「D layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

This base isolation structure supporting a superstructure in a base isolation manner by a base isolation device installed on a base isolation layer is provided with a damper D arranged in parallel with a base isolation device on a base isolation layer to fulfill the effect of response reduction for the vibration in high-order mode of the superstructure.例文帳に追加

免震層に設置した免震装置により上部構造物を免震支持してなる免震構造物において、上部構造物の高次モードの振動に対して応答低減効果を発揮するダンパーＤを免震層に免震装置と並列に設置する。 - 特許庁

A layer including a magnesium oxide crystal generating a cathode luminescence emission with a peak in a wavelength range of 200 to 300 nm excited by an electron beam is provided on a column electrode protection layer 5 covering column electrodes D on a back surface glass substrate 4.例文帳に追加

背面ガラス基板４上の列電極Ｄを被覆する列電極保護層５上に、電子線によって励起されて波長域２００〜３００nm内にピークを有するカソード・ルミネッセンス発光を行う酸化マグネシウム結晶体を含む層が設けられている。 - 特許庁

The each opening inside diameter D' of the solder resist layer reflected on the CAD data is converted as the CAM data into a mask pattern D_0 for the openings of the exposure mask for the photolithography to form the openings of a solder resist layer by a photolithographic process using a photosensitive resin.例文帳に追加

感光性樹脂を用いたフォトリソグラフィー工程によりソルダーレジスト層の開口を形成するために、ＣＡＤデータに反映されたソルダーレジスト層の開口内径Ｄ’を、フォトリソグラフィー用露光マスクの開口用マスクパターン外径Ｄ_０に、ＣＡＭデータとして変換する。 - 特許庁

By causing the layer of a band gap smaller than that of the light detection layers to be prevented from existing between the light detection layers ((c) and (d)), so as to make the light L2 reach the light detection layers.例文帳に追加

光検出層（ｃ、ｄ）と光感応層との間に、光検出層のバンドギャップよりも小さいバンドギャップの層を存在させないようにして、光Ｌ２を光検出層に到達させる。 - 特許庁

Consequently, the user is notified of the thickness of a liquid developer layer on a surface of the developing roller 52 and controls an amount of supplying liquid developer D onto the surface of the developing roller 52.例文帳に追加

これにより、現像ローラ５２表面の液体現像剤層の厚さを把握することができ、さらに現像ローラ５２表面への液体現像剤Ｄの供給量を制御することができる。 - 特許庁

To calculate the radio wave image of the surface of the atmosphere or the earth from a radio wave occultation signal and to clear the data related to a change in the inclination of electron density in the D-region or E-region of an ionization layer.例文帳に追加

電波オカルテーション信号から、大気や地球表面の電波イメージを求め、また、電離層のＤ領域やＥ領域における電子密度の傾斜の変化に関する情報を明らかにする。 - 特許庁

In a manufacturing method of the blade in a wind power generator, a coating film is formed by removing the solvent (D) after applying the coating composition onto the surface of the blade base material in the wind power generator and forming a coating layer.例文帳に追加

また、該塗料組成物を、風力発電機のブレード基体表面に塗布して塗布層を形成した後、溶剤（Ｄ）を除去して塗膜を形成させる風力発電機のブレードの製造方法。 - 特許庁

Then a metal mold, on the surface of which the minute grating is formed, is pressed to the photoresist layer 14 to transfer a metal mold pattern to the resist and then the metal mold is released to form a minute grating pattern as shown in Fig.1(d).例文帳に追加

次に微細格子が表面に形成された金型をフォトレジスト層１４に押し付けて金型パターンをレジストに転写し、金型を離型して図１（ｄ）のような微細格子パターンを形成する。 - 特許庁

Further, the 1st quartz substrate 25 is removed and the substrate reverse surface 24b, made into a thin layer, is stuck on a 2nd quartz substrate 26 to realize an optical modulator which can be applied with a modulation signal (d).例文帳に追加

次に、第１の石英基板２５を取り外し、薄層化された基板裏面２４ｂを第２の石英基板２６に貼り付け、変調信号が印加可能な光変調器として実現した（ｄ）。 - 特許庁

Then, a nozzle of a high-pressure water injection device is inserted in place of the auger screw, and uncut portion is crushed and removed by water jet so as to provide a permeable hole 5 communicating with the permeable layer D.例文帳に追加

その後は、オーガスクリューに代えて高圧水噴射装置のノズルを挿入し、ウォータージェットにより、削り残りの部分を破砕、除去し、透水層Ｄと連通する透水孔５を開設する。 - 特許庁

The submerged combined aerator 22 is configured such that the air diffusion pipe 27 diffuses the surplus water d accumulated in the air sump chamber 10 in the aerator body 24 into the water to agitate the surface layer water.例文帳に追加

この散気管２７で、曝気本体２４内の空気溜め室１０に溜まった余剰空気ｄを水中に散気して、表層の水を攪拌させるようにした水没式複合型曝気装置２２である。 - 特許庁

The width of the dot D itself is set to be 0.1-0.5 mm for instance, and the gap S and respective color concentrations are adjusted and set according to the light reflection by the metallic layer 5 and a design pattern, etc.例文帳に追加

ドットＤ自体の幅は、例えば０．１ｍｍ〜０．５ｍｍに設定され、隙間Ｓや各色濃度は、メタリック層５による光反射や下記意匠パターンなどに応じて調整、設定がなされている。 - 特許庁

A gate insulating film 12B, a gate electrode 2, an interlayer dielectric 12C, a video line D and a source electrode 4 are layered in this order on an upper layer of an active element that a first substrate 10A has.例文帳に追加

第１の基板１０Ａに有するアクティブ素子の上層に形成されたゲート絶縁膜１２Ｂ、ゲート電極２、層間絶縁膜１２Ｃ、映像線Ｄとソース電極４とをこの順で積層する。 - 特許庁

Layer 1 processing sections 1-1-1-n extract received B channel data 4-1-4-n and received D channel data 5-1-5-n from a signal received from ISDN lines 3-1-3-n via line interfaces 2-1-2-n.例文帳に追加

レイヤ１処理部１-1〜１-nはＩＳＤＮ回線３-1〜３-nから回線インターフェース２-1〜２-nを介して受信した信号から受信Ｂチャネルデータ４-1〜４-n及び受信Ｄチャネルデータ５-1〜５-nを抽出する。 - 特許庁

In one embodiment, a second S/D region is separated from the channel by an offset region, and the photo absorption threshold bias region is the offset region in the Ge layer, after light P-doping.例文帳に追加

一実施形態において、第２のＳ／Ｄ領域は、オフセット領域によりチャネルから引き離され、光吸収しきい値バイアス領域は、濃度の薄いＰ型ドーピング後のＧｅ層中のオフセット領域である。 - 特許庁

The two-layer-type cosmetic contains (a) 0.01-3 mass% water- swellable clay mineral, (b) 0.01-20 mass% powder, (c) 0.001-5 mass% electrolyte and (d) water.例文帳に追加

次の成分（ａ）〜（ｄ）、 （ａ）水膨潤性粘土鉱物 ０．０１〜３質量％ （ｂ）粉体 ０．０１〜２０質量％ （ｃ）電解質 ０．００１〜５質量％ （ｄ）水 を含有することを特徴とする二層型化粧料。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device, for manufacturing an LDD region, a pocket layer and a high concentration source/ drain(S/D) region with minimum number of manufacturing processes.例文帳に追加

ＬＤＤ領域、ポケット層及び高濃度ソース／ドレイン（Ｓ／Ｄ）領域を、最小限の製造工程数で製造することができる半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

By providing a recess 2a and a projection 2b at places for setting channel regions in a D-mode JFET and an E-mode JFET respectively, an n-type channel layer 3 having a different thickness is formed on the same substrate.例文帳に追加

ＤモードとＥモードのＪＦＥＴにおけるチャネル領域を設定する場所にそれぞれ凹部２ａと凸部２ｂを備えることで、同一基板上に厚みが異なるｎ型チャネル層３を形成する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device for ensuring sufficient gate overlap with no deterioration of short channel characteristics, and having an S/D extension layer of low electric resistance, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

短チャネル特性の劣化無しに十分なゲートオーバーラップを確保し、かつ電気抵抗の低いＳ／Ｄ−Ｅｘｔ．層を有する半導体装置およびその製造方法を得ることを目的とする。 - 特許庁

Then, the surface of the substrate is flattened by dry-etching (resist etching back) the photoresist layer 32, nitride film 6, and element isolating film 16 until a first thermally oxidized film 4 is exposed (Fig.1 (D)).例文帳に追加

つづいて、第１の熱酸化膜４が露出するまで、第２のフォトレジスト層３２、窒化膜６、ならびに素子分離膜１６をドライエッチング（レジストエッチバック）して基板表面部を平坦化する（図１の（Ｄ））。 - 特許庁

Then, an SiO_2 mask 1341 which is thicker than the mask 1311 and has a different area is formed at the InP clad layer 1310 where the mask 1311 is formed ((d) in diagram).例文帳に追加

ついで、マスク１３１１が形成されたＩｎＰクラッド層１３１０に対して、マスク１３１１よりも厚いマスク厚であり、異なる面積のマスクであるＳｉＯ_２マスク１３４１を形成する（図１３（ｄ））。 - 特許庁

The second resist layers 7. constituting a double resist structure together with the first resist layer, prevent electronic components from short-circuiting with the wiring pattern and reinforce the surfaces corresponding to the gaps D between the keys 1, 1.例文帳に追加

また、第２レジスト層により、第１レジスト層と共にダブルレジストの構成とし、電子部品と配線パターンとの短絡を防止し、さらに、鍵１，１の隙間Ｄに対応する面の表面を丈夫にする。 - 特許庁

The original plate has a photosensitive layer containing (A) an IR absorbent, (B) a thermal radical generating agent, (C) a polymer having a radical reactive group and (D) a compound having a thiol group on the substrate.例文帳に追加

支持体上に、（Ａ）赤外線吸収剤、（Ｂ）熱ラジカル発生剤、（Ｃ）ラジカル反応性基を有するポリマー、及び、（Ｄ）チオール基を有する化合物を含む感光層を有することを特徴とする。 - 特許庁

This interval d is the value in a state where a work 22 and a pressurizing head 18-1 get close while leaving a small clearance and, when all layer reaches this value, the holding force of the holding actuator is released.例文帳に追加

この間隔ｄは、ワーク２２と加圧ヘッド１８-1とが、わずかな間隙を残して接近した状態とする値であり、全ての層でこの値となったら、保持アクチュエータの保持力を解放する。 - 特許庁

Or a sheet-shaped magnetic substance 5-40 μm in thickness is used for the sheet- shaped magnetic substance, where a coil pattern 6 is made, and the thickness dc of the coil layer 4 is made 7-60% of the overall thickness D.例文帳に追加

または、コイルパターン６が形成されたシート状磁性体に、厚みが５〜４０μｍのシート状磁性体を使用し、コイル層４の厚みｄｃを全体の厚みＤの７〜６０％にする。 - 特許庁

A rotary drum D is used in a process for producing malted rice and the stirring of the raw material S for producing malted rice is carried out by drop of a raw material layer from an inclined surface by rotation of the rotary drum main body 1.例文帳に追加

製麹工程において回転ドラムＤが用いられ、前記製麹原料Ｓの攪拌が、回転ドラム本体１の回転による原料層の傾斜面からの落下により行われる。 - 特許庁

If this is set as a basic configuration, the on-resistance will be reduced, while the maximum cut-off current density is high by increasing the conductivity modulation of the N- base layer 1 with the large depth D of the trench 3.例文帳に追加

これを基本構成とすれば、トレンチ３の深さＤを大としてＮ^-ベース層１の伝導度変調を強めることでオン抵抗を低減し、かつ最大遮断電流密度を大とすることができる。 - 特許庁

A wettability adjusting layer 5 using a material that is changed in wettability with irradiation of light is formed within an exposed surface region of a circuit board 1 including a disconnection point D of the wiring 3 formed on the circuit board 1.例文帳に追加

基板１上に形成された配線３の断線箇所Ｄを含む基板１の露出面領域に、光照射によって濡れ性が変化する物質を用いた濡れ性調整層５を成膜する。 - 特許庁

The two-layer cosmetic contains (A) a cationic surfactant, preferably, γ-gluconamide propyl dimethyl hydroxyethyl ammonium chloride, (B) a water swellable clay mineral, (C) a water insoluble powder and (D) an electrolyte.例文帳に追加

（Ａ）陽イオン性界面活性剤、好ましくは、塩化γ‐グルコンアミドプロピルジメチルヒドロキシエチルアンモニウム、（Ｂ）水膨潤性粘土鉱物、（Ｃ）水不溶性粉体および（Ｄ）電解質を含有してなる２層型化粧料とする。 - 特許庁

In this case, it is preferable to stipulate the fraction of the length of the direction in alingment with the groove 11a of a virtual recording cell S to the diameter D of a beam waist on the recording layer 12 to 0.15 or more and 0.60 or less.例文帳に追加

この場合、記録層１２上でのレーザービームのビームウエスト径Ｄに対する仮想記録セルＳのグルーブ１１ａに沿った方向の長さの比が、０．１５以上０．６０以下に規定するのが好ましい。 - 特許庁

The obtained data is transmitted to the compaction device V, and depending on the transmitted data, the final degree of compaction of the asphalt layer D is produced based on the actual degree of compaction determined in the screed E.例文帳に追加

取得されたデータは締固め装置Ｖに伝達され、この伝達されたデータを頼りに、スクリードＥで決定された実締固め度に基づき、アスファルト層Ｄの最終締固め度を生成する。 - 特許庁

The distribution density of pores 55 of the ceramic porous body of a release agent holding layer 35 is equal for the outer and inner peripheral sides on the average, but the mean diameter (d) is different.例文帳に追加

離型剤保持層５３におけるセラミックス多孔質体の気孔５５の分布密度は、外周側においても内周側においても平均的には等しいが、その平均直径ｄが変化させられている。 - 特許庁

The resin composition for forming the inkjet receiving layer is characterized by comprising (A) cationic acrylic polymer particles, (B) a silane coupling agent, (C) a filler and (D) a water-based medium.例文帳に追加

本発明はカチオン性アクリル重合体粒子（Ａ）、シランカップリング剤（Ｂ）、フィラー（Ｃ）、及び水系媒体（Ｄ）を含有してなることを特徴とするインクジェット受理層形成用樹脂組成物に関するものである。 - 特許庁

The photomask blank has, on a substrate, a photosensitive composition layer containing a binder polymer (A), a compound (B) having two or more vinylphenyl groups in a molecule, a polymerization initiator (C), and a light shielding material (D).例文帳に追加

基板上に、（Ａ）バインダーポリマー、（Ｂ）分子内にビニルフェニル基を２個以上有する化合物、（Ｃ）重合開始剤、および（Ｄ）遮光材料、を含む感光性組成物層を備えるフォトマスクブランクス。 - 特許庁

The number of the super abrasive grains 18 provided on the small abrasive grain layer part 24 is made to be 11-500, and embedding quantity by the metal plated phase 25 becomes 85-90% of an average grain diameter (d) of the super abrasive grains 18.例文帳に追加

小砥粒層部２４に設けた超砥粒１８は１１〜５００個とし、金属めっき相２５による埋め込み量が超砥粒１８の平均粒径ｄの８５〜９０％になる。 - 特許庁

A third spherical porous particle, as its ore of the silica group layer is completely blocked by heating treatment d a solvent is absent in a space, has an extremely low refractive index and a high heat insulating effect.例文帳に追加

第３の球状多孔質粒子は加熱処理によりシリカ系層の細孔が完全に閉塞されており、空隙に溶媒が存在しないために粒子の屈折率は極めて低く、断熱効果も高い。 - 特許庁

Finally, the liquid crystal layer 12 which is hardened is heated and baked at a fixed temperature using a hot plate 25 (Fig.(c)), by which a final original pattern for optical elements 10 is manufactured (Fig.(d)).例文帳に追加

最後に、ホットプレート２５により硬化状態の液晶層１２を所定の温度で加熱して焼成し（図１（ｃ））、これにより、最終的な光学素子用原版１０を製造する（図１（ｄ））。 - 特許庁

When substrates 12 and 13 are deviated from regular positions when being stuck to each other, the spacer 15 is placed on the projecting portion 56 to widen a gap d between the substrates 12 and 13, and transmittance of a liquid crystal layer between the substrates 12 and 13 is increased.例文帳に追加

基板12，13の貼り合わせの際に正規の位置に対してずれが生じると、スペーサ15が突起部56に重なって基板12，13の間隙ｄが広がり、基板12，13間での液晶層の透過率が増加する。 - 特許庁

The magnetic field applying device X1 for setting the perpendicular magnetic recording layer in a recording medium D having a perpendicular magnetic recording layer to be in a random magnetization state, is provided with a plurality of electromagnets 15 for applying a perpendicular magnetic field to the perpendicular magnetic recording layer, wherein the respective electromagnets 15 are provided so as to be able to perform revolution.例文帳に追加

本発明の磁界印加装置Ｘ１は、垂直磁気記録層を有する記録媒体Ｄにおける当該垂直磁気記録層をランダム磁化状態とするためのものであって、垂直磁気記録層に垂直磁界を印加するための複数の電磁石１５を備え、各電磁石１５は例えば公転動可能に設けられている。 - 特許庁

The hydrophilic member has a finish coat layer formed from a hydrophilic composition containing at least one hydrophilic polymer having a specified structure on a substrate and an undercoat layer formed from an undercoat layer composition containing a polyalkylene oxide (C) and the alkoxide compound of an element selected from among Si, Ti, Zr, and Al (D).例文帳に追加

基板上に特定の構造を含む親水性ポリマーの少なくとも一つを含有する親水性組成物から形成される上塗り層と、（Ｃ）ポリアルキレンオキシド及び（Ｄ）Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌから選択される元素のアルコキシド化合物を含有する下塗り層用組成物から形成される下塗り層とを有することを特徴とする親水性部材。 - 特許庁

A terpolymer comprising vinylidene fluoride units, tetrafluoroethylene units and hexafluoropropylene units and having a low Shore D hardness is used in the outermost layer of the clad of a plastic optical fiber and a polyamide resin material containing a polyamide resin having a specified content of terminal amino groups and a specified content of terminal carboxy groups is used as the innermost layer of a primary coating layer.例文帳に追加

クラッドの最外層に、ビニリデンフロライド単位とテトラフルオロエチレン単位とヘキサフルオロプロピレン単位とからなり、ショアＤ硬度が小さい３元共重合体を使用し、一次被覆層の最内層に、末端アミノ基の含有量および末端カルボキシル基の含有量が特定の範囲にあるポリアミド系樹脂を含有するポリアミド系樹脂材料を使用する。 - 特許庁

The resin varnish is one for forming the adhesive layer of an adhesive layer-coated metal foil composed of a metal foil and an adhesive layer formed thereon and comprises (A) a polyfunctional epoxy resin, (B) a polyfunctional phenolic resin, (C) a polyamide-imide, and a solvent, wherein the solvent comprises (D) a nitrogen-containing solvent and (E) a ketone solvent.例文帳に追加

上記課題を解決する樹脂ワニスは、金属箔と、この金属箔上に設けられた接着層とを備える接着層付き金属箔の接着層を形成するための樹脂ワニスであって、（Ａ）多官能エポキシ樹脂、（Ｂ）多官能フェノール樹脂、（Ｃ）ポリアミドイミド、及び溶媒を含み、溶媒が（Ｄ）含窒素系溶媒及び（Ｅ）ケトン系溶媒を含むものである。 - 特許庁

This manufacturing method of the semiconductor device comprises (a) a step of forming the rare metal layer on a semiconductor substrate provided with the semiconductor device, (b) a step of forming a TaO film on the rare metal layer, (c) a step of patterning the TaO film using a resist pattern, and (d) a step of patterning rare metal layer using the patterned TaO film.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、（ア）半導体素子を形成した半導体基板上にレアメタル層を形成する工程と、（イ）前記レアメタル層上にＴａＯ膜を形成する工程と、（ウ）前記ＴａＯ膜をレジストパターンを用いてパターニングする工程と、（エ）前記パターニングされたＴａＯ膜を用いて前記レアメタル層をパターニングする工程とを含む。 - 特許庁

A water soluble solid K having a pyrolyzing point or a melting point exceeding 450 °C and having the average particle size of 30 to 100 % of the abrasive grain average particle size is included in a grinding material layer of a resinoid grinding wheel so that the retreat of the bond layer B can be promoted at grinding work while maintaining the holding power of the abrasive grain D by the bond layer B.例文帳に追加

レジノイド砥石の砥材層中に、熱分解点または融点が４５０℃超で、平均粒径が砥粒平均粒径の３０〜１００％の大きさの水溶性固形物Ｋを含有させることにより、ボンド層Ｂによる砥粒Ｄの保持力を維持したうえで、研削加工時にボンド層Ｂの後退を促進させることができる。 - 特許庁

In the manufacturing method of the printed wiring boad by which the conductor layer is formed by plating after the surface of the resin insulating layer is irradiated with UV, the thermosetting resin composition used for forming the resin insulating layer contains (A) an epoxy resin, (B) a monoepoxide addition product of dicyandiamide, (C) a filler and (D) a polyhydroxy carboxylic acid or its derivative.例文帳に追加

樹脂絶縁層の表面に紫外線を照射した後、めっき処理により導体層を形成するプリント配線板の製造において、上記樹脂絶縁層の形成に用いられる熱硬化性樹脂組成物は、（Ａ）エポキシ樹脂、（Ｂ）ジシアンジアミドのモノエポキシド付加物、（Ｃ）フィラー、及び（Ｄ）ポリヒドロキシカルボン酸もしくはその誘導体を含有する。 - 特許庁