「表面荷電」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

表面が疎水性の支持担体と、該支持担体の疎水性表面に吸着した両荷電層とよりなって、前記両荷電層を、陽及び陰の両荷電部を有するモノマーの重合したポリマーで構成した。例文帳に追加

The stationary phase is constructed of a supporting carrier having a hydrophobic surface and a double-charged layer adsorbed to the hydrophobic surface of the supporting carrier, the double-charged layer is constructed of a polymer prepared by polymerizing a monomer having both of positive and negative charge parts. - 特許庁

荷電粒子線を試料表面に対して、所望の領域に広範囲の角度で照射可能な荷電粒子線装置を実現する。例文帳に追加

To obtain a charged particle beam device which can irradiate a desired region of a sample surface with a charged particle beam at an angle of wide range. - 特許庁

炭素非粒子団及び粒子団荷電粒子ａを、質量分析器１により粒子団荷電粒子ｂ１と非粒子団荷電粒子ｂ２とに選別し、これらの粒子団荷電粒子ｂ１と非粒子団荷電粒子ｂ２を物質表面に照射する。例文帳に追加

A carbon non-particle group and charged particles (a) of a particle group are sorted into charged particles b1 of the particle group and charged particles b2 of a non-particle group by a mass spectrograph 1, and charged particles b1 of the particle group and charged particle b2 of the non-particle group are irradiated to a substance surface. - 特許庁

放射感応性表面は、１０〜２００ｎｍの波長の放射および／または荷電粒子に感応する。例文帳に追加

The radiation sensitive surface is sensitive to radiation wavelengths of 10 to 200 nm and/or charged particles. - 特許庁

荷電粒子のビームによって基板の表面上にパターンを形成する方法例文帳に追加

METHOD FOR FORMING PATTERN ON SURFACE OF SUBSTRATE BY BEAM OF CHARGED PARTICLES - 特許庁

荷電粒子ビームの照射により表面を像形成する方法及び装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method and a device for imaging a surface by irradiation of a charged particle beam. - 特許庁

荷電粒子ビーム装置、及び試料の表面の帯電状態を知る方法例文帳に追加

CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE AND METHOD OF KNOWING ELECTROSTATIC CHARGE CONDITION IN SURFACE OF SAMPLE - 特許庁

表面の方に流体を導くことによって、荷電粒子ビーム処理の間表面を保護する保護層が加工物に塗布される。例文帳に追加

A protective layer is applied on a work piece to protect the surface during charged particle beam processing by directing fluid toward the surface. - 特許庁

複数の荷電粒子ビームを被加工物表面１００に対して同一の相対運動で同時に照射し、被加工物表面１００の加工を行う。例文帳に追加

A workpiece surface 100 is processed by simultaneously irradiating a plurality of charged-particle beams to the workpiece surface 100 in the same relative movement. - 特許庁

ここでは、検出対象の荷電粒子は物体表面に達していないので、物体の材質や表面形状の影響を受けるおそれがない。例文帳に追加

Herein, since charge particles of the object to be detected do not reach the surface of the object, a risk receiving influence of material and surface shape of the object does not exist. - 特許庁

光学素子内の捕捉された荷電粒子は、光学素子上に表面電荷を生じ、この表面電荷は、光学素子への埃の誘引を低減する。例文帳に追加

Trapped charged particles within an optical element result in a surface charge on the optical element, the surface charge reducing the attraction of dust to the optical surface. - 特許庁

表面を像形成する方法は、表面の第１領域を一次荷電粒子ビームで第１スキャン速度においてスキャニングして、その第１領域から第１の二次荷電粒子ビームを発生し、表面の第２領域を一次荷電粒子ビームで上記第１スキャン速度よりも速い第２スキャン速度においてスキャニングして、その第２領域から第２の二次荷電粒子ビームを発生することを含む。例文帳に追加

The method for imaging a surface includes: scanning a first region of the surface with a primary charged particle beam at a first scan rate so as to generate a first secondary charged particle beam from the first region; and scanning a second region of the surface with the primary charged particle beam at a second scan rate faster than the first scan rate so as to generate a second secondary charged particle beam from the second region. - 特許庁

表面検査装置は、荷電粒子ビーム２を試料１０に照射するビーム源１と、試料表面からの荷電粒子を検出部する検出部１８とを備える。例文帳に追加

The surface inspection apparatus is provided with a beam source 1 by which the sample 10 is irradiated with a charged particle beam 2 and a detection part 18 which detects charged particles from the surface of the sample. - 特許庁

試料１０の表面が所定の電気抵抗値を有する抵抗膜４２により被覆され、荷電粒子ビーム２が試料１０に照射され、試料表面から発生される二次荷電粒子等が検出部１８により検出される。例文帳に追加

The surface of the sample 10 is coated with a resistance film 42 having a predetermined electric resistance value, the charged particle beam 2 is radiated to the sample 10, and a secondary charged particle or the like generated from the sample surface is detected by the detector 18. - 特許庁

荷電制御剤がトナー表面に外添・処理されている電子写真用トナーにおいて、表面荷電制御剤濃度のトナー粒子間の標準偏差が０．２以下、且つ、荷電制御剤の使用量が０．５％以下であることを特徴とする電子写真用トナー。例文帳に追加

As for the toner for electrophotography obtained by externally adding and treating a charge control agent on the surface of the toner, the standard deviation of the concentration of the surface charge control agent between toner particles is ≤0.2 and the usage of the charge control agent is ≤0.5%. - 特許庁

基体と、被覆層とを有する測定試料の表面の摩耗量を測定する方法において、測定試料と同等な標準試料に、励起電離放射線を照射して物質表面から発生する荷電粒子を計測することによって得られる荷電粒子エネルギースペクトルから物質表面の元素を分析する表面元素分析装置を使用し、標準試料表面のスペクトルを作成する。例文帳に追加

In the measurement method for abrasion loss of a measurement sample surface having a substrate and a coating layer, a standard sample surface spectrum is formed by using a surface element analyzer analyzing element of a material surface from charged particle energy spectrum obtained by measuring charged particles generated out of the material surface when excited ionization radiation is irradiated to a sample identical to the measurement sample. - 特許庁

荷電粒子はトナーの表面に離脱可能に保持された状態で供給され、第１の電界に基づく付勢力によってトナーの表面から分離した後キャリアの表面に保持される。例文帳に追加

The charged particles are supplied in a state where they are detachably held on the surface of the toner, and the charged particles are separated from the surface of the toner by biasing force based on the first electric field and are then held on the surface of the carrier. - 特許庁

露光光として荷電粒子線を用いる露光方法であって、次の露光位置に対して露光を行う直前における露光表面の表面電位分布に基づいて電磁気学的運動方程式を解くことにより、この露光表面の帯電に起因する荷電粒子線の軌跡ずれを求め、この軌跡ずれに基づいて荷電粒子線の偏向角度を補正して次の露光位置に対する露光を行う。例文帳に追加

In the exposing method employing a charged particle beam as exposing light, an electromagnetic equation of motion is solved based on the potential distribution on the exposure surface immediately before a next exposing position is exposed in order to determine the orbital shift of the charged particle beam caused by charging on the exposure surface, and deflection angle of the charged particle beam is corrected before starting exposure at the next exposing position. - 特許庁

測定エラーが生じた場合であってもマップを作成し、その結果を基に荷電粒子ビームを試料の表面に正確に収束させることが可能な荷電粒子ビーム描画方法および荷電粒子ビーム描画装置を提供する。例文帳に追加

To provide a charged particle beam lithography method and a charged particle beam lithography apparatus, capable of creating a map even when any measurement error occurs and accurately converge a charged particle beam on the surface of a test piece on the basis of the results. - 特許庁

絶縁物試料を荷電粒子線にて観察する際に発生する帯電によって、試料表面電位が荷電粒子線照射領域面内で不均一となることで生じる電位勾配により該荷電粒子線の軌道が偏向されるビームドリフトを低減する。例文帳に追加

To reduce a beam drift deflecting an orbit of charged particles by a potential gradient generated by unevenness of the potential on the surface of a sample in a face of a charged particle beam irradiation area generated by electrification generated when an insulated sample is observed by the charged particle beams. - 特許庁

スレッシュホールド電圧は、バイアスされた荷電ローラーのＤＣ電流・対・電圧曲線の傾斜を使用し、荷電膝より下の複数のターゲット電圧に対して光受容体表面電位を測定して切片値を得るか、又は荷電膝の実際の値を見つけることで、見出すことができる。例文帳に追加

The threshold voltage can be found, by using the slope of the biased charging roller DC current vs. voltage curve, measuring the photoreceptor surface potential with respect to a plurality of target voltage values lower than the charging "knee" of the curve to obtain the intercept value, or finding the actual value of the charging knee. - 特許庁

次いで、半導体装置１の表面に荷電ビーム５を照射および走査することで、配線３に荷電ビーム５を吸収させ、増幅器７と接続されたプローブ２により配線３が吸収した荷電ビーム５（電流）を検出し、その検出した電流を増幅器７にて増幅する。例文帳に追加

The apparatus then irradiates a surface of a semiconductor device 1 with the charged beam 5 and scans the device 1 to absorb the beam 5 to the wirings 3, detects the beam 5 (current) absorbed by the wirings 3 by the probe 2 connected to the amplifier 7, and amplifies the detected current by the amplifier 7. - 特許庁

収差を軽減して試料に荷電粒子ビームを照射可能であるとともに、試料の表面にガスを導入する場合などでも、放電のおそれ無く荷電粒子ビームを照射することが可能な荷電粒子ビーム装置を提供する。例文帳に追加

To provide a charged particle beam device capable of irradiating charged particle beams to a test piece by reducing aberration and capable of irradiating charged particle beams without a possibility of discharge even when introducing gas to the surface of the test piece. - 特許庁

荷電粒子ビーム検査方法及び装置において、荷電粒子ビーム光学鏡筒の下面と試料との間に、導電性を有し、かつ、荷電粒子光学系の光路に沿って開口を有し、かつ、試料の表面上のＥＢ照射点から見て、鏡筒の下部の一部を覆う板を設ける。例文帳に追加

In the charged particle beam inspection method and device, a conductive plate having an opening along an optical path of a charged particle optical system, for covering a part of a lower part of a lens-barrel according to a view from an EB irradiation point on the sample surface is provided between the under surface of a charged particle beam optical lens-barrel and the sample. - 特許庁

カリックスアレーンの表面の少なくとも一部がポリエステル系樹脂により被覆されてなるスチレン系樹脂粉体用荷電制御剤。例文帳に追加

The charge controlling agent for styrene resin powder is prepared by coating at least a part of the surface of calixarene with polyester resin. - 特許庁

セルロースアシレート溶液に添加する微粒子としては、その表面に正の荷電を有する二酸化ケイ素を用いる。例文帳に追加

Silicon dioxide having positive electric charge on its surface is used as fine particles to be added to the cellulose acylate solution. - 特許庁

該粒子として、微粒子を荷電制御剤の溶液により表面処理して得られた画像表示用粒子を用いる。例文帳に追加

As the particles, picture displaying particles obtained by surface- treating particulates with a solution of a charge control agent are used. - 特許庁

荷電粒子を含有する流体に曝露される金属表面への放射性種の蓄積を低減する酸化物皮膜を形成する方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method of forming an oxide coating for reducing the accumulation of radioactive species on a metallic surface exposed to fluids containing charged particles. - 特許庁

試料表面上に帯電領域が存在していても、像観察を明瞭に行うことができる走査型荷電粒子ビーム装置を実現する。例文帳に追加

To provide a scanning charged particle beam device capable clearly performing image observation even when a charged region exists on the surface of a sample. - 特許庁

供給ローラ１の表面部に付着したトナーは予備荷電部材２との接触で帯電され、現像ローラ３に転写（供給）される。例文帳に追加

Toner sticking on a surface part of the supply roller 1 is electrostatically charged by coming into contact with the precharging member 2 and transferred (supplied) to the developing roller 3. - 特許庁

最後に、荷電粒子ビームカットによって露呈された表面が画像化されて、欠陥についての追加の情報を得る。例文帳に追加

Ultimately, a surface exposed by the charged particle beam cut is imaged to obtain additional information about the defect. - 特許庁

ある実施形態において、上記表面の少なくとも一部分の上記官能基は、荷電ポリマーにより影響を受ける。例文帳に追加

In some embodiments, the functionality on at least a portion of the surface is influenced by a charged polymer. - 特許庁

多様な表面側パターンを形成することが可能であり、且つ荷電粒子を導入する際の変形が抑制されたステンシルマスクを提供すること。例文帳に追加

To provide a stencil mask which is capable of forming a various surface patterns and restrained from being deformed when introducing charged particles. - 特許庁

この調節により、板状対象物９への荷電粒子の入射を抑制しながら板状対象物９の表面に処理を施す。例文帳に追加

The surface of the plate-like object 9 is treated by this adjustment while suppressing injection of the charged particles into the plate-like object 9. - 特許庁

電気メッキ装置は、ウェーハの表面上方又は下方に配置可能で、陽極として荷電させることが可能なメッキヘッドを含む。例文帳に追加

The electroplating apparatus comprises a plating head capable of being set on the upper or lower part of the surface of a wafer and capable of being charged as an anode. - 特許庁

また、放電空間に残っていた正の荷電粒子も、保護層表面の維持電極１７Ｘ側に収束する。例文帳に追加

Moreover, the positive charge particles remaining in the discharge space are also converged on the side of a sustaining electrode 17X on the protective layer surface. - 特許庁

樹脂と着色剤および必要に応じて荷電制御剤を混練・粉砕した後、表面を平滑化した画像表示用粒子を用いる。例文帳に追加

The particle for displaying the image which is produced by blending a resin with a colorant and a charge controlling agent, if necessary, kneading and crushing the obtained mixture and then smoothing a particle surface, is used. - 特許庁

試料表面の高低差があっても信頼性の高い高精度な寸法測定を可能にする荷電粒子線装置を提供する。例文帳に追加

To provide a charged particle beam device which enables highly reliable and precise dimension measurement regardless of height difference of surfaces of a sample. - 特許庁

これにより、試料を介した荷電粒子量が走査位置に依存して変化しても、表面電位に関する情報をムラなく取得することができる。例文帳に追加

Thus, information on the surface electric potential can be acquired without unevenness even when the amount of charged particles through the sample varies dependent on the scanning position. - 特許庁

得られた構成部品表面のジータ電位符号は、冷却材流内の荷電粒子と同じジータ電位符号となる。例文帳に追加

The obtained ZETA potential sign on the constituent surface becomes the same ZETA potential as the charged particles in the coolant flow. - 特許庁

荷電粒子の衝突による膜質の劣化を防止し、高速且つ高品質に成膜可能な表面処理装置を提供する。例文帳に追加

To provide a surface treating device capable of forming a film high in quality at a high speed by preventing the film quality from being deteriorated due to the collision of charged particles. - 特許庁

各塗料毎に、発泡の抑制に好適なＳＳの表面の荷電量となるように調整することにより、発泡を効果的に抑制する。例文帳に追加

The occurrence of foaming is suppressed effectively by adjusting the surface of the SS to have a charged quantity suitable for the suppression of the foaming every coating materials. - 特許庁

感度は、半導体表面の活性領域へ荷電粒子を放出する転換層の厚さまたは構成を変化させることにより変化させる。例文帳に追加

The sensitivity is changed by changing the thickness or the constitution of a conversion layer for emitting charged particles to an active region on the semiconductor surface. - 特許庁

メッキヘッドは、ウェーハ及びメッキヘッドが荷電されている時、ウェーハの表面とメッキヘッドとの間での金属メッキを可能にできる。例文帳に追加

The plating head enables metal plating between the surface of the wafer and the plating head when the wafer and the plating head are charged. - 特許庁

荷電表面を使用して合成生体分子を跳ね返して残液に保持するか又は合成生体分子を膜濾過に優先的に吸引することにより合成生体分子を精製濃縮するために荷電ＵＦ膜を使用する。例文帳に追加

A charged UF membrane is used to purify and concentrate the synthetic biological molecules by using a charged surface either to repel the synthetic biological molecules and to retain them in a residual liquid or to preferentially attract the synthetic biological molecules for filtration through the membrane. - 特許庁