「D layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

The ratio ξ=D_p/D_v of the outer diameter D_p to the inner diameter D_v of the via hole pattern is corrected in accordance with the thickness of the dielectric layer in the position where the via hole is formed.例文帳に追加

このとき、ビアホール形成位置の誘電体層の厚さに応じて、ビアホールパターン外径Ｄ_Ｐとビアホール内径Ｄ_Ｖとの比ξ＝Ｄ_Ｐ／Ｄ_Ｖを補正する。 - 特許庁

The device is provided with a data signal wiring d inside a rear substrate SUB1 and a scanning signal wiring s formed with an insulating layer INS in-between, and an electron source ELS is formed at a crossing part between the data signal wiring d and the scanning signal wiring s.例文帳に追加

背面基板ＳＵＢ１の内面にデータ信号配線d、絶縁層ＩＮＳを介して形成された走査信号配線ｓを有し、データ信号配線dと走査信号配線ｓの交差部に電子源ＥＬＳが形成されている。 - 特許庁

As to this hot rolled steel sheet, in a hot rolled steel sheet in which the surface layer of ferrite is provided with scale, the average grain size L in the surface layer of ferrite is controlled to ≤20 μm, the thickness (d) of the scale is controlled to ≤10 μm and also, L×d2≤1,000 is satisfied.例文帳に追加

地鉄表層にスケールを有する熱延鋼板において、地鉄表層の平均粒径Lが20μm以下、スケール厚さdが10μm以下で、かつL×d^2≦1000を満たすことを特徴とする熱延鋼板。 - 特許庁

The film thickness (d) of the thermal diffusion layer 7 is controlled to satisfy 0<d≤(5/16)λ/n or (7/16)λ/n≤d≤(1/2)λ/n, wherein (n) is the refractive index of the thermal diffusion layer 7.例文帳に追加

熱拡散層７の屈折率をｎとするとき、熱拡散層７の膜厚ｄを０＜ｄ≦（５／１６）λ／ｎ又は（７／１６）λ／ｎ≦ｄ≦（１／２）λ／ｎの範囲内に設定する。 - 特許庁

The magnetic layer contains Ag in CoCrPtB alloy, and a composition ratio of this magnetic layer is settled in a range of Co_(100-a-b-c-d)Cr_aPt_bB_cAg_d(21≤a+c≤30at%, 6≤b≤20at%, 1≤d≤9at%).例文帳に追加

磁性層は、ＣｏＣｒＰｔＢ合金にＡｇを含有し、該磁性層の組成比が、Ｃｏ_（１００−ａ−ｂ−ｃ−ｄ）Ｃｒ_ａＰｔ_ｂＢ_ｃＡｇ_ｄ（２１≦ａ＋ｃ≦３０ａｔ％、６≦ｂ≦２０ａｔ％、１≦ｄ≦９ａｔ％)の範囲にある。 - 特許庁

Thereby, the layer thickness d of the liquid crystal layer 50 in the reflective display region 100b is much smaller than the layer thickness d of the liquid crystal layer 50 in the transmissive display region 100c.例文帳に追加

このため、反射表示領域１００ｂにおける液晶層５０の層厚ｄは、透過表示領域１００ｃにおける液晶層５０の層厚ｄよりもかなり薄い。 - 特許庁

Pads 3 (M1 to M5) located on each layer of the multilayered wiring layer where a semiconductor integrated circuit 2 is provided are reduced in area by areas a, b, c, and d excluding an uppermost layer M5, through a process of subtracting the areas a to d from the area of the uppermost layer M5, respectively.例文帳に追加

半導体集積回路２が設けられた半導体基板上の多層配線層の各層の複数のパッド３（Ｍ１〜Ｍ５）は最上層以外は、最上層のパッドＭ５に対して面積が削減（ａ〜ｄ）されている。 - 特許庁

A first layer (lower layer) and a second layer (upper layer) are formed respectively so as to become the relation of A<B<C<D<E<F<G<H<I<J<K and the relation of a<b<c<d< e<f<g<h<i<j<k.例文帳に追加

即ち、第１層（下層）はＡ＜Ｂ＜Ｃ＜Ｄ＜Ｅ＜Ｆ＜Ｇ＜Ｈ＜Ｉ＜Ｊ＜Ｋの関係となるように、第２層（上層）はａ＜ｂ＜ｃ＜ｄ＜ｅ＜ｆ＜ｇ＜ｈ＜ｉ＜ｊ＜ｋの関係となるようにそれぞれ形成されている。 - 特許庁

The film thickness of the organic compound layer satisfies a relationship of the following equation (1): d_1<d_2< ..., <d_n, wherein d_1 denotes the film thickness of a first organic compound layer, d_2 denotes the film thickness of a second organic compound layer, and d_n denotes the film thickness of an n-th organic compound layer.例文帳に追加

ｄ_1＜ｄ_2＜・・・＜ｄ_n （１）（式（１）において、ｄ_1は、第１有機化合物層の膜厚を表す。ｄ_2は、第２有機化合物層の膜厚を表す。ｄ_nは、第ｎ有機化合物層の膜厚を表す。） - 特許庁

As an active layer 15, a semiconductor layer of In1-xGaxN1-y-zAsyPz (where, 0≤x,y,z<1) is formed, while as clad layers 14 and 16 for sandwiching the active layer, a semiconductor layer comprising AlaInbGa1-a-bN1-c-dAscPd (where 0≤a,b,c,d≤1) is formed.例文帳に追加

活性層１５としてＩn_1-xＧa_xＮ_1-y-zＡs_yＰ_z［但し、０≦ｘ,ｙ,ｚ＜１］からなる半導体層を形成し、この活性層を挟むクラッド層１４,１６としてＡl_aＩn_bＧa_1-a-bＮ_1-c-dＡs_cＰ_d［但し、０≦ａ,ｂ,ｃ,ｄ≦１］からなる半導体層を形成する。 - 特許庁

For the reason stated above, layer thickness d of a liquid crystal layer 50 in the reflective display region 100b is considerably thinner than layer thickness d of a liquid crystal layer 50 in the transmissive display region 100c.例文帳に追加

このため、反射表示領域１００ｂにおける液晶層５０の層厚ｄは、透過表示領域１００ｃにおける液晶層５０の層厚ｄよりもかなり薄い。 - 特許庁

Shore D hardness of the second layer 18b is set to 40 to 65, and Shore D hardness of the inner layer 16 (an A layer) positioned inside the second layer 18b is set to 35 to 65.例文帳に追加

そして、第２層１８ｂのショアＤ硬度を４０〜６５に設定するとともに、該第２層１８ｂの内側に位置する内層１６（Ａ層）のショアＤ硬度を３５〜６５に設定する。 - 特許庁

A control layer for controlling a threshold voltage is provided only on the top surface of the barrier layer of the D-FET to raise up the gate contact layer of the barrier layer, and the buried gate region is formed by doping of impurities.例文帳に追加

D-FETの障壁層上面にのみしきい値電圧を調整するための調整層を設けて障壁層のゲートコンタクト層の嵩上げを行い、不純物をドーピングして埋め込みゲート領域を形成する。 - 特許庁

A laminated packaging material has laminated constitution of surface layer (C)/adhesive resin layer (D)/layer (A) comprising saponified ethylene/vinyl acetate copolymer or compsn. thereof/polyamide resin layer (B)/ layer (A) comprising saponified ethylene/vinyl acetate copolymer or compsn. thereof/adhesive resin layer (D)/surface layer (C).例文帳に追加

表面層（Ｃ）／接着性樹脂層（Ｄ）／エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物またはその組成物層（Ａ）／ポリアミド系樹脂層（Ｂ）／エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物またはその組成物層（Ａ）／接着性樹脂層（Ｄ）／表面層（Ｃ）の積層構成を有してなる。 - 特許庁

The graphite-particle deposition layer 7 shows the I_D/I_G of 1 or less, which is a ratio of an integrated intensity I_D in a peak that represents a band (D) obtained by separating a peak of a Raman spectrum obtained from Raman spectroscopy, to an integrated intensity I_G in a peak that shows a band (G).例文帳に追加

グラファイト粒子堆積層７は、ラマン分光分析によるラマンスペクトルをピーク分離して得られる、Ｄバンドを表すピークの面積強度Ｉ_D とＧバンドを表すピークの面積強度Ｉ_G の比たる、Ｉ_D ／Ｉ_G が１以下である。 - 特許庁

The near-infrared absorptive adhesive layer includes a (meth)acrylic adhesive resin component (d) and a near-infrared absorptive pigment (e).例文帳に追加

近赤外線吸収性粘着層は、(d)（メタ）アクリル系粘着樹脂組成物と、(e)近赤外線吸収色素とを含む。 - 特許庁

The ratio D/H between the inside diameter D of the vessel and the layer height H of the ion exchange resin 5 is controlled to 0.15 to 0.6, preferably to 0.25 to 0.4.例文帳に追加

容器内径Ｄとイオン交換樹脂５の層高Ｈとの比Ｄ／Ｈは０．１５〜０．６好ましくは０．２５〜０．４である。 - 特許庁

The thickness d_k of a layer k (5) is determined by simple formula which depends on parameters n_i for i=1...k and d_i for i=1...k-1.例文帳に追加

層ｋ（５）の厚さｄ_ｋは、パラメータｎ_ｉ（ｉ＝１...ｋ）及びｄ_ｉ（ｉ＝１...ｋ−１）に依存する簡単な式によって決定される。 - 特許庁

The drill has a blade diameter D of ≤0.5 mm and includes a Co-reducing layer at least on the surface side of the blade groove of the drill and an circumferential part on the inner side.例文帳に追加

このドリルは、0.5mm以下の刃径Dを有し、ドリルの少なくとも刃溝部の表面側にCo低減層を、その内側に内周部を備える。 - 特許庁

The swirl-shaped coil conductor 52 is pattern-formed on an insulating layer 34, and connected to a D- line 42 and a D- terminal 42a in series.例文帳に追加

渦巻き状コイル導体５２は絶縁層３４にパターン形成され、Ｄ−線路４２，Ｄ−端子４２ａに直列接続される。 - 特許庁

The difference between the Shore D hardness Hm of the intermediate layer and the Shore D hardness Hc of the cover 3 (Hm-Hc) is 3 or more.例文帳に追加

中間層のショアＤ硬度Ｈｍとカバー３のショアＤ硬度Ｈｃとの差（Ｈｍ−Ｈｃ）は、３以上である。 - 特許庁

The ratio D_0/D' of the outside diameter D_0 of the mask pattern for opening and the inside diameter D' of the opening is corrected depending on the inside diameter D' of the opening of the solder resist layer.例文帳に追加

ソルダーレジスト層の開口内径Ｄ’に応じて、開口用マスクパターン外径Ｄ_０と開口内径Ｄ’との比Ｄ_０／Ｄ’を補正する。 - 特許庁

The difference between the Shore D hardness (Hc) of the cover and the Shore D hardness (Hm) of the intermediate layer is set to 3 or more.例文帳に追加

カバーのショアＤ硬度（Ｈｃ）と中間層のショアＤ硬度（Ｈｍ）との差（Ｈｃ−Ｈｍ）は、３以上である。 - 特許庁

Also, the minimum thickness d of its current blocking layer is determined based on the relation between the minimum thickness d and the IL characteristic of its laser beam.例文帳に追加

また電流阻止層の最小電流阻止層厚は、最小電流阻止層厚ｄとレーザ光のＩＬ特性の関係に基づいて決定する。 - 特許庁

Furthermore, the ratio L/D between the length L and diameter D of the excellent adsorbing material layer 24 is set to 1.0 or above.例文帳に追加

さらに、高性能吸着材層２４の長さＬと直径Ｄとの比Ｌ／Ｄを１．０以上に設定してある。 - 特許庁

A difference (Hc-Hm) between Shore D hardness Hc of the cover 3 and a Shore D hardness Hm of the intermediate layer is 3 or more.例文帳に追加

カバー３のショアＤ硬度Ｈｃと中間層のショアＤ硬度Ｈｍとの差（Ｈｃ−Ｈｍ）は、３以上である。 - 特許庁

The average particle diameter L of the non-magnetic powder and the average thickness D of the non-magnetic layer satisfy a relation of L/D≤1/5.例文帳に追加

加えて、非磁性粉末の平均粒子径Ｌと前記非磁性層平均厚さＤを、Ｌ／Ｄ≦１／５の関係を満たすものとする。 - 特許庁

In the bath apparatus permitting the bathwater surface Ba of a bathtub 3 to be covered with a foam layer including a foaming agent, the foam layer is separated into a fine bubble layer D made of fine bubbles d and a microfine bubble layer E made up of microfine bubbles e smaller in bubble size than the fine bubbles d.例文帳に追加

浴槽３の浴湯面Ｂａ上を泡剤を含む泡層で覆うことができる入浴装置において、泡層が、細泡ｄからなる細泡層Ｄと、泡径が細泡ｄより小さい微細泡ｅからなる微細泡層Ｅとに別かれさせる。 - 特許庁

The laser exposure employed for obtaining the D-intermediate density removes the coloring agent layer in the zone so that the characteristic curve of the amount of exposure wherein the density of the abrasion recording element is deteriorated is provided with a plateau at the D-intermediate density, however, the amount of laser exposure will not remove the barrier layer in the zone.例文帳に追加

D-intermediate濃度を得るために用いるレーザー露光は、アブレーション記録要素の濃度対低下していく露光量の特性曲線がD-intermediate濃度のところにプラトーを有するように、その領域内の着色剤層を除去するが、その領域のバリア層を除去しない量である。 - 特許庁

Since the ratio d/D is set to be 0.3 to 2.0 where d is the rubber gauge between a code 22A of the spiral belt layer 22 and a code 24A of the inclined belt layer 24, and D is the diameter of the code 24A, the shear distortion between the layers can be suppressed, and generation of cracks can be suppressed.例文帳に追加

スパイラルベルト層２２のコード２２Ａと傾斜ベルト層２４のコード２４Ａとの間のゴムゲージｄと、コード２４Ａの径Ｄとの比率ｄ／Ｄを０．３〜２．０としたので、層間の剪断歪みが抑えられ亀裂の発生が抑えられる。 - 特許庁

A current diffusion layer D, a P-type gallium nitride layer P, and an N-type gallium nitride layer N are etched at the same time until a substrate B is exposed.例文帳に追加

基板Ｂが露出するまで電流拡散層Ｄ、ｐ型窒化ガリウム層Ｐ、及びｎ型窒化ガリウム層Ｎを一度にエッチングする。 - 特許庁

Further, the layer thickness calculation section 106 calculates the layer thickness (d) of a photosensitive layer by using the amount of electric charges supplied to the charging roll.例文帳に追加

また、層厚算出部１０６は、帯電ロールに供給される電荷量を用いて、感光層の層厚ｄを算出する。 - 特許庁

In the indication layer, a layer interval D of the sphere layers in the indication layer preferably changes upon an external stimulus.例文帳に追加

この表示層は、外部からの刺激を受けることにより当該表示層における球体層の層間隔Ｄが変化するものであることが好ましい。 - 特許庁

This material has such a lamination composition as a surface layer C, an adhesive resin layer D, a resin composition layer A, a polyamide resin layer B, the adhesive resin layer D, the surface layer C, and the resin composition contains a saponified ethylene-vinyl acetate copolymer (a) and a polyamide resin (b) having a melting point of ≤160°C.例文帳に追加

表面層（Ｃ）／接着性樹脂層（Ｄ）／樹脂組成物層（Ａ）／ポリアミド系樹脂層（Ｂ）／接着性樹脂層（Ｄ）／表面層（Ｃ）の積層構成を有し、該樹脂組成物が、エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物（ａ）と融点が１６０℃以下のポリアミド系樹脂（ｂ）を含有してなる。 - 特許庁

In the antireflection laminated body, the refractive index of the low refractive index lower layer is lower by 0.03-0.30 than that of the low refractive index upper layer, and the thickness ratio d_(upper layer)/d_(lower layer) of the low refractive index upper layer to the low refractive index lower layer is within a range of 0.2-1.5.例文帳に追加

また、前記低屈折率下層の屈折率が前記低屈折率上層の屈折率よりも０．０３〜０．３０低いことを特徴とし、また前記低屈折率下層と前記低屈折率上層との厚み比が、ｄ_上層／ｄ_下層＝０．２〜１．５の範囲にあることを特徴とする反射防止積層体である。 - 特許庁

The lubricating coating L is composed of a diamond-like carbon layer D at a surface side and an intermediate layer M formed between the diamond-like carbon layer D and the base material.例文帳に追加

潤滑被膜Ｌは、表面側のダイヤモンドライクカーボン層Ｄと、該ダイヤモンドライクカーボン層Ｄと前記母材との間に形成された中間層Ｍと、で構成されている。 - 特許庁

A lattice constant D_B of a barrier layer 23 can be made smaller than a lattice constant D_W of an InAlGaN well layer 21 because the barrier layer 23 consists of GaN, etc.例文帳に追加

障壁層２３はＧａＮ等からなるので、障壁層２３の格子定数Ｄ_ＢはＩｎＡｌＧａＮ井戸層２１の格子定数Ｄ_Ｗより小さくできる。 - 特許庁

Thickness d of the well layer is set as thick as 160 Å and a value of Γ/d is set as large as 2×10^-4 Å^-1, where Γ is the coefficient for confining light in one layer of the well layer.例文帳に追加

上記井戸層の層厚ｄを１６０Åと厚くし、上記井戸層の一層への光閉じ込め係数をΓとすると、Γ／ｄを２．２×１０^−４Å^−１と大きくする。 - 特許庁

The solar cell is configured by a pin structure, includes a quantum dot D having a three-dimensional quantum closing action in the i layer 3 of the photodetecting layer so that the energy band structure of the quantum dot D and the barrier layer surrounding it form a type II.例文帳に追加

ｐｉｎ構造で構成され、光検知層であるｉ層３に３次元量子閉じ込め作用をもつ量子ドットＤを含み、量子ドットＤ及びそれを囲むバリア層のエネルギ・バンド構造がｔｙｐｅ II を成している。 - 特許庁

When the radius of the strand 12 in the outermost layer is set as r, the radius of the inner layer is set as d, and a natural number obtained by dividing 360° by 2θ (θ is sin^-1(r/d+r))is set as n, the number of the strands 12 disposed in the outermost layer is n-1.例文帳に追加

最外層の素線１２の半径をｒとし、内層の半径をｄとし、３６０°を２θ（θは、ｓｉｎ^−１（ｒ／ｄ＋ｒ））で割った自然数をｎとした場合、最外層に配置される素線１２の数はｎー１である。 - 特許庁

An interval L of the upper-layer routing lines 7 is set to (2W+D) obtained by adding an interval D of the lower-layer routing lines 6 to the double of a line width W of the lower-layer routing lines 6.例文帳に追加

上層引き回し線７の間隔Ｌは、下層引き回し線６の線幅Ｗの２倍に該下層引き回し線６の間隔Ｄを加えた値（２Ｗ＋Ｄ）となっている。 - 特許庁

A second free magnetic layer 51 is embedded in a space A, and the thickness t1 of a free magnetic layer 70 at an element center part D is set larger than that t2 of the magnetic layer 70 at side ends C located on the sides of the center part D.例文帳に追加

間隔Ａ内に第２フリー磁性層５１が埋められており、前記素子中央部Ｄのフリー磁性層７０の膜厚ｔ１が、素子両側端部Ｃの膜厚ｔ２よりも厚く形成されている。 - 特許庁

When the ununiformity of etching quantity on a surface to be etched is B, the ununiformity of total film thickness of the cap layer 108 and the clad layer 107 is D, and the average film thickness of the marker layer 200 to the average value of the total film thickness is N; the relationships of 2B>D>0 and N>|(B-D)| are satisfied.例文帳に追加

エッチング量の被エッチング面における不均一性をＢ、キャップ層１０８およびクラッド層１０７との合計膜厚の不均一性をＤ、合計膜厚の平均値に対するマーカー層２００の平均膜厚の膜厚比をＮとして、２Ｂ＞Ｄ＞０およびＮ＞｜(Ｂ−Ｄ)｜の関係式を満足させる。 - 特許庁

LAPD (link access procedure on the d-channel) is used to convey information between layer 3 entities across the frame relay network. 例文帳に追加

LAPDはフレームリレー網を通して第３層実体間で情報を運ぶのに使われる. - コンピューター用語辞典

(d) General knowledge of upper layer weather (limited for rotorcraft or airship) 例文帳に追加

ニ　上層気象に関する一般知識（回転翼航空機又は飛行船の場合に限る。） - 日本法令外国語訳データベースシステム