhard material into contact with an alkaline solution at a temperature ranging from 100 to 250°C inclusive. - 特許庁
さらに、この導電性皮膜を含む母材の表面を導電層よりも高硬度の少なくとも一層以上からなる硬質皮膜で被覆すると共に、前記硬質皮膜の膜厚が0.3mm以下に調整されている。例文帳に追加
Furthermore, the surface of the base material including the conductive coating is coated with a hard coating which comprises at least one layer having higher hardness than the conductive layer, and the film thickness of the hard coating is adjusted to 0.3 mm or less. - 特許庁
下地皮膜3は、酸素を固溶したTiN皮膜4よりもビッカース硬さでHV200以上低い硬さを有するのが望ましい。例文帳に追加
It is desirable that the backing film 3 has hardness more than HV 200 lower than the TiN film 4 solving oxygen in Vickers hardness. - 特許庁
少なくとも一方の摺動部材の摺動部には、硬質炭素被膜が被覆され、この硬質炭素被膜の水素含有量が20原子%以下である。例文帳に追加
At least one of slide parts of the slide members is coated by hard carbon coating, and the hard carbon coating contains 20 atom% or less hydrogen. - 特許庁
下地鋼板の表面に設けた熱硬化性塗膜を昇華性染料で染着し、熱硬化性塗膜層に染料染着層を形成する。例文帳に追加
A colorant dyed layer is formed on a heat curing coated film layer by dying a heat curing coated film provided on a base steel plate with a subliming colorant. - 特許庁
遮光膜の下の光硬化性接着樹脂を光照射だけで十分に硬化させて遮光膜と不透明基体とを接着する方法の提供。例文帳に追加
To provide a method for bonding a light shielding film and an opaque substrate by sufficiently setting a photo-setting adhesive resin under the light shielding film by only photoirradiation. - 特許庁
またコーティング膜9aの直下には硬質クロムメッキ9bの下地が施されている。例文帳に追加
Undercoating of hard chrome plating 9b is directly applied under the coating film 9a on the sliding portion. - 特許庁
硬質皮膜被覆摺動部材において、耐摩耗性、潤滑特性に優れ、更に硬質皮膜内の残留圧縮応力が低減させて硬質皮膜の厚膜化を可能にし、過酷な摺動環境下においても部材の摩耗、焼き付き、相手材の攻撃性を低減させることのできる硬質皮膜被覆部材を提供する。例文帳に追加
To provide a hard film coated sliding member having improved wear resistance and lubricating property and reduced compressive stress residing in a hard film to permit the thickening of the hard film and reduce the wear, seizure and other attacking property of the member under severe sliding environment. - 特許庁
250℃以下で硬化しても、硬化後の膜の物性が、高温で硬化したものと遜色ない性能が得られる感光性樹脂組成物、該樹脂組成物を用いたパターン硬化膜の製造方法及び電子部品を提供する。例文帳に追加
To provide a photosensitive resin composition, a film of which even when cured at ≤250°C, after curing ensures physical properties comparable to those of a film cured at a high temperature, to provide a method of manufacturing a pattern-cured film using the resin composition, and to provide electronic components. - 特許庁
200℃以下の低温硬化においても、優れた硬化膜特性を有する低温硬化用のポジ型感光性樹脂組成物、パターン硬化膜の製造方法及び電子部品を提供する。例文帳に追加
To provide a cold-setting positive photosensitive resin composition having excellent cured film characteristics even at cold cure at 200°C or lower, a production method for a pattern cured film and an electronic component. - 特許庁
膜硬度の低下、磁気スペーシングの増加を伴わず、硬質膜でかつコンタミネーションガスが極めて吸着しにくい、保護膜、該保護膜の製造方法、および該保護膜を有する磁気記録媒体を提供すること。例文帳に追加
To provide a protective film as a hard film on which contamination gas is extremely hard to adsorb without causing the reduction of film hardness and the increase of magnetic spacing, to provide a method of producing the protective film, and to provide a magnetic recording medium having the protective film. - 特許庁
70°C以下の加熱処理で充分に硬化し、その硬化被膜が耐擦傷性に優れ、且つ保存安定性に優れる被膜形成用塗布液、該被膜形成用塗布液から得られる被膜及び該被膜を形成する方法を提供する。例文帳に追加
To provide a coating film-forming coating liquid fully curable by heat treatment at 70°C or lower, giving cured coating film of high scratch resistance, and excellent in storage stability, to provide the resultant coating film, and to provide a method for forming the coating film. - 特許庁
更に硬膜外針の有用性を更に高めるため、カテーテルディスペンサーを併用することによって、硬膜外針を保持しながら清潔下に硬膜外カテーテルを挿入することが可能である。例文帳に追加
In addition, by using a catheter dispenser together with the epidural needle for further improving the merit of the epidural needle, an epidural catheter can be inserted sanitarily while holding the epidural needle. - 特許庁
耐摩耗性硬質皮膜の形成に高温を必要とせず、熱変形による母材の寸法精度低下や硬度低下を生じることがなく、低温で耐摩耗性硬質皮膜を摺動部材に形成させる。例文帳に追加
To provide a sliding member having an abrasion-resistant hard coating thereon, which is formed at a low temperature without requiring high temperatures and thereby without a reduction of dimension accuracy due to heat deformation and of a hardness of a base material. - 特許庁
比較的軟質で透明なプラスチック基材と高硬度塗膜層とからなり、その高硬度塗膜層の膜厚が10μm以下の薄い膜厚で、かつ鉛筆硬度が4H以上の高い表面硬度を有する防眩性プラスチック基材を得る。例文帳に追加
To provide a glare-proof plastic substrate which is composed of a relatively soft transparent plastic substrate and a high-hardness coating layer and in which the high-hardness coating layer has a film thickness as thin as 10 μm or thinner, and has a surface hardness as high as 4H or higher in terms of pencil hardness. - 特許庁
現像後のクロム酸水溶液による硬膜が、濃度10重量%以上のクロム酸水溶液による第一硬膜と、温水浸漬と、濃度5重量%以下のクロム酸水溶液による第二硬膜で構成される硬膜であること。例文帳に追加
A hard film by chromic acid solution after development comprises a first hard film formed by chromic acid solution having a concentration of 10 wt.% or more, and a second hard film formed by hot water immersion and by chromic acid solution having a concentration of 5 wt.% or less. - 特許庁
飽和磁化が0.5emu/g以上である粒状磁性材料を含む熱硬化性塗料組成物を用いて、未硬化塗膜を形成する、塗膜形成工程;およびこの未硬化塗膜を、磁場の作用下において加熱する、熱硬化工程;を包含する、塗膜形成方法。例文帳に追加
The method for forming a coating film includes: a step where an unset coating film is formed using a thermosetting coating material composition comprising a granular magnetic material whose saturation magnetization is ≥0.5 emu/g: and a thermosetting step where the unset coating film is heated under the action of a magnetic field. - 特許庁
この電気Niめっき被膜21は、ビッカース硬度が300以上600以下の高硬度領域とビッカース硬度が150以上300以下の低硬度領域とを有する。例文帳に追加
The electroplated Ni coating film 21 has a high hardness region where the Vickers hardness is 300 or higher and 600 or lower, and a low hardness region where the Vickers hardness is 150 or higher and 300 or lower. - 特許庁
このとき、ポリエチレンワックスを含有した塗料で下層側の塗膜を形成し、次いで下層側の塗膜上に、塗り重ね塗膜を形成し、下層側の塗膜と塗り重ね塗膜を同時に焼き付け硬化させる。例文帳に追加
The lower layer is first formed from a coating material containing polyethylene wax, and a recoating film is formed on the lower wet film, and the lower wet film and the recoated wet film are simultaneously baked. - 特許庁
この下部絶縁膜3上には、磁気抵抗効果素子4,第1の硬磁性膜5,及び電極膜6が所定のパターンで形成されている。例文帳に追加
The magnetoresistive effect element 4, a first hard magnetic film 5 and an electrode film 6 are formed in prescribed patterns on this lower insulating film 3. - 特許庁
MR薄膜7は、このMR薄膜7が硬磁性薄膜6から発生した磁場の影響下にあるように基板4に配置されている。例文帳に追加
An MR thin membrane 7 is arranged on the substrate 4 so that the MR thin membrane 7 is under the influence of a magnetic field generated from the hard thin magnetic membrane 6. - 特許庁
防曇性能に優れ、塗膜と成形品との密着性が良好で、吸水時の塗膜硬度の低下がない優れた防曇塗膜を得る。例文帳に追加
To obtain an excellent anti-fogging coating film which has excellent anti-fogging performance and good adhesion between the coating film and a molded article and does not cause reduction in hardness of the coating film upon absorbing water. - 特許庁
電子線硬化のケイ素含有レジスト下層膜を形成するためのケイ素含有レジスト下層膜形成組成物例文帳に追加
SILICON-CONTAINING RESIST UNDERLAYER FILM FORMING COMPOSITION FOR FORMING ELECTRON BEAM CURED SILICON-CONTAINING RESIST UNDERLAYER FILM - 特許庁
1995年『EastMeetsWest』で初の米国ロケ中に言語障害を起こし、硬膜下血腫と診断される。例文帳に追加
In 1995, while he did his first location shoots in the Unites States for the film "East Meets West" he suddenly had a speech disorder, and was diagnosed with intradural hematoma/subfural hemorrhaging. - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
硬質炭素被膜は、水素含有量10at%以下のダイヤモンドライクカーボンから成る。例文帳に追加
The hard carbon-coating film consists of a diamond like carbon having ≤10 at.% hydrogen content. - 特許庁
硬質炭素被膜に含まれる水素原子の量が0.5原子%以下である。例文帳に追加
The volume of the hydrogen atoms contained in the hard carbon film is ≤0.5at%. - 特許庁
かかる硬質炭素薄膜は水素原子の含有量が30原子%以下である。例文帳に追加
The hard carbon membrane has a hydrogen atom of 30 atom % or less in the content. - 特許庁
下記(A)〜(E)成分からなることを特徴とする反射防止膜用硬化性組成物。例文帳に追加
The curing composition for an antireflection film consists of the following components (A) to (E). - 特許庁
前記硬質膜(6) の含有水素は10アトミック%以下であることが望ましい。例文帳に追加
Preferably, the hydrogen that the hard film 6 contains is 10 atomic % or less. - 特許庁
保護層を3.0nm以下の薄膜で形成した場合においても、十分な硬度を得ること。例文帳に追加
To obtain sufficient hardness even when a protective layer is formed with ≤3.0 nm thin film. - 特許庁
熱硬化性樹脂組成物、カラーフィルタ用下地膜、並びに固体撮像素子及び液晶表示装置例文帳に追加
THERMOSETTING RESIN COMPOSITION, UNDERLYING FILM FOR COLOR FILTER, SOLID STATE IMAGE SENSOR AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY - 特許庁
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