D layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1240件
The correlation is calculated when the coupling coefficient κ of the diffraction grating layer G_n is constant, when the plurality of grooves 22 have a constant depth D, and when the cladding layer 24 has a band gap wavelength λ_Eclad.例文帳に追加
この相関関係は、回折格子層G_nの結合係数κが一定であり、複数の溝22の深さDが一定であり、クラッド層24のバンドギャップ波長λ_Ecladが一定である場合に算出される。 - 特許庁
Next, the rugged surface 2c of the photosensitive resin layer 22 is subjected to full-surface exposure to cause the crosslinking of the unreacted photocrosslinkable monomer, thereby forming a resin layer 2 having the rugged surface 2d (a full-surface exposure process (d)).例文帳に追加
次に、感光性樹脂層22の凹凸面2cに全面露光を施すことにより未反応の光架橋性モノマーを架橋させ、凹凸面2dを有する樹脂層2を形成する(全面露光工程(d))。 - 特許庁
The image signal wiring d, a first insulating-layer INS1, a second insulating-layer INS2, a contact electrode ELC, a scan signal wiring s and an upper electrode AED are laminated on a principal surface of a rear surface substrate SUB1.例文帳に追加
背面基板SUB1の主面に画像信号配線d、第1の絶縁層INS1、第2の絶縁層INS2、コンタクト電極ELC、走査信号配線s、上部電極AEDが積層されている。 - 特許庁
The ratio of a thickness of a layer containing the component (D) to the thickness of the substrate layer containing the component (C) (the thickness of the layer containing the component (D)/the thickness of the layer containing the component (C)) is 0.15 to 0.45.例文帳に追加
)を含有する基材層の少なくとも片面に、融点が140℃以下であるプロピレン/1−ブテン共重合体(成分(D))を含有する層が積層されたシートを延伸して得られるポリプロピレン延伸多層フィルムであって、成分(C)を含有する基材層の厚みに対する、成分(D)を含有する層の厚みの比(成分(D)を含有する層の厚み/成分(C)を含有する層の厚み)が0.15〜0.45であることを特徴とするポリプロピレン延伸多層フィルム。 - 特許庁
The light-resistant heat fading material is constituted by providing oxygen gas barrier layers 3 [oxygen permeability is not more than 1200 ml (m^2×d×MPa), preferably, 0-600 ml/(m^2×d×MPa)] at least on both upper and rear surfaces of a heat fading layer 2.例文帳に追加
熱変色層2の少なくとも表裏両面に酸素ガスバリヤー層3(酸素透過度が1200ml/(m^2 ・d・MPa)以下、好ましくは、0〜600ml/(m^2 ・d・MPa)を設けたことを特徴とする耐光性熱変色体1。 - 特許庁
The biodegradable protection layer is preferably composed of a resin composition including a polyester resin which contains 90-100 wt% of lactic acid residues and the mol ratio(L/D) of an L-lactic acid residue to a D-lactic acid residue falling within the range of 1-9.例文帳に追加
なお、生分解性保護層は、乳酸残基を90〜100wt%の範囲で含み、L−乳酸残基とD−乳酸残基とのモル比(L/D)が1〜9の範囲にあるポリエステル樹脂を含む樹脂組成物からなることが好ましい。 - 特許庁
The refraction index n of the first translucent substrate 11 and the second translucent substrate 12 is made 1.73<n<2.0 (at d line), the incident angle α is made 61°≤α≤82°, and the film thickness t of the bonding layer 14 is made 15nm≤t<60nm.例文帳に追加
第一透光性基材11及び第二透光性基材12の屈折率nを、1.73<n<2.0(d線における)とし、入射角αを、61°≦α≦82°に設定し、接合層14の膜厚tを、15nm≦t<60nmとした。 - 特許庁
A lattice constant d (13) of Al_YGa_1-YN of the first semiconductor layer 13 having distortion has an intermediate value between a lattice constant d0 (13) inherent to Al_YGa_1-YN having no distortion and a lattice constant d (21) of Al_XGa_1-XN.例文帳に追加
第1の半導体層13の歪んだAl_YGa_1−YNの格子定数d(13)は、無歪みのAl_YGa_1−YNに固有の格子定数d0(13)とAl_XGa_1−XNの格子定数d(21)との間の中間値を有する。 - 特許庁
The apparatus 1 includes an isochronous switch 7 for broadcasting isochronous packets to the whole of networks a to d, and an isochronous switch 6 for transferring the whole or either of asynchronous packets, asynchronous stream packets or physical layer packets to the whole or either of the networks a to d.例文帳に追加
この通信装置1は、アイソクロナスパケットをネットワークa〜dの全てにブロードキャストするアイソクロナススイッチ7と、アシンクロナスパケット、アシンクロナスストリームパケットまたは物理層パケットをネットワークa〜dの何れかまたは全てに転送するアシンクロナススイッチ6とを有する。 - 特許庁
The method preferably further contains: (B1) a step to measure the content of cathepsin D in a corneal layer cell collected from the skin; and (B2) a step to diagnose the atopic dermatitis by using the content of the cathepsin D as an index.例文帳に追加
更に、(B1)皮膚から採取された角層細胞中の、カテプシンDの含有量を測定する工程と、(B2)前記カテプシンDの含有量を指標として、アトピー性皮膚炎か否かを診断する工程と、を更に含むことが好ましい。 - 特許庁
A method for manufacturing a wiring board 100 includes (a) a process of forming trenches 11 on a board 10, (b) a process of forming a surfactant layer 17 inside the trenches 11, (c) a process of forming a catalyst layer 32 containing a catalyst on the surfactant layer 17, and (d) a process of forming a metal layer 36 on the catalyst layer 32 by metal deposition.例文帳に追加
本発明にかかる配線基板100の製造方法は、(a)基板10に溝11を形成する工程と、(b)前記溝の内部に界面活性剤層17を形成する工程と、(c)前記界面活性剤層上に触媒を含む触媒層32を設ける工程と、(d)前記触媒層上に金属を析出させることによって金属層36を設ける工程と、を含む。 - 特許庁
In the concrete exfoliation preventive surface coating method for laminating a primer layer A, a main material layer B, a concrete exfoliation preventive sheet C, the main material layer B and a finishing paint film layer D sequentially on the surface of concrete, the main material layer B is formed of acqueous polyurethane paint b with a viscosity of 15-200 Pa s at 20°C.例文帳に追加
コンクリートの表面に、プライマー層(A)、主材層(B)、コンクリート剥落防止用シート(C)、主材層(B)及び上塗り塗膜層(D)を順次積層するコンクリート剥落防止表面被覆工法であって、主材層(B)が20℃における粘度が15〜200Pa・sである水性ポリウレタン塗料(b)によって形成されるものであることを特徴とするコンクリート剥落防止表面被覆工法。 - 特許庁
A thermoplastic resin layer (A) unstretched or having 1.2 times or less of a stretching ratio is thermocompression bonded on the printed paper (D) to which printing is applied through a bonding layer (C) to form a laminate body, and a smoothening operation for smoothening the thermoplastic resin layer (A) face is then performed.例文帳に追加
未延伸または延伸倍率が1.2倍以下の熱可塑性樹脂層(A)を、接合層(C)を介して印刷が施された印刷紙(D)に熱圧着して積層体とした後、熱可塑性樹脂層(A)面を平滑化するための平滑化操作を行うことを特徴とする。 - 特許庁
The Al-Cu film 12 of a lower layer side wiring layer and the TiN film 13 of a barrier metal are formed on a silicon substrate 11 and the d-TEOS film 15 of an interlayer insulating film is formed thereon as an interlayer wiring layer 14 to bury W plugs 16a, 16b and flatten them.例文帳に追加
シリコン基板11上に下層側配線層のAl−Cu膜12、バリアメタルのTiN膜13を形成し、この上に層間配線層14として層間絶縁膜のd−TEOS膜15を形成してWプラグ16a,16bを埋め込み平坦化する。 - 特許庁
The photosensitive resin printing plate is obtained from a photosensitive resin laminated body at least having a substrate, a photosensitive resin layer, a protective layer, and a cover film, and is characterized by having 50-60° Shore D hardness of the photosensitive resin layer, and 30% or more impact resilience thereof.例文帳に追加
少なくとも支持体、感光性樹脂層、保護層、カバーフィルムを有する感光性樹脂積層体から得られる感光性樹脂印刷版であって、露光製版後、感光性樹脂層のショアーD硬度が50°〜60°、反発弾性が30%以上であることを特徴とする感光性樹脂印刷板。 - 特許庁
A conduction belt is an endless conduction belt and comprises (A) a tension part; (B) a cushion part; (C) a load part situated between the tension part and the cushion part; and (D) a cloth layer coupled to the outer surface of the belt and an improvement point is that a coating layer of calboxylated acrylonitrile rubber is contained on the cloth layer.例文帳に追加
エンドレス伝動ベルトであって、 (A)テンション部; (B)クッション部; (C)テンション部とクッション部との間に配置された負荷部;および (D)ベルトの外面に結合された布帛層、改良点は、該布帛層上にカルボキシル化アクリロニトリルゴムのコーティング層を含むことであるを含む伝動ベルト。 - 特許庁
malfunctionS of the photodetection element are prevented by the light-shielding layer 112, and the electric potential of the light-shielding layer 112 is kept fixed by a capacitor constituted of the light-shielding layer 112, the insulating layers 114, 118 and the electrode pattern 120b so that the output current characteristics of the photodetection element D are stabilized and maintained.例文帳に追加
遮光層112により光検知素子の誤動作が防止され、遮光層112、絶縁層114,118、及び電極パターン120bからなるキャパシタにより、遮光層112の電位が一定に維持されることにより、光検知素子Dの出力電流特性が安定して維持される。 - 特許庁
Here, K expresses permeability coefficient expressing permeation resistance of the diffusion layer that is a porous body, ΔP indicates capillary differential pressure of force applied to aqueous liquid in a pore of the diffusion layer, D shows diffusion coefficient expressing diffusion coefficient of steam inside the diffusion layer, and Dd shows diffusion coefficient of steam in the air.例文帳に追加
但し、Kは多孔体である拡散層の透過抵抗を表す透過係数、ΔPは拡散層の細孔中の液水にかかる力の毛管差圧、Dは、拡散層内における水蒸気の拡散度合いを示す拡散係数、Ddは、水蒸気の空気中における拡散係数を示す。 - 特許庁
The silver halide photographic sensitive material has at least one hydrophilic colloidal layer including at least one silver halide emulsion layer on at least one face of the substrate and contains a compound of formula D in at least one hydrophilic colloidal layer.例文帳に追加
支持体上の少なくとも一方の面に、少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤層を含む少なくとも1層の親水性コロイド層を有し、該親水性コロイド層の少なくとも1層中に下記一般式(D)で表される化合物を含有するハロゲン化銀写真感光材料。 - 特許庁
An interval d of high concentration p-type conductive layers 3, 4 is set to the interval for depletion of the area between the high concentration p-type conductive layer 3 and high concentration p-type conductive layer 4 at the low concentration n-type conductive layer 2 when the desired voltage lower than the breakdown voltage BV is applied.例文帳に追加
高濃度p型導電層3,4の間隔dを、降伏電圧BV以下の所望の電圧を印加したときに、低濃度n型導電体層2における高濃度p型導電層3と高濃度p型導電層4との間の部分が空乏化する間隔に設定する。 - 特許庁
On one face of the semiconductor substrate 1, a first metal layer 4a is formed (Figure 1(c)), and with the first metal layer 4a as a seed layer, a first metal portion 5a is deposited by electroplating to the middle in the thickness direction of the semiconductor substrate 1 (Figure 1(d) and (e)).例文帳に追加
半導体基板1の上記一表面側に第1の金属層4aを形成し(図1(c))、第1の金属層4aをシード層として電解メッキ法により第1の金属部5aを半導体基板1の厚み方向の途中まで析出させる(図1(d),(e))。 - 特許庁
A thickness Tu of a resist layer 21 being the lowest layer is made ≥1.5 times as thick as the thickness of an electrode film 2 to be formed, and a thickness Tr of the entire resist layer is set so as to satisfy a requirement of Tr<(LS/D), thus extending the area wherein the incidence quantity of film forming particles is made uniform, in the aperture part.例文帳に追加
最下層のレジスト層21の厚みTuを、形成すべき電極膜2の厚みの1.5倍以下とし、かつ、レジスト層全体の厚みTrがTr<(LS/D)の要件を満たすようにして、開口部内において成膜粒子入射量が均一になる領域を広げる。 - 特許庁
The product of the refractive index (n) and the layer thickness(d) of the second dielectric layer 16 satisfies (nd)>130 nm so that the reflectance Ra of the amorphous phase region and the reflectance Rc in the crystal phase region in the recording layer 14 always have the relation of Ra>Rc.例文帳に追加
ここでは、第2誘電体層16の屈折率nとその層厚dとの積ndが nd>130nm を満足するため、記録層14のアモルファス相領域の反射率Raと結晶相領域の反射率Rcとの間には、 Ra>Rc が常に成立している。 - 特許庁
To provide a packing container capable of reliably preventing deposition of resin powder generated from inner and outer cases 3, 4 on a photosensitive layer D1 of a photosensitive drum D.例文帳に追加
内外両ケース3、4から発生する樹脂粉の、感光体ドラムDの感光層D1への付着をより確実に防止することができる梱包容器を提供する。 - 特許庁
The center O_2 of the aperture of the ground conductor layer 8 is located from the center O_1 of the slot 5 in an extension direction D from the tip of the line conductor 3 in plane view.例文帳に追加
平面視において、接地導体層8の開口の中心O_2が、スロット5の中心O_1より線路導体3の先端の延長方向Dに位置する。 - 特許庁
The photosensitive layer contains an ionic polymerization initiator (constituent f), a pigment (constituent a), a pigment dispersant including a heterocycle (constituent b), and a pigment dispersant including a polar group (constituent c), and preferably further contains a binder polymer (constituent d), a sensitizing dye (constituent e), and a radical polymerizable compound (constituent g).例文帳に追加
前記感光層が、(成分d)バインダーポリマー、(成分e)増感色素、及び、(成分g)ラジカル重合性化合物を更に含有することが好ましい。 - 特許庁
The sealing member 12 is first brought into contact with the corresponding laminate surface 5Ma (alignment layer 7b) of the laminate substrate 5M than the drops D of each drop region S.例文帳に追加
そして、貼合基板5Mの貼合面5Ma(配向膜7b)に対して、各滴下領域Sの液滴Dよりも先に、対応するシール部材12が当接するようにした - 特許庁
The light scattering film 20 having a light scattering function is composed of a flat layer 404 comprising a film component D, and a plurality of projecting parts 405 comprising a film component C.例文帳に追加
光散乱機能を有する光散乱膜20は、膜成分Dから成る平坦な平坦層404と、膜成分Cから成る複数の凸状部405とから成る。 - 特許庁
The original plate of the lithographic printing plate is characterized by having (A) to (D) shown hereinafter on a support body and having an image recording layer removable with printing ink and/or dampening water.例文帳に追加
支持体上に、下記(A)〜(D)を含有し、印刷インキおよび/または湿し水により除去できる画像記録層を有することを特徴とする平版印刷版原版。 - 特許庁
Thus, the barrier metal film formed at step (b) has conductivity to become a seed layer, thereby carrying out the plating growth of cooper in the wiring groove at the step (d).例文帳に追加
このように工程(b)で形成されるバリアメタル膜が導電性を有するので、これをシード層として、工程(d)で配線溝内に銅をめっき成長させることができる。 - 特許庁
In this case, the thickness (d) of the second layer is set at a thickness in which the light-emitting point 62 of the laser diode 6 is higher than the light-receiving surface of the element 7.例文帳に追加
ここで第2層の厚みdは、レーザダイオード6のリア側発光点62がモニタ用光検出素子7の受光面よりも高くなるような厚みとする。 - 特許庁
The oil layer contains vitamin E comprising d-α-tocopherol (natural) and dl-α-tocopherol acetate (synthesized), an olive oil, an olive squalane, γ-orizanol and polysorbate.例文帳に追加
油層は、d−α−トコフェロール(天然)とdl−α−酢酸トコフェロール(合成)とからなるビタミンE、オリーブオイル、オリーブスクワラン、γ−オリザノール、ポリソルベートを含有してなる。 - 特許庁
If a liquid crystal having anisotropy in refractive index Δn=0.114 is used for the liquid crystal layer 13B of monochrome liquid crystal panel 10B, the retardation is 0.456 by setting d=4 μm.例文帳に追加
モノクロ液晶パネル10Bの液晶層13Bには屈折率異方性Δn=0.114の液晶を用いると、d=4μmであるからリタデーションはほぼ0.456となる。 - 特許庁
Δnd, a product of a cell gap d which is liquid crystal layer thickness of a nematic liquid crystal 18 and anisotropy of refractive index Δn of the liquid crystal molecules, is set to be 2.3-2.5 μm.例文帳に追加
ネマチック液晶18の液晶層の厚さであるセルギャップdと、液晶分子の屈折率異方性Δnとの積Δndを2.3乃至2.5μmとした。 - 特許庁
The printing plate has a polymerizable photosensitive layer having the following components (A) to (D) on a supporting body having a hydrophilic surface, with ≥0.2 difference in I/O (inorganic substances/organic substances) between (A) and (B).例文帳に追加
表面親水性支持体上に、下記(A)〜(D)を含有する重合性感光層を有し、(A)と(B)のI/Oの値の差が0.2以上であることを特徴とする。 - 特許庁
Source/drain diffusion layers S and D involve an epitaxial layer 21, for example, and are formed thick on the side part of the lower gate electrode member 14, while being insulated by an oxide film 20.例文帳に追加
ソース/ドレイン拡散層S,Dは例えばエピタキシャル層21を伴い酸化膜20で絶縁されつつ下部ゲート電極部材14側部に厚く形成されている。 - 特許庁
The method also comprises the step of exposing the region 12, and the layer 11 only at the mirror with the first and second resists 1 and 2 as masks in Fig. (d).例文帳に追加
(d)において、第一のレジスト1と第二のレジスト2とをマスクにして、コーナーミラー部でのみ活性層領域12とn型AlGaAsクラッド層11が露出させる。 - 特許庁
Also, an interval between the third semiconductor regions is 2d×tan18° or more in the case where d is a thickness of the wideband gap semiconductor layer of the first conductivity type.例文帳に追加
また、第3の半導体領域の間隔が、第1導電型のワイドバンドギャップ半導体層の厚さをdとする場合に2d×tan18°以上である。 - 特許庁
An effective component D and a basic water swellable methacrylic acid copolymer P1 and/or acidic water swellable methacrylic acid copolymer P2 are incorporated into the conductive layer 102.例文帳に追加
導電層102には、有効成分Dおよび塩基性の水膨潤性メタアクリル酸コポリマーP1または/及び酸性の水膨潤性メタアクリル酸コポリマーP2が含有される。 - 特許庁
Thereafter, the fine particle 41 changes to insulating properties through heat treatment under an oxygen atmosphere, and is dissolved and solidified, and is immobilized as an oxide layer between nanocolumns 3 (d).例文帳に追加
その後、酸素雰囲気下で熱処理することで、微粒子41は絶縁性に変化し、かつ溶融・固化して、ナノコラム3間に酸化層として固定化される(d)。 - 特許庁
Then, the distance "x" and the separation distance "d" are set to a sufficiently short range where static electricity moves between the conductive layer and the terminal and between adjacent conductive layers.例文帳に追加
そして、前記した距離xおよび離間距離dは静電気が、導電層と端子間および隣接しあう導電層間を移行するに十分短い距離に設定する。 - 特許庁
A color filter substrate 20 is provided with a transparent resin layer 41 and color elements 40R, 40G, 40B in recessed parts formed by a glass substrate 21 and barrier walls 45 (Fig. 6(d)).例文帳に追加
カラーフィルタ基板20は、ガラス基板21および隔壁45によって形作られる凹部に、透明樹脂層41および色要素40R,40G,40Bを備える(図6(d))。 - 特許庁
After forming solder connection structure D by a solder layer 50, an organic film 25 is brought into contact with an acid liquid or its vapor to remove or thin the organic film 25.例文帳に追加
半田層50によって半田接続構造Dを形成した後、酸性液またはその蒸気に有機膜25を接触させて、有機膜25を除去または薄くする。 - 特許庁
An atmosphere temperature during heating in a dense layer D formation process is 80 to 100°C and is lower than a softening point temperature of resin to be a molding material of the pipe joint 20.例文帳に追加
また、緻密層D形成工程における加熱処理時の雰囲気温度は80〜100℃であり、パイプ継ぎ手20の成型材質である樹脂の軟化点温度より低い。 - 特許庁
A hard sheet layer 2 is provided between the woody base 1 and the decorative sheet 3 and the surface hardness is made 60 or above according to a durometer hardness test type D (JIS K 6253).例文帳に追加
木質基材1と化粧シート3との間に硬質シート層2を設け、表面硬度をデュロメーター硬さ試験タイプD(JIS K 6253)にて60以上とする。 - 特許庁
The inner liner layer 4 comprises a thermoplastic resin containing a rubber composition and a thickness dimension d in a shoulder part is larger than a thickness dimension in a tire crown part.例文帳に追加
このインナーライナー層4は、ゴム組成物を含む熱可塑性樹脂から成ると共に、ショルダー部における厚さ寸法dがタイヤクラウン部における厚さ寸法よりも大きい。 - 特許庁
After forming a solder connection structure D with a solder layer 50, the organic film 25 is softened by immersing the organic film 25 in an organic solvent 61 in a bath 60 of the organic solvent.例文帳に追加
半田層50によって半田接続構造Dを形成した後、有機溶剤層60中の有機溶剤60に有機膜25を浸漬して、有機膜25を軟化する。 - 特許庁
A groove bottom thickness d is defined by an interval between a groove bottom apparent outer diameter D1 determined by the inscribed circle of the groove bottom of the spiral grooves 18 and the outer diameter D2 of the coating layer.例文帳に追加
螺旋状溝18の溝底の内接円で決まる溝底みなし外径D1と、被覆層の外径D2との間の間隔が、溝底部厚みdとなっている。 - 特許庁
In addition, the adhesive layer E is a nonwoven fabric comprising fibers of core-shell structure in which fibers D are a core material, and the polyester resin adhesive C is a shell material.例文帳に追加
更には、接着層Eが繊維Dを芯材、ポリエステル樹脂接着剤Cを鞘材とする芯鞘構造の繊維からなる不織布であることを特徴とするものである。 - 特許庁
The drive transistor Tr2 has such structure that area of a part overlapping a channel protection layer 24 in a source electrode S is larger than that in a drain electrode D.例文帳に追加
本発明は、駆動トランジスタTr2を、チャンネル保護層24と重なり合う部位の面積がドレイン電極Dに比してソース電極Sで大きな構造とする。 - 特許庁
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