「D layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

In the part B and the part D of a layer insulating film which do not include a wiring pattern on a semiconductor substrate, dummy patterns 13b and 13d dividing the low dielectric film into a plurality of isolated regions E are formed.例文帳に追加

半導体基板上の配線パターンを含まない層間絶縁膜の部分Ｂおよび部分Ｄにおいて、低誘電率膜を複数の孤立領域Ｅに仕切るダミーパターン１３ｂおよび１３ｄを形成する。 - 特許庁

The composition for forming a hard coat layer is characterized by including: multifunctional (meth)acrylmonomer (A); (meth)acrylmonomer which has a hydroxy group (B); an optical radical polymerization initiator (C); and a fluorine-containing compound which has a polymerization group (D).例文帳に追加

多官能（メタ）アクリルモノマー（Ａ）と、水酸基を有する（メタ）アクリルモノマー（Ｂ）と、光ラジカル重合開始剤（Ｃ）と、重合性基を有する含フッ素化合物（Ｄ）とを含むことを特徴とするハードコート層形成用組成物。 - 特許庁

The negative electrode active material used is a carbon whose inter layer distance d(002) by an X-ray diffraction method is not less than 0.377 nm, and the size of the crystalit in the c-axial direction is not larger than 1.29 nm.例文帳に追加

負極活物質として、Ｘ線回折法による層間距離ｄ（００２）が０．３７７ｎｍ以上であり、ｃ軸方向の結晶子の大きさＬｃが１．２９ｎｍ以下である炭素材料を用いる。 - 特許庁

Base materials of an inner ring 1, an outer ring 2 and a ball 3 are covered with a DLC layer D having 100-280 GPa of equivalent elastic modulus, on a contact face of the inner ring 1, the outer ring 2 and the ball 3 of a thrust ball bearing.例文帳に追加

スラスト玉軸受の内輪１，外輪２と玉３との接触面においては、内輪１，外輪２，玉３の母材に、等価弾性定数１００〜２８０ＧＰａのＤＬＣ層Ｄが被覆されている。 - 特許庁

The ear tip of a fishing rod is formed by laminating a fiber-reinforced resin prepreg layer 11 on a base rod side more than an X position corresponding to the specific maximum bending point D based on bending load applied on a solid state core material 10.例文帳に追加

中実状芯材１０に対して付与される曲げ荷重による固有最大歪み点Ｄに対応するＸ位置よりも元竿側に繊維強化樹脂プリプレグ層１１を積層して構成したものである。 - 特許庁

A nonwoven fabric laminate is constituted by bonding a nonwoven fabric (A) comprising polyolefin or the like and an elastomer film (B) having moisture permeability through a nonwoven fabric comprising an adhesive resin (D) or a layer of a porous material (C) such as a porous film.例文帳に追加

不織布積層体は、ポリオレフィン等からなる不織布（Ａ）と透湿性を有するエラストマーフィルム（Ｂ）とが、接着性樹脂（Ｄ）からなる不織布又はポーラスフィルム等の多孔質材（Ｃ）の層を介して接着されている。 - 特許庁

By adjusting a distance D between a regulation end 29a of the regulation blade 29 and the outer peripheral surface of the bearing member 35 when the blade unit 40 is assembled, the gap in a layer thickness regulation part 30 is easily adjusted.例文帳に追加

ブレードユニット４０の組み立て時に規制ブレード２９の規制端２９ａとベアリング部材３５の外周面との距離Ｄを調整しておくことで、層厚規制部３０の隙間を容易に調整することができる。 - 特許庁

The molten unevenness 17b forms a metal layer 19 of liquid gathering by surface tension of the low-melting-point solder to float on an unevenness 18 of the thermosetting resin 16 (Fig. 1(d)).例文帳に追加

また、融解した凹凸１７ｂは、低融点はんだの表面張力によってひとまとまりの液体の金属層１９となり、熱硬化性樹脂１６の凹凸１８上に浮き上がった状態となる（図１（ｄ））。 - 特許庁

By irradiating the plane waveguide type optical circuit with an ultraviolet laser beam 50 through a phase grating mask 30, the diffraction grating 25 is formed in the core layer 20 (figure 1 (d)) by the refractive index modulation pattern.例文帳に追加

そして、この平面導波路型光回路に対して、位相格子マスク３０を介して紫外レーザ光５０を照射して、屈折率変調パターンによる回折格子２５をコア層２０内に形成する（図１（ｄ））。 - 特許庁

The antireflection films are formed so as to be reverse to the direction in which the film thickness distribution of the ND film on the surface of the base plate 11 is formed, and an SiO_2 film 23 of a fifth layer is formed by λ/4 as optical thickness n×d by removing the mask.例文帳に追加

基板１１の表面のＮＤ膜の膜厚分布が形成される方向と逆になるように成膜し、第５層のＳｉＯ_2膜２３はマスクを取り外し、光学膜厚ｎ×ｄでλ／４成膜する。 - 特許庁

Varnish 34 is dripped on the coil end as in Fig. 1 (d) and infiltrated successively downward through the hole of the inter-phase insulating sheet 30, a varnish layer 36 is uniformly formed in a winding of the coil end as shown in Fig. 1 (e).例文帳に追加

図１（ｄ）においてコイルエンドにワニス３４が滴下され、相間絶縁シート３０の穴を通り順次下方に浸透し、図１（ｅ）に示すようにコイルエンドの巻線に均一にワニス層３６が形成される。 - 特許庁

Moreover, the distance between the abutting point A and a free end (point C) of the thin layer forming member 104, that is the protruding quantity L, is set so that a relationship of 0<L≤(d/2)×tanθ+k, 0≤k≤1.5 mm holds.例文帳に追加

さらに、この当接点Ａと、薄層形成部材１０４の自由端（点Ｃ）との距離、すなわち突き出し量Ｌを、０＜Ｌ≦（ｄ／２）×ｔａｎθ＋ｋ、０≦ｋ≦１．５ｍｍの関係が成り立つように設定する。 - 特許庁

The interval d between the LCD 1 and the front light guide 2 can be reduced to the level equivalent to the film thickness of the resin layer 5 and reflection and diffusion of light between the LCD 1 and the front light guide 2 can be suppressed.例文帳に追加

ＬＣＤ１とフロントライトガイド２の間隔ｄを樹脂層５の膜厚と同等まで小さくすることができ、ＬＣＤ１とフロントライトガイド２の間において光が反射、拡散することを抑止できる。 - 特許庁

An end part of the sheet S constituted by bringing a film tape 2 and a peeling paper E into close adhesion through a viscous material layer D is fixed by a pair of sheet fixing members 41 and 42 by leaving it by predetermined length as a free end part 40.例文帳に追加

粘着材層Ｄを介してフィルムテープ２と剥離紙Ｅとが密着されてなるシートＳの端部は、自由端部４０として所定の長さを残して一対のシート固定部材４１と４２により固定される。 - 特許庁

Then, a pipe of a high-pressure water injection device is inserted into the guide hole in place of the auger screw, and the soil cement column portion 2a is crushed and removed by water jet so as to provide a permeable hole 5 communicating with the permeable layer D.例文帳に追加

その後は、ガイド孔に、オーガスクリューに代えて高圧水噴射装置のパイプを挿入し、ウォータージェットにより、ソイルセメント柱部分２ａを破砕、除去し、透水層Ｄと連通する透水孔５を開設する。 - 特許庁

A curb side moss vegetating part is formed by burying a 3-D knitted fabric 80e for curb side vegetation into a curb side mortar bottom layer 80d which is formed on a curb side opening part 80c of the curb superposing frame member.例文帳に追加

縁石重合枠部材の縁石側開口部８０ｃに形成した縁石側モルタル底面層８０ｄに縁石側植生用立体編物８０ｅが埋設されて縁石側コケ植生部が形成される。 - 特許庁

Preferably, the polyurethane resin particle (A) has a thickness of 0.01-0.2 μm, and is made up of an outer layer (C) composed of a thermoplastic resin (D) and an inner shell (E) composed of the polyurethane resin (a) having the crosslinked structure.例文帳に追加

ポリウレタン樹脂粒子（Ａ）としては、厚みが０．０１〜０．２μｍであり、熱可塑性樹脂（Ｄ）からなる外殻層（Ｃ）、及び架橋構造を有するポリウレタン樹脂（ａ）からなる内殻（Ｅ）からなるものが好ましい。 - 特許庁

The method further comprises steps of perforating a contact hole CONT in the insulating film 8 with the silicon nitride film 7 as an etching stopper layer, then removing the exposed silicon nitride film 7, and then exposing an n-type semiconductor region D for forming a drain.例文帳に追加

次いで、窒化シリコン膜７をエッチングストッパ層として絶縁膜８にコンタクトホールＣＯＮＴを穿孔した後、露出した窒化シリコン膜７を除去して、ドレインを形成するｎ型半導体領域Ｄを露出する。 - 特許庁

A development process (d) is carried out to a photosensitive paste layer 12 of a height of about 13 μm under a condition that exposure is repeated twice, a baking process (e) is finished after that, and a circuit pattern 20 is formed.例文帳に追加

露光を２回繰り返した状態にて、図１（ｄ）において、高さ１３μｍ程度の感光性ペーストの層１２に対して現像工程を実施し、その後焼成工程を終え、配線パターン２０を形成する。 - 特許庁

Further, the rubber strip 30 is wound around the winding surface S formed by the outer peripheral surface DS of the molding drum D and the outer peripheral surface 15S of the tread-reinforcing cord layer 15 to form the tread rubber 16 comprising a rubber strip laminate 31.例文帳に追加

又成形ドラムＤの外周面ＤＳとトレッド補強コード層１５の外周面１５Ｓとがなす巻付け面Ｓ上で、ゴムストリップ３０を巻き付けてゴムストリップ積層体３１からなる１６トレッドゴムを形成する。 - 特許庁

The polishing agent is one for polishing a barrier layer of a semiconductor integrated circuit, and contains: (A) quaternary ammonium cation; (B) a corrosion inhibitor; (C) a nonionic surfactant; and (D) colloidal silica, wherein its pH is 2.5 to 5.0.例文帳に追加

半導体集積回路のバリア層を研磨するための研磨液であって、（Ａ）四級アンモニウムカチオン、（Ｂ）腐食抑制剤、（Ｃ）非イオン界面活性剤及び（Ｄ）コロイダルシリカを含み、ｐＨが２．５〜５．０であることを特徴とする。 - 特許庁

The ink receiving layer-forming composition contains fine inorganic particles (A), polyvinyl alcohol (B), water (C), liquid hydrocarbon oil (D) and/or a polyoxyalkylene compound (E), and saturated aliphatic amide (E).例文帳に追加

無機微粒子（Ａ）と、ポリビニルアルコール（Ｂ）と、水（Ｃ）と、液状炭化水素油（Ｄ）及び／又はポリオキシアルキレン化合物（Ｅ）と、飽和脂肪族アミド（Ｅ）とを含むことを特徴とするインク受容層形成用組成物を用いる。 - 特許庁

It is preferable that each drain electrodes D of the TFT is extended on the surface of the auxiliary capacitance electrode 18a via an insulation layer 26 thinner than the thickness of a gate insulation film covering the surrounding of the auxiliary capacitance line 18.例文帳に追加

この補助容量電極１８ａの表面には補助容量線１８の周辺を覆うゲート絶縁膜の厚さよりも薄い絶縁層２６を介してＴＦＴのドレイン電極Ｄを延在させるとよい。 - 特許庁

A plurality of internal layer ceramic green sheets 21 are successively laminated so that an electrode 3 of one ceramic green sheet 21 partially overlaps on an electrode 3 of another ceramic green sheet 21 and an interval d.例文帳に追加

内層用セラミックグリーンシート２１の複数枚を、一方のセラミックグリーンシート２１上の電極３が、他方のセラミックグリーンシート２１の電極３、及び、間隔ｄと部分的に重なるようにして、順次に積層する。 - 特許庁

Excellent heat transfer is obtained by very low arching (d), the storage plate is treated gently, and no problems on the thickness distribution of the layer caused by any excessively large arching occur.例文帳に追加

こうして、極めて低いアーチｄによってとりわけ良好な熱伝達が得られ、記憶プレートは穏やかに処理され、かつ同時に、被覆処理中に、あまりに大きなアーチによる層の厚み分布に関連する問題が生じない。 - 特許庁

The ink accepting layer which contains a polyvinyl alcohol resin (A) containing an acetoacetic ester group, a polyvinyl alcohol resin (B) containing a cationic group, a zirconium compound (C) and inorganic particulates (D) is formed on a support base.例文帳に追加

支持基材上に、アセト酢酸エステル基含有ポリビニルアルコール系樹脂（Ａ）、カチオン性基含有ポリビニルアルコール系樹脂（Ｂ）、ジルコニウム化合物（Ｃ）および無機微粒子（Ｄ）を含有するインク受容層が形成されてなる。 - 特許庁

The olefin polymerization catalyst comprises the granulated material (C) produced from an ion exchangeable layer compound (A) and a silica sol (B) and a chelate complex and/or a metallocene complex (D) of a group 4-10 transition metal of the periodic table.例文帳に追加

イオン交換性層状化合物（Ａ）とシリカゾル（Ｂ）から製造した造粒物（Ｃ）と、周期律表第４〜１０族遷移金属のキレート錯体及び／又はメタロセン錯体（Ｄ）からなるオレフィン重合触媒である。 - 特許庁

(D) A dye having an absorption maximum at 300-1,200 nm is preferably contained in addition in the image recording layer and a polymer having an alkali-soluble group within a molecule is preferably used as the binder polymer (A).例文帳に追加

画像記録層には、さらに、（Ｄ）３００〜１２００ｎｍに吸収極大を有する色素を含有することが好ましく、（Ａ）バインダーポリマーとして分子内にアルカリ可溶性基を有するポリマーを用いることが好ましい。 - 特許庁

The lithographic printing original plate has on a support a photosensitive layer containing (A) a sensitizing dye comprising a specific oxazole compound, (B) a polymerization initiator, (C) a polymerizable compound and (D) a binder polymer having a crosslinkable group.例文帳に追加

支持体上に、（Ａ）特定のオキサゾール化合物からなる増感色素、（Ｂ）重合開始剤、（Ｃ）重合性化合物、および（Ｄ）架橋性基を有するバインダーポリマーを含有する感光層を有する平版印刷版原版。 - 特許庁

In the step (c), by forming the intermediate layer opening 15 in such a shape that the second dimension becomes smaller at a lower portion lower than at an upper portion, the third dimension is made smaller than the first dimension in the step (d).例文帳に追加

工程（ｃ）において、第２の寸法が上部よりも下部において小さくなる形状に中間層開口１５を形成することにより、工程（ｄ）において、第３の寸法を第１の寸法よりも小さくする。 - 特許庁

The disk D is mounted on a rotating table 15 of a coating film forming portion 11, and recessed grooves are formed on the inner peripheral side and outer peripheral side edge of a receiving layer forming region of a printed surface by a cutting means being relatively rotated.例文帳に追加

ディスクＤを塗膜形成部１１の回転テーブル１５上に載置させ、相対回転させつつ切削手段で印刷面の受理層形成領域の内周側及び外周側縁部に凹溝を形成する。 - 特許庁

The tape has at least one perforated region 4 on at least one edge region, the substrate layer 1 is perforated at the region, and the tape has at least one complementary extensible part D.例文帳に追加

このテープは、少なくとも一方の縁部領域に少なくとも１つの目打ち領域（４）を有しており、そこでは少なくとも支持層（１）が目打ちされており、このテープは少なくとも１つの予備伸張部（Ｄ）を有している。 - 特許庁

The first quadripartite is performed in a state that the number is equal to each other, the next quadripartition is performed on the basis of adjacent grids in a high order layer, the quadripartition of a central area is performed in reference to the grids A-D.例文帳に追加

最初の４分割は数が等分になるように分割し、次の４分割は上位層での隣接するグリッドをベースに分割し、中心領域を４分割する場合には、グリッドＡ〜Ｄを参考にする。 - 特許庁

This photostimulable phosphor screen contains a photostimulable phosphor and the transparent outermost layer having a thickness d larger than 150 μm, and this method is a method for reading the radiation image preserved in the photostimulable storage phosphor screen having the thick transparent outermost layer for reading stimulated light through the outermost layer by stimulating the screen through the outermost layer.例文帳に追加

光刺激されうる蛍りん光体および１５０μｍより大きい厚さ、ｄ、を有する透明な最外層を含んでなる光刺激されうる蛍りん光体スクリーン、並びにスクリーンを透明な最外層を通して刺激しそして刺激された光を最も外側の層を通して読み取るような厚い透明な最も外側の層を有する光刺激されうる保存蛍りん光体スクリーン中に保存された放射線像を読み取る方法が提供される。 - 特許庁

Integrated circuit(IC) structure for an IC containing the multilayered dielectric stack includes a) a first dielectric layer which contains first dielectric material and covers a semiconductor substrate, b) a second dielectric layer which contains a second dielectric material and covers the first dielectric layer, c) a third dielectric layer which contains the first dielectric material and covers the first and second dielectric layers, and d) an electrode which covers the dielectric stack.例文帳に追加

多層誘電体スタックを含むＩＣのための集積回路（ＩＣ）構造は、ａ）第１の誘電体材料を含み、半導体基板を覆う第１の誘電体層と、ｂ）第２の誘電体材料を含み、第１の誘電体層を覆う第２の誘電体層と、ｃ）第１の誘電体材料を含み、第１および第２の誘電体層を覆う第３の誘電体層と、ｄ）誘電体スタックを覆う電極とを含む。 - 特許庁

In the permeable waterproof coated structure in which (A) a fiber-reinforced resin waterproof layer, (B) a porous permeable cushioning layer, (C) a primer layer, and (D) a substrate are arranged from above, the waterproof layer is produced by curing a waterproof material composition containing a thermosetting resin and a fiber reinforcer, and the thermosetting resin contains an unsaturated polyester having dicyclopentenyl groups and a polymerizable monomer.例文帳に追加

本発明に係る通気性防水被覆構造体は、上から、（Ａ）繊維強化樹脂防水層、（Ｂ）有孔通気性緩衝層、（Ｃ）プライマー層、（Ｄ）基体、の構成を有する防水被覆構造体において、前記防水層（Ａ）が、（イ）熱硬化性樹脂、（ロ）繊維強化材、を含有する防水材組成物を硬化してなる層であり、該熱硬化性樹脂（イ）がジシクロペンテニル基を有する不飽和ポリエステルと重合性モノマーを含有することを特徴とする。 - 特許庁

The antireflection film including a low refractive index layer on a transparent film base is characterized in that the low refractive index layer includes at least: alkoxysilane compound (a) having epoxy group; sulfonium salt acid generator (b); silica fine particle (c) having outer shell layer and porous or hollow interior; ionizing radiation curable resin (d); and photo-radical polymerization initiator (e).例文帳に追加

透明フィルム基材上に低屈折率層を含む反射防止フィルムにおいて、前記低屈折率層が少なくとも（ａ）エポキシ基を有するアルコキシシラン化合物、（ｂ）スルホニウム塩系酸発生剤、（ｃ）外殻層を有し、内部が多孔質または空洞であるシリカ微粒子、（ｄ）電離放射線硬化型樹脂、（ｅ）光ラジカル重合開始剤、からなることを特徴とする反射防止フィルム。 - 特許庁

The method of manufacturing the filter for display panels includes: function layer formation processes A, B for forming the electromagnetic material and the functional coating layer on the base material film successively, a conductive tape arrangement process C for arranging the conductive tape on the functional coating layer, and a knurling process D for performing knurling from the surface of the conductive tape for allowing the conductive tape to come into contact with the electromagnetic sealing material.例文帳に追加

基材フィルム上に、電磁波シールド材および機能性塗工層を順次形成する機能層形成工程（Ａ），（Ｂ）と、機能性塗工層上に導電性テープを配置する導電性テープ配置工程（Ｃ）と、導電性テープ表面からローレット加工を施して、導電性テープと電磁波シールド材とを接触させるローレット加工工程（Ｄ）と、を含む。 - 特許庁

To provide a modified polyolefin composition (C) excellent in a total balance of adhesion to a polyamide layer and/or a polar group-containing polymer (D) such as an ethylene-vinyl alcohol copolymer, adhesion to a layer composed of a polymer having a saturated cyclic hydrocarbon residue and suppression of adhesive strength after filling chemicals, and to provide an adhesive layer and a layered product using the composition.例文帳に追加

ポリアミド層および／またはエチレン・ビニルアルコール共重合体等の極性基含有重合体（Ｄ）との接着性、飽和環状炭化水素残基を有する重合体からなる層との接着性、薬品充填後における接着力低下抑制の全てのバランスに優れた変性ポリオレフィン組成物（Ｃ）、およびその組成物を用いた接着層および積層体を提供すること。 - 特許庁

Between the calcination heat treatment process B and a final baking heat treatment process D for generating a superconducting layer, an intermediate baking heat treatment process C is performed at a temperature lower than a final baking heat treatment temperature in the final baking heat treatment process D to manufacture a REBa_yCu_3O_z-based oxide superconducting wire including flux pinning points.例文帳に追加

仮焼成熱処理工程Ｂと、超電導層生成のための本焼成熱処理工程Ｄとの間に、本焼成熱処理工程Ｄにおける本焼成熱処理温度より低い温度で中間焼成熱処理工程Ｃを施して、磁束ピンニング点を含むＲＥＢａ_ｙＣｕ_３Ｏ_ｚ系の酸化物超電導線材を製造する。 - 特許庁

The dry film has a photosensitive layer containing (A) a carboxyl group-containing resin, (B) a reactive diluent, (C) a photopolymerization initiator and (D) an epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule, wherein the epoxy resin (D) has an aromatic ring or a heterocycle, ≤240 g/eq epoxy equivalent and ≤3,000 weight average molecular weight.例文帳に追加

（Ａ）カルボキシル基含有樹脂、（Ｂ）反応性希釈剤、（Ｃ）光重合開始剤、及び（Ｄ）一分子中に２個以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂を含有する感光層を有しており、前記エポキシ樹脂（Ｄ）が、芳香環又は複素環を有し、エポキシ当量が２４０ｇ／ｅｑ．以下であり、かつ重量平均分子量が３，０００以下である。 - 特許庁

Relating to a vortex formed in a wall surface boundary layer of a current flowing in a pipe, based on hydro dynamic characteristic time of the vortex defined by a vortex diameter and a rotational speed of the vortex or a product dp0×D of a pressure loss dp0 generated by a flow and its represented length D, fluid friction is evaluated or estimated.例文帳に追加

管内を流れる流れの壁面境界層内に形成される渦に関して、前記渦の渦径と回転速度で定義される渦の流体力学的特性時間、あるいは流れにより発生する圧力損失ｄｐ０と流れの代表長さＤの積ｄｐ０×Ｄに基づいて、流体摩擦の評価あるいは予測をおこなう。 - 特許庁

Plural magnetized states can be stored in a single recording region and plural information bits are recorded in a single recording magnetic field by storing plural kinds of magnetic particles A-D giving light Kerr rotation angles or Kerr ellipticities different from one another and plural kinds of magnetic particles A-D having recording magnetic fields or recording temperatures different from one another in the magnetic recording layer 4.例文帳に追加

磁気記録層４に、光に与えるカー回転角又はカー楕円率が異なる複数種類の磁性粒子Ａ〜Ｄや、記録磁界又は記録温度が異なる複数種類の磁性粒子Ａ〜Ｄを収容することで、単一の記録領域に複数の磁化状態を形容することができ、単一の記録磁界に複数の情報を記録する。 - 特許庁

In a thin film transistor having a polycrystal silicon thin film formed on a substrate through an insulating film and using the polycrystal silicon thin film as an active layer, the thickness d[cm] is made to satisfy d≥5.0×10-4×k1/2 when the thermal conductivity of a material constituting the insulating film is set to be k[W/(cm.K)].例文帳に追加

基板上に絶縁膜を介して成膜された多結晶シリコン薄膜を有すると共に、この多結晶シリコン薄膜を活性層として用いた薄膜トランジスタにおいて、絶縁膜を構成する素材の熱伝導率をｋ〔Ｗ／（ｃｍ・Ｋ）〕とした場合、当該絶縁膜の厚さｄ〔ｃｍ〕を、ｄ≧５．０×１０^−４×ｋ^１／２を満たす厚さとする。 - 特許庁

The optical fiber illumination device comprises: the plurality of optical fibers 1 having an arbitrary design region D; an optical fiber fixing member 2 which fixes the optical fibers 1; and a light source 10 disposed on an end part of the optical fibers 1, wherein at least one part of colored layer X is disposed on the design region D.例文帳に追加

任意のデザイン領域Ｄを有する複数本の光ファイバ１と、前記光ファイバ１を固定する光ファイバ固定部材２と、前記光ファイバ１の端部に設けられた光源１０とを備える光ファイバ照明装置であって、前記デザイン領域Ｄに少なくとも１箇所の着色層Ｘを有することを特徴とする光ファイバ照明装置。 - 特許庁