「D layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

The photosensitive flexographic printing original plate precursor is obtained by sequentially laying at least (A) a support, (B) a photosensitive resin layer, (C) a protective layer, and (D) a thermosensitive mask layer, wherein the thermosensitive mask layer (D) contains carbon black, and butyral resin and polar group-containing polyamide as carbon black dispersing binders.例文帳に追加

少なくとも（Ａ）支持体、（Ｂ）感光性樹脂層、（Ｃ）保護層、（Ｄ）感熱マスク層が順次積層されてなる感光性フレキソ印刷原版であって、（Ｄ）感熱マスク層が、カーボンブラックと、その分散バインダーとしてブチラール樹脂及び極性基含有ポリアミドとを含有することを特徴とする感光性フレキソ印刷原版。 - 特許庁

The thermoplastic resin multilayered laminated sheet is constituted by laminating propylene resin layers C on both surfaces of a gas barrier resin layer A through a polyolefinic adhesive resin layer B and further laminating a polyethylene resin layer E on at least the single surface thereof through a polyolefinic adhesive resin layer D.例文帳に追加

ガスバリア性樹脂Ａの両面にポリオレフィン系接着樹脂層Ｂを介してプロピレン系樹脂層Ｃが積層されてなり、更に、その少なくとも片面に、ポリオレフィン系接着樹脂層Ｄを介してポリエチレン樹脂層Ｅが積層されている。 - 特許庁

When a request is given from a diagnostic checker, necessary data is acquired from an application layer D based on regulation information data in a regulation layer C after decoding a request message in a data link layer A and a network layer B.例文帳に追加

ダイアグチェッカーから要求があった場合、データリンクレイヤＡ、ネットワークレイヤＢで要求メッセージを解読した後、法規レイヤＣにて法規情報データをもとにアプリケーションレイヤＤから必要なデータを取得する。 - 特許庁

The laminate made of the synthetic resin comprises a transparent synthetic resin intermediate layer (b), an ultraviolet resistant transparent synthetic resin layer (c) and a cured film layer (d) sequentially laminated on at least one surface of a transparent synthetic resin layer (a) formed by injection molding.例文帳に追加

射出成形により形成される透明合成樹脂層（ａ）の少なくとも一方の面に、透明合成樹脂中間層（ｂ）、耐紫外線性透明合成樹脂層（ｃ）及び硬化皮膜層（ｄ）が順次積層されてなる合成樹脂製積層体。 - 特許庁

Each DLC layer D is composed of a metal layer M consisting of two or more elements selected among Cr, W, Ti, Si, Ni, and Fe, a composite layer F consisting of the named metals and carbon, and a carbon layer C consisting of carbon, in such an arrangement as C, F, and M from the obverse surface.例文帳に追加

ＤＬＣ層Ｄは、Ｃｒ，Ｗ，Ｔｉ，Ｓｉ，Ｎｉ，及びＦｅのうちの２種以上の金属からなる金属層Ｍと、前記金属及び炭素からなる複合層Ｆと、炭素からなるカーボン層Ｃと、の３層で構成されていて、該３層は表面側からカーボン層Ｃ，複合層Ｆ，金属層Ｍの順に配されている。 - 特許庁

The method for manufacturing the organic EL display device comprises a step A of forming the lower electrode, a step B of forming the first organic compound layer, a step C of partially removing the first organic compound layer per a sub-pixel unit by using a laser beam, a step D of forming the first intermediate electrode layer, and a step E of forming the second organic compound layer.例文帳に追加

（Ａ）下部電極の形成工程 （Ｂ）第一有機化合物層の形成工程 （Ｃ）レーザー光を使用して第一有機化合物層を副画素単位で部分的に除去する工程 （Ｄ）第一中間電極層の形成工程 （Ｅ）第二有機化合物層の形成工程 - 特許庁

At least a transparent polymeric film (A), a silver membrane layer (B), a rear metal layer (C), an adhesive layer (D) and a support (E) are successively formed and the rear metal layer (C) is constituted of a metal or alloy having a property exceeding an elastic modulus of 1.005×10-12 (dyn/cm2) at a temperature of 300 K.例文帳に追加

少なくとも、透明高分子フィルム（Ａ）、銀薄膜層（Ｂ）、裏面金属層（Ｃ）、接着層（Ｄ）、支持体（Ｅ）を順に形成し、Ｃを温度３００Ｋにおいて、弾性率１．００５×１０^-12（ｄｙｎ／ｃｍ^2）を越える性質を有する金属又は合金で構成する。 - 特許庁

An inorg. non-combustible decorative panel is constituted of an inorg. substrate layer A wherein a volcanic vitreous deposit and inorg. fibers are bonded by an org. binder, an adhesive layer B, a decorative sheet layer C and a protective coating film layer D formed from an energy beam curable resin paint.例文帳に追加

火山性ガラス質堆積物と無機系繊維とを有機系結合材により結着せしめた無機質基材層（Ａ）と接着剤層（Ｂ）と化粧シート層（Ｃ）とエネルギー線硬化型樹脂塗料により形成される保護塗膜層（Ｄ）とから構成される無機質不燃化粧板に関する。 - 特許庁

Especially preferably, the filament nonwoven fabric layer 12 is integrated to the reinforcing layer 14 by needling, the reinforcing layer 14 is composed solely of longitudinally arranged filament group, the filament nonwoven fabric layer 12 is made of PET and the filament has a tensile strength of ≥9 g/d.例文帳に追加

そして特に、長繊維不織布層１２と補強層１４とがニードリングによって一体化されることであり、補強層１４が縦に配列したフィラメント群だけからなることであり、ＰＥＴの長繊維不織布層１２とされることであり、引張強力が９ｇ／ｄ以上のフィラメントが用いられることである。 - 特許庁

A visible light sensitive resin film layer (A), a sheet layer (B) transparent to visible light, a visible light shielding layer (C) capable of forming a pattern with a developing solution and an energy beam sensitive film layer (D) are successively laminated on the surface of a substrate to obtain the objective pattern forming laminated film.例文帳に追加

基材表面に可視光線感光性樹脂被膜層（Ａ）、可視光線を透過するシート層（Ｂ）、現像液によりパターン形成可能な可視光線遮蔽層（Ｃ）、及び感エネルギー線被膜層（Ｄ）を順次積層してなることを特徴とするパターン形成用積層被膜。 - 特許庁

As for the paper printed by the common information printing part B, variable information is printed in the variable information printing part C, and after the printed paper is dried in a drying part D, a repellent layer is formed in a repellent layer forming part E and a false adhesive layer is formed in a false adhesive layer forming part F.例文帳に追加

共通情報印刷部Ｂで印刷された用紙は可変情報印刷部Ｃで可変情報が印刷され、乾燥部Ｄでの乾燥後、はじき層形成部Ｅではじき層が形成され、擬似接着層形成部Ｆで擬似接着層が形成される。 - 特許庁

The decorative foamed laminated material is characterized by comprising a surface layer (A) comprising a transparent synthetic resin, the first intermediate layer (B) comprising a transparent or semi-transparent synthetic resin and having decorative properties, the second intermediate layer (C) comprising a synthetic resin and having decorative properties and a base material layer (D) comprising a foamed synthetic resin.例文帳に追加

透明合成樹脂からなる表面層（Ａ）と、透明又は半透明合成樹脂からなり装飾性を有する第１中間層（Ｂ）、合成樹脂からなり装飾性を有する第２中間層（Ｃ）、及び発泡合成樹脂からなる基材層（Ｄ）からなることを特徴とする装飾性発泡積層材。 - 特許庁

This decorative material D is composed of an inner pictorial pattern layer 2, a matted recoatable ionizing radiation-curable resin layer 3A containing a filler F, a partially formed lustrous pictorial pattern layer 4A and a top coat layer 5 consisting of a curable resin, all of these layers being laminated in that order on a base 1.例文帳に追加

化粧材Ｄは、基体１上に内部絵柄層２、フィラーＦを含有し艶消しのリコート性電離放射線硬化性樹脂層３Ａ、部分的に形成された艶有り絵柄層４Ａ、硬化性樹脂からなるトップコート層５を積層する。 - 特許庁

The photosensitive film used for forming a permanent pattern comprises a support, a cushion layer, a barrier layer capable of suppressing transfer of substances, and a photosensitive layer, in this order, wherein the photosensitive layer is formed of a photosensitive composition which comprises (A) a binder, (B) a polymerizable compound, (C) a photopolymerization initiator and (D) a filler.例文帳に追加

支持体と、クッション層と、物質の移動を抑制可能なバリア層と、（Ａ）バインダー、（Ｂ）重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）体質顔料を含有する感光性組成物からなる感光層とをこの順に備えてなり、永久パターンの形成に用いられる感光性フィルムである。 - 特許庁

In this heat insulation structure which constitutes an exterior wall surface of a building, a heat insulating layer (A), a base material layer (B), a film layer (C) which is formed of a paint containing an organic resin, and a film layer (D) where water vapor adsorbing/desorbing properties have hysteretic characteristics are provided toward the outdoor side of the wall surface from the indoor side thereof.例文帳に追加

建築物外壁面を構成する断熱構造体であって、壁面の屋内側から屋外側へ向かって、断熱層（Ａ）、基材層（Ｂ）、有機質樹脂を含有する塗料から形成される被膜層（Ｃ）、水蒸気吸脱着性がヒステリシス特性を有する被膜層（Ｄ）、を有する。 - 特許庁

A thermic ray sensitive resin film layer (A), a sheet layer (B) transparent to thermic rays, a thermic ray shielding layer (C) capable of forming a pattern with a developing solution and an energy beam sensitive film layer (D) are successively laminated on the surface of a substrate to obtain the objective pattern forming laminated film.例文帳に追加

基材表面に感熱線性樹脂被膜層（Ａ）、熱線を透過するシート層（Ｂ）、現像液によりパターン形成可能な熱線遮蔽層（Ｃ）、及び感エネルギー線被膜層（Ｄ）を順次積層してなることを特徴とするパターン形成用積層被膜。 - 特許庁

A distance f from the backside of the guard ring 10 to the backside of the drift layer is longer than a distance from the backside of the body region to the backside of the drift layer, and a thickness h of the collector layer in the peripheral region is smaller than a thickness d of the collector layer in the active region.例文帳に追加

ガードリング１０の裏面からドリフト層裏面までの距離ｆがボディ領域の裏面からドリフト層の裏面までの距離よりも長く、周辺領域のコレクタ層の厚みｈが、活性領域のコレクタ層の厚みｄよりも薄い。 - 特許庁

The antireflection hard coat film is obtained by successively forming a hard coat layer (b), a coating layer (ns) an NH2-containing compound, a high refractive index thin film coating layer (c) and a low refractive index thin film coating layer (d) at least one face of a plastics film (a).例文帳に追加

プラスチックフィルム（ａ）上の少なくとも一面に、ハードコート層（ｂ）、ＮＨ_2基含有化合物塗布層（ｎｓ）、高屈折率薄膜塗布層（ｃ）、低屈折率薄膜塗布層（ｄ）を順次形成したことを特徴とする反射防止性ハードコートフイルム。 - 特許庁

The average diameter of crystal grains D, in the surface of the organic semiconductor layer in contact with the gate dielectric layer, is 160 to 600 nm and the average diameter of crystal grains E in the surface of the organic semiconductor layer opposite to the gate dielectric layer is 50 to 150 nm.例文帳に追加

有機半導体層のゲート絶縁層に接する面における結晶粒の平均粒径Ｄが１６０〜６００ｎｍであり、有機半導体層のゲート絶縁層とは反対側の面における結晶粒の平均粒径Ｅが５０〜１５０ｎｍである。 - 特許庁

A UV sensitive resin film layer (A), a UV transmitting sheet layer (B), a UV shielding layer (C) capable of forming a pattern with a developing solution and an energy beam sensitive film layer (D) are successively laminated on the surface of a substrate to obtain the objective pattern forming laminated film.例文帳に追加

基材表面に紫外線感光性樹脂被膜層（Ａ）、紫外線を透過するシート層（Ｂ）、現像液によりパターン形成可能な紫外線遮蔽層（Ｃ）、及び感エネルギー線被膜層（Ｄ）を順次積層してなることを特徴とするパターン形成用積層被膜。 - 特許庁

A decorative panel consists of (A) a transparent gel coat resin cured layer, (B) a design imparting layer, (C) a nonwoven fabric layer, (D) a fiber reinforced resin cured layer, (E) a foam layer and (F) a fiber reinforced resin cured layer having an aluminum foil layer on its rear surface which are formed successively from a surface side.例文帳に追加

本発明は、表面から順に（Ａ）透明ゲルコート樹脂硬化物層、（Ｂ）意匠付与層、（Ｃ）不織布層、（Ｄ）繊維強化樹脂硬化物層、（Ｅ）発泡体層、（Ｆ）裏面にアルミ箔層を有する繊維強化樹脂硬化物層からなり、裏面がアルミ箔であることを特徴とする化粧パネル及びその製造方法に関する。 - 特許庁

This method for copper metallization of integrated circuit comprises the steps of (A) providing a substrate 1, (B) forming a tantalum layer on the substrate 1, (C) forming a tantalum nitride layer 7 on the tantalum layer 5, (D) forming a titanium nitride layer 9 on the tantalum nitride layer 7, and (E) forming a copper layer 11 on the titanium nitride layer 9.例文帳に追加

本発明の方法は、（Ａ）基板（１）を用意するステップと、（Ｂ）前記基板上にタンタル層（７）を形成するステップと、（Ｃ）前記タンタル層の上に窒化タンタル層（７）を形成するステップと、（Ｄ）前記窒化タンタル層の上に窒化チタン層（９）を形成するステップと、（Ｅ）前記窒化チタン層の上に銅層（１１）を形成するステップと、からなることを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing a semiconductor device includes steps of: (a) forming a resin layer 20 on a semiconductor substrate 10 with an integrated circuit 12 by patterning; (b) curing the resin layer 20; (c) forming a resist layer 24 in a manner to cover the resin layer 20; and (d) dry-etching the resist layer 24 and the resin layer 20 until the resin layer 20 is exposed.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、（ａ）集積回路１２が形成された半導体基板１０に、樹脂層２０をパターニングして設けること、（ｂ）樹脂層２０を硬化させること、（ｃ）レジスト層２４を、樹脂層２０を覆うように設けること、（ｄ）レジスト層２４及び樹脂層２０を、樹脂層２０が露出するまでドライエッチングすること、を含む。 - 特許庁

In the anti-reflection film having the anti-reflection layer formed on at least one side of the transparent base film directly or with another layer between them, the anti-reflection layer is formed of at least two kinds of low-refractive index materials which satisfy n_d^20≤1.49 wherein n_d^20 is refractive indexes.例文帳に追加

透明基材フィルムの少なくとも片面に、直接または別の層を介して、反射防止層が形成されている反射防止フィルムにおいて、前記反射防止層が、屈折率：ｎ_ｄ ^２０≦１．４９を満足する、少なくとも二種類の低屈折率材料によって形成されていることを特徴とする反射防止フィルム。 - 特許庁

The electrophotographic photoreceptor has a layer structure including a photosensitive layer on a conductive support, wherein the layer structure has a polycyclic aromatic compound, the polycyclic aromatic compound consisting of 2-6 molecular groups including at least one molecular group (B) to (D) selected from the group consisting of molecular groups (A) to (D).例文帳に追加

導電支持体上に、感光層を含む層構造を有する電子写真感光体において、層構造は、多環芳香族化合物を有し、多環芳香族化合物は、下記分子団（Ａ）乃至（Ｄ）からなる群から選択された分子団のうち、少なくとも１つの分子団（Ｂ）乃至（Ｄ）を含む２個以上６個以下の分子団からなる。 - 特許庁

In the electrophotographic carrier including at least a core material particle and a cover layer covering the core material particle, the cover layer comprises at least a binder resin, a solid particle and a carbon nanotube, and the particle size D (μm) of the solid particle satisfies 1<(D/h)<10 wherein h is an average thickness of a resin part in the cover layer (μm).例文帳に追加

少なくとも芯材粒子と、当該芯材粒子を被覆する被覆層とを有してなる電子写真用キャリアにおいて、当該被覆層は、少なくとも結着樹脂と、固体粒子と、カーボンナノチューブとを含み、当該固体粒子の粒径をＤ（μｍ）、前記被膜層における樹脂部分の平均厚みをｈ（μｍ）としたとき、１＜（Ｄ／ｈ）＜１０を満たす。 - 特許庁

When a second GaN layer 57 is epitaxially grown on the substrate, a lattice defect D that is propagated from the first GaN layer 53 exists merely in a region (defect region Ra) that is positioned at the upper part of the center part of the recess 53a, and there is hardly any lattice defect D that is propagated from the first GaN layer 53 in the other regions (low defect region Rb).例文帳に追加

基板上に、第２のＧａＮ層５７をエピタキシャル成長させると、凹部５３ａの中央部の上方に位置する領域（欠陥領域Ｒａ）にのみ第１のＧａＮ層５３から伝播した格子欠陥Ｄが存在し、その他の領域（低欠陥領域Ｒｂ）には第１のＧａＮ層５３から伝播した格子欠陥Ｄはほぼ存在しない。 - 特許庁

A toner neutralization blade 15 is provided on the downstream side in the carrying direction D of a toner layer TL to abut against the toner layer TL remaining on a developer roller 12 without flying at a toner flight start position J.例文帳に追加

トナー層ＴＬの搬送方向Ｄにおける下流側にトナー除電ブレード１５を設け、トナー飛翔開始位置Ｊで飛翔せず現像ローラ１２上に残ったトナー層ＴＬと当接させている。 - 特許庁

The workpiece D is made of metal or glass, preferably a glass-made or aluminum-made disk board for semiconductor wafer and magnetic recording medium formed with a wiring layer and inter-layer insulating film in the surface.例文帳に追加

被加工物Ｄは、金属製又はガラス製のもの、好適に、表面に配線層や層間絶縁膜を形成した半導体ウェーハ、磁気記録媒体用のガラス製又はアルミニウム製のディスク基板である。 - 特許庁

In the organic transistor having an organic semiconductor layer, the organic semiconductor layer contains at least one kind of diacenaphtho[1,2-b:1', 2'-d] thiophene derivative.例文帳に追加

有機半導体層を有する有機トランジスタにおいて、該有機半導体層にジアセナフト［１，２−ｂ：１’，２’−ｄ］チオフェン誘導体を少なくとも１種含有してなる有機トランジスタ。 - 特許庁

A spacer 51 for regulating the gap GP between a toner layer TL and an FPC 4 is disposed on the downstream side of toner flight starting position J in the carrying direction D of the toner layer TL.例文帳に追加

トナー層ＴＬとＦＰＣ４とのギャップＧＰを規定するスペーサ５１を、トナー層ＴＬの搬送方向Ｄにおいてトナー飛翔開始位置Ｊの下流側に配置している。 - 特許庁

A photosensitive layer of the electrophotographic photoreceptor having the photosensitive layer on a conductive substrate contains a phthalocyanine pigment and contains a monoazo compound of 2.0 D in dipole moment.例文帳に追加

導電性支持体上に感光層を有する電子写真感光体において、該感光層がフタロシアニン顔料を含有し、かつ双極子モーメント２．０Ｄ以上のモノアゾ化合物を含有する。 - 特許庁

A diode D is composed by arranging a diffusion layer 5 for composing an anode and diffusion layers 4, 4 for composing a cathode at the left and right of the diffusion layer 5.例文帳に追加

アノードを構成する拡散層５と、その左方及び右方にカソードを構成する拡散層４、４とが配置されてダイオードＤが構成される。 - 特許庁

In the hard coat film, an anchor layer (B) and a hard coat layer (D) containing a (meth)arylic resin (C) are formed on the cycloolefin film (A) to be at least the substrate.例文帳に追加

少なくとも基材となるシクロオレフィン系フィルム（Ａ）上にアンカー層（Ｂ）と、（メタ）アクリル樹脂（Ｃ）を含むハードコート層（Ｄ）を設けてなることを特徴とするハードコートフィルムを提供するものである。 - 特許庁

The correlation is calculated when the coupling coefficient κ of the diffraction grating layer G_n is constant, when the plurality of grooves 22 have a constant depth D, and when the cladding layer 24 has a band gap wavelength λ_Eclad.例文帳に追加

この相関関係は、回折格子層Ｇ_ｎの結合係数κが一定であり、複数の溝２２の深さＤが一定であり、クラッド層２４のバンドギャップ波長λ_Ｅｃｌａｄが一定である場合に算出される。 - 特許庁

A drain electrode D is formed on the drain part of the electron supply layer 4, and an insulating film 8 is formed on an opening part 11, formed in the gate part of the electron supply layer.例文帳に追加

電子供給層４のドレイン部分にドレイン電極Ｄが形成され、そのゲート部分に形成された開口部１１に絶縁膜８が形成されている。 - 特許庁

The semiconductor laser diode is of a ridge waveguide wherein a predetermined thickness part of a clad layer is formed to have a mesa structure, and the remaining thickness D of the clad layers is laminated on the entire upper surface of an active layer.例文帳に追加

本半導体レーザダイオードは、クラッド層のうちの所定厚さ部分をメサ構造とし、残りの厚さＤのクラッド層を活性層上全面に積層させてなるリッジ導波路型半導体レーザダイオードである。 - 特許庁

Subsequently, the magnetic layer is subjected to cutting processing with the nanoparticle film as a mask (c), and the nanoparticle film is removed to form a fine pattern 2 with a recessed and protruding shape on the magnetic layer (d).例文帳に追加

その後、ナノ粒子膜をマスクにして磁性層を切削加工し（ｃ）、ナノ粒子膜を除去して磁性層に凹凸形状を持った微細パターン２を形成する（ｄ）。 - 特許庁

The first layer is a blend of (a) a first polyolefin, (b) a second polyolefin, (c) a high frequency susceptible polymer, and (d) a first thermoplastic elastomer, and the second layer is formed of a second thermoplastic elastomer.例文帳に追加

この第１層は、（ａ）第１のポリオレフィン、（ｂ）第２のポリオレフィン；（ｃ）高周波感受性ポリマー；および（ｄ）第１の熱可塑性エラストマーのブレンドからなり、第２層は、第２の熱可塑性エラストマーからなる。 - 特許庁

After a regulation compatibility converting processing is performed for the data obtained from the application layer D in the regulation layer C, a response is returned to the diagnostic checker.例文帳に追加

次に、法規レイヤＣにてアプリケーションレイヤＤから得たデータに対して法規整合変換処理を行った後、応答をダイアグチェッカーに返す。 - 特許庁

The gap (x) between filaments 13 constituting the outermost layer sheath of the strand is 0.5 to 4.0% of the diameter (d) of the outermost layer sheath filament 13.例文帳に追加

ストランドの最外層シースを構成するフィラメント１３同士の隙間ｘが、最外層シースフィラメント１３の径ｄの０．５〜４．０％である。 - 特許庁

The outer cover layer is disposed about the inner cover layer, is formed from a castable polyurea or polyurethane, and has a material hardness of about 60 Shore D or less.例文帳に追加

外側カバー層は内側カバー層の回りに配され、注型可能なポリ尿素またはポリウレタンから製造され、その材料硬度は約６０ショアＤまたはそれ以下である。 - 特許庁

(d) A second group III nitride semiconductor layer 34 is formed on the first group III nitride semiconductor layer 33 while reducing the temperature of the substrate 31 in a temperature range of less than the first temperature.例文帳に追加

（ｄ）基板３１の温度を第１の温度以下の温度範囲で下げながら、第１の３族窒化物半導体層３３上に第２の３族窒化物半導体層３４を形成する。 - 特許庁

In the organic transistor having an organic semiconductor layer, the organic semiconductor layer contains at least one kind of s-indaceno [1,2,3-cd:5,6,7-c'd'] diperylene derivatives.例文帳に追加

有機半導体層を有する有機トランジスタにおいて、該有機半導体層にｓ−インダセノ［１，２，３−ｃｄ：５，６，７−ｃ’ｄ’］ジペリレン誘導体を少なくとも１種含有してなる有機トランジスタ。 - 特許庁

The pixel electrode 10 is arranged in an upper layer while isolated from the thin film transistor positioned in a lower layer by an organic colored film 8 and a flattening film 9 and connected to the corresponding drain D directly or through a pad wiring 7.例文帳に追加

画素電極１０は下層に位置する薄膜トランジスタから有機着色膜８及び平坦化膜９により隔てられて上層に配されており直接又はパッド配線７を介して対応するドレインＤに接続している。 - 特許庁