「D layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

A number of MOS transistors 52-1 to 52-n are aligned densely, a source S of a number of MOS transistors is connected to an aluminum wiring layer 64 for source common connection via a through-hole 73 for a source, and a drain D is connected to an aluminum wiring layer 63 for drain common connection via a through-hole 74 for a drain.例文帳に追加

多数のＭＯＳトランジスタ５２−１〜５２−ｎが密に並んでおり、多数のＭＯＳトランジスタのソースＳがソース用スルーホール７３を介してソース共通接続用アルミ配線層６４と接続してあり、ドレインＤがドレイン用スルーホール７４を介してドレイン共通接続用アルミ配線層６３と接続してある。 - 特許庁

A laminated polyester film with a coating layer, wherein the coating layer is formed from a coating liquid comprising an antistatic agent (A), a compound (B) having an isocyanate reactive group and a urethane bond, a urethane resin (C) that does not have an isocyanate reactive group at a terminal thereof, and at least one cross-linking agent (D).例文帳に追加

塗布層を有する積層ポリエステルフィルムであって、該塗布層が、帯電防止剤（Ａ）、イソシアネート系反応基とウレタン結合を有する化合物（Ｂ）、末端にイソシアネート系反応基を持たないウレタン樹脂（Ｃ）、および1種以上の架橋剤（Ｄ）を含有する塗布液から形成されてなることを特徴とする積層ポリエステルフィルム。 - 特許庁

The laminate board 15 is equipped with: a pair of inorganic insulating layers 11a including the groove portions D penetrating the layers 11a in a thickness direction thereof; and the first resin layer 10a disposed between the inorganic insulating layers 11a, wherein a part of the resin layer 10a is in the groove portions.例文帳に追加

本発明の一形態にかかる積層板１５は、厚み方向に貫通する溝部Ｄを有する一対の第１無機絶縁層１１ａと、第１無機絶縁層１１ａの間に配置された第１樹脂層１０ａと、を備え、第１樹脂層１０ａは、溝部Ｄ内に配置される部分を有する。 - 特許庁

When forming a modified area on a layer immediately above an electrode 6, in other words, when forming a fourth modified area d on a lowest layer of an opposing substrate 2, the laser beam condensing property is enhanced more than when forming first to third, fifth and sixth modified areas a-c, e, f on other layers.例文帳に追加

電極６の直上の層に改質領域を形成するときに、つまり、対向基板２の最下層に第４の改質領域ｄを形成するときには、他の層に第１〜３、５および６の改質領域ａ〜ｃ，ｅ，ｆを形成するときよりも、レーザ光の集光性を高めるようにした。 - 特許庁

The liquid crystal display device 1 comprises: a pair of substrates 7, 8 which hold a liquid crystal layer 12 therewith; a lighting means 3 which emits light applied to the liquid crystal layer 12; the light reflection film 23 disposed on the substrate 7; and a transmission display region T and a reflection display region R disposed within a sub-pixel D region.例文帳に追加

液晶層１２を挟持する一対の基板７，８と、液晶層１２へ供給する光を出射する照明装置３と、基板７に設けられた光反射膜２３と、サブ画素Ｄ領域内に設けられた透過表示領域Ｔ及び反射表示領域Ｒとを有する液晶表示装置１である。 - 特許庁

The optical recording medium D is formed by sequentially layering a first recording layer 2, a second recording layer 6 and a second substrate 8 having a second recessed part 8L, a second projecting part 8G and a second prepit 8P on a first substrate 1 having a first recessed part 1L, a first projecting part 1G and a first prepit 1P formed thereon.例文帳に追加

光記録媒体Ｄは、第１の凹部１Ｌと第１の凸部１Ｇと第１のプリピット１Ｐとが形成されている第１基板１上に、第１記録層２と、第２記録層６と、第２の凹部８Ｌと第２の凸部８Ｇと第２のプリピット８Ｐとを有する第２基板８とを順次積層してなる。 - 特許庁

The display device is equipped with a reflection member 13 disposed to face an observer D, a display panel (organic EL panel) 11 of a spontaneous light emission type to emit first display light L1 to the reflection member 13, a reflective layer formed on the display panel, and a display unit 12 to project a second layer light to the display panel 11.例文帳に追加

観察者Ｄと対向して配設される反射部材１３と、反射部材１３に第一の表示光Ｌ１を投射する自発光型の表示パネル（有機ＥＬパネル）１１と、表示パネルに形１１成される反射層と、表示パネル１１に第二の表示光Ｌ２を投射する表示器１２と、を備える。 - 特許庁

Since an elastic layer is formed on the outer peripheral surface of the transfer drum, the transfer drum abuts on an optical disk D and the surface elastic layer elastically is deformed to abut on these projecting parts 25c, 25d, 25e and 25f, and the transfer pressure is received by these projecting parts also to disperse the transfer pressure.例文帳に追加

転写ドラムの外周面には弾性層が形成されているので、この転写ドラムは光ディスクＤに当接するとともに、表面の弾性層が弾性変形して上記４つの凸部２５ｃ、２５ｄ、２５ｅ、２５ｆに当接し、これらの凸部でも転写圧力を受けるため、転写圧力を分散させることができる。 - 特許庁

The structure comprises at least two layers, that is, the lower layer, which is obtained from a moisture curable composition containing (A) a polyisocyanate compound and (B) a compound dissociated by moisture to generate active hydrogen, and the upper layer comprising (C) a resin with a JIS-A hardness of 70 or more or a resin with a Shore D hardness of 50 or more.例文帳に追加

下層がポリイソシアネート化合物（Ａ）及び湿気で解離して活性水素を発生する化合物（Ｂ）を含有する湿気硬化性組成物から得られるものであり、また上層がＪＩＳ−Ａ硬度７０以上の樹脂又はショアーＤ硬度５０以上の樹脂（Ｃ）である、少なくとも二層からなる構造体。 - 特許庁

The method for producing the self-supporting substrate essentially consists of the step D of forming an intermediate layer comprising a thin ZnO film and a thick GaN film on the intermediate layer on a flat substrate comprising GaN in the given order a plurality of times and the step E of removing the plurality of intermediate layers and separating the substrate from the plurality of thick GaN films.例文帳に追加

ＧａＮからなる平板状の基材の上に、ＺｎＯ薄膜からなる中間層と中間層の上にＧａＮ厚膜を順に複数回形成する工程Ｄと、複数の中間層を除去し、基材と複数のＧａＮ厚膜とを分離する工程Ｅと、を少なくとも具備した自立基板の製造方法。 - 特許庁

The cancelling circuit further has a noise cancelling element 24 having a gate electrode E formed on a P-type semiconductor layer and an adjacent inter-element isolating region L via a gate insulating film 32 and connected to a gate electrode B of a P-ch MOSFET 2 and an N-type semiconductor layer connected to an output wire D.例文帳に追加

さらに、ゲート絶縁膜３２を介してＰ型半導体層及び隣接する素子間分離領域Ｌ上に形成され、Ｐｃｈ−ＭＯＳＦＥＴ２のゲート電極Ｂと接続されるゲート電極Ｅと、出力配線Ｄに接続されるＮ型半導体層とを備えるノイズキャンセル素子２４を有している。 - 特許庁

The image forming material is obtained by successively disposing a silicate coating, a middle layer containing a silicone compound having a functional group capable of causing an addition reaction under a radical and a photosensitive layer containing (A) an IR absorbent, (B) a radical generating agent, (C) a radical polymerizable compound and (D) a binder polymer on an aluminum base.例文帳に追加

アルミニウム支持体上に、シリケート皮膜、ラジカルによる付加反応を起こし得る官能基を有するシリコーン化合物を含む中間層、（Ａ）赤外線吸収剤と、（Ｂ）ラジカル発生剤と、（Ｃ）ラジカル重合性化合物と、（Ｄ）バインダーポリマーを含む感光層を、順次設けてなることを特徴とする。 - 特許庁

The curable electromagnetic shielding adhesive film has a curable conductive polyurethane-polyurea adhesive layer (I), which contains a polyurethane-polyurea resin (A), an epoxy resin (B), and specific weight of a conductive filler; and a curable insulating polyurethane-polyurea resin composition layer (II), which contains a polyurethane-polyurea resin (C) and an epoxy resin (D).例文帳に追加

ポリウレタンポリウレア樹脂（Ａ）とエポキシ樹脂（Ｂ）と特定量の導電性フィラーとを含有する硬化性導電性ポリウレタンポリウレア接着剤層（Ｉ）と、ポリウレタンポリウレア樹脂（Ｃ）とエポキシ樹脂（Ｄ）とを含有するフィルム状硬化性絶縁性ポリウレタンポリウレア樹脂組成物（II）とを有する硬化性電磁波シールド性接着性フィルム。 - 特許庁

In the solid oxide fuel cell having a cell 5 having the primary coat 3 and the electrode layer 2 laminated on the primary coat 3, a plurality of divided electrode layers 2a are formed by dividing the electrode layer 2, and each of the divided electrode layers 2a is arranged on the primary coat 3 at a certain distance d.例文帳に追加

下地層３と、この下地層３上に積層した電極層２を備えたセル５を有する固体電解質型燃料電池において、電極層２を分割して複数の分割電極層２Ａとし、これらの分割電極層２Ａを下地層３上に互いに間隔ｄをおいて配置した。 - 特許庁

A solar battery backside protective sheet comprises a weathering-resistant resin layer (1) formed of a weathering-resistant resin composition (1') containing a specific acrylic copolymer (A), a specific polyester or urethane resin (B), a polyisocyanate compound (C), and a pigment (D), a plastic film (2), and an adhesive layer (3), which are stacked in this order.例文帳に追加

特定のアクリル系共重合体（Ａ）、特定のポリエステル系またはウレタン系樹脂（Ｂ）、ポリイソシアネート化合物（Ｃ）、顔料（Ｄ）、を含有する耐候性樹脂組成物（１’）から形成されている耐候性樹脂層（１）、プラスチックフィルム（２）及び接着剤層（３）の順に積層されてなる太陽電池裏面保護シート。 - 特許庁

The surface protection film is equipped with a substrate and a coating layer of 20 nm-500 nm thickness on the surface of the substrate; wherein the coating layer is formed of a composition comprising, a conductive polymer component (A) having a polythiophene structure and an electron accepting polyacid structure, a melamine resin (B), a polyester resin (C) and an organo-siloxane (D).例文帳に追加

本発明の表面保護フィルムは、基材と、基材の表面に、ポリチオフェン構造と電子受容性ポリ酸構造とを有する導電性ポリマー成分（Ａ）、メラミン樹脂（Ｂ）、ポリエステル樹脂（Ｃ）、およびオルガノシロキサン（Ｄ）を含む組成物を用いて形成した、厚みが２０ｎｍ〜５００ｎｍのコート層とを備える。 - 特許庁

After a decorative layer 2 is formed on a base material B by the lamination of a decorative sheet or the transfer due to a transfer sheet S, a transparent shaping sheet E having an embossed pattern 3 on the surface thereof is laminated on the decorative layer 2 through an adhesive A so that the embossed pattern is formed on the surface side to obtain a decorative material D.例文帳に追加

化粧シートの積層又は転写シートＳによる転写にて、基材Ｂに装飾層２を形成した後、更に該装飾層の上に凹凸模様３を表側に有する透明な賦形シートＥを、間に接着剤Ａを介して、該凹凸模様が表側となる様な向きで積層して化粧材Ｄとする。 - 特許庁

The nonwoven fabric laminate is manufactured, for example, by spraying the molten adhesive resin on the nonwoven fabric (A) from a melt blow spinning nozzle to form a melt blown nonwoven fabric layer comprising the adhesive resin (D) on the nonwoven fabric (A) and bonding the moisture permeable elastomer film (B) on the melt blown nonwoven fabric layer by extrusion lamination.例文帳に追加

不織布積層体の製造方法は、例えば不織布（Ａ）の上に、メルトブローン紡糸用ノズルから溶融した接着性樹脂を吹き付けて接着性樹脂（Ｄ）からなるメルトブローン不織布層を形成後、該不織布のメルトブローン不織布層側に透湿性エラストマーフィルム（Ｂ）を押出しラミネーシヨンして接着する。 - 特許庁

A gap, provided between fixed electrodes Dx+, Dx-, Dy+, Dy-, Dz+ formed on the upper face of a board 1 and an electrode D formed on the lower flat face of a movable electrode 2, is formed by the thickness of soldering layers H1, H2 formed on the board 1, a conductive elastomer layer or a conductive adhesive material layer.例文帳に追加

基板１上面に形成された固定電極Ｄｘ＋，Ｄｘ−，Ｄｙ＋，Ｄｙ−，Ｄｚ＋と、可動電極板２の下平面に形成された電極Ｄとの間に設けられるギャップを、基板１上に形成した半田層H1, H2、導電性エラストマー層又は導電性接着材層の厚みにより形成している。 - 特許庁

When the solid oxide fuel cell 1 is manufactured, the plurality of divided electrode layers 2a are laminated on the primary coat 3 at the certain distance d, a part of each of the plurality of divided electrode layers 2A is covered with an electrode peeling-off preventing layer 4, and the electrode peeling-off preventing layer 4 is fixed to the primary coat 3.例文帳に追加

固体電解質型燃料電池１を製造するに際して、下地層３上に複数の分割電極層２Ａを互いに間隔ｄをおいて積層した後、複数の分割電極層２Ａのそれぞれの一部を電極剥離防止層４で被覆すると共に、この電極剥離防止層４を下地層３に固定する。 - 特許庁

The laminated sheet formulation includes: a drug-containing layer that contains the basic drug (A), a disintegrating agent (B1), and a nonionic water-soluble polymer (C); and a coating layer that contains a masking agent (D) containing a basic group-containing compound (d1) and/or an anionic polymer (d2) and a disintegrating agent (B2).例文帳に追加

塩基性薬物（Ａ）、崩壊剤（Ｂ１）、及び非イオン性水溶性高分子（Ｃ）を含有する薬物含有層と、塩基性基含有化合物（ｄ１）及び／又はアニオン性高分子（ｄ２）を含むマスキング剤（Ｄ）、及び崩壊剤（Ｂ２）を含有する被覆層と、を有することを特徴とする積層シート状製剤。 - 特許庁

The planographic printing plate precursor has a support and a photosensitive layer, characterized in that the photosensitive layer contains (A) a polymerizable compound having a specified cyclic structure, (B) a polymerization initiator, (D) a sensitizing dye having a maximum absorption in a wavelength region from 350 to 450 nm, and (E) a binder polymer.例文帳に追加

支持体及び感光層を有する平版印刷版原版であって、該感光層が、（Ａ）特定の環状構造を有する重合性化合物、（Ｂ）重合開始剤、（Ｄ）３５０〜４５０ｎｍの波長域に極大吸収を有する増感色素、および（Ｅ）バインダーポリマーを含有することを特徴とする平版印刷版原版。 - 特許庁

The catalyst support trap layer 2 consists of many metal oxide particles 21 and catalyst 22, supported to the metal oxide particles 21, the average thickness d of which is 20-200 μm, and also supported amount of the catalyst 22 to gross weight of the catalyst support trap layer 2 is 0.1-2 wt.%.例文帳に追加

触媒担持トラップ層２は、多数の金属酸化物粒子２１と、該金属酸化物粒子２１に担持した触媒２２とによって構成されており、平均膜厚ｄが２０〜２００μｍであると共に、触媒担持トラップ層２の総重量に対する触媒２２の担持量が０．１〜２重量％である。 - 特許庁

The epoxy resin composition of the surface layer contains (A) a bisphenol F epoxy resin, (B) a phenol resin containing a nitrogen atom in its molecular structure, (C) a phosphorous compound contained so that the content of a phosphorus atom in the resin solid of the surface layer becomes 0.5-0.9 mass %, (D) an inorganic filler and ((E) a curing accelerator as essential components.例文帳に追加

表面層のエポキシ樹脂組成物は、（Ａ）ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、（Ｂ）分子構造中に窒素原子を含有するフェノール樹脂、（Ｃ）表面層の樹脂固形分中のリン原子含有率が０．５〜０．９質量％となる量のリン化合物、（Ｄ）無機充填材、（Ｅ）硬化促進剤を必須成分とする。 - 特許庁

A semiconductor device having an insulating resin layer in contact with a semiconductor element, in which the insulating resin layer has a breaking stress (D) at cooling temperatures of the heat cycle test of three times or more of the internal stress value (σ) in the heat cycle test.例文帳に追加

半導体素子に接して絶縁樹脂層を有する半導体装置であって、絶縁樹脂層が、温度サイクル試験における内部応力値（σ）に対して、温度サイクル試験の冷却温度における破断応力（Ｄ）が３．０倍以上である絶縁樹脂からなることを特徴とする半導体装置である。 - 特許庁

The overlapped height D, in a radius direction for nipping the band cords 10A and 10B of first and second band plies 9A and 9B, is changed in a tire axial direction by a band layer 9 in the overlapped region K between the plies 9A and 9B.例文帳に追加

バンド層９は、第１のバンドプライ９Ａと第２のバンドプライ９Ｂとの重なり域Ｋにおいて、バンドプライ９Ａ、９Ｂのバンドコード１０Ａ、１０Ｂを挟む半径方向の重なり高さＤを、タイヤ軸方向に変化させた。 - 特許庁

A foamed insulation layer obtained from a composition containing a 0.02-3.0 pts.wt. of a foaming nucleating agent in 100 pts.wt. of polyethylene-based resin satisfying the following requirements (a)-(d) is formed on the circumference of a conductor as a coating.例文帳に追加

下記（ａ）〜（ｄ）の要件を満たすポリエチレン系樹脂１００重量部に対し、発泡核剤を０．０２〜３．０重量部の割合で含有する組成物から得られる発泡絶縁層を導体の外周に被覆形成する。 - 特許庁

To roughly equalize the strength of induced magnetic fields produced in the storage layer of d a storage cell by the current flowing in the two wirings catching the above cell, without problem of long-term reliability or layout, in a nonvolatile magnetic storage device.例文帳に追加

不揮発性磁気記憶装置において、長期信頼性やレイアウトの問題なしに、記憶セルを挟む二つの配線に流れる電流によってその記憶セルの記憶層に生成される誘起磁界強度をほぼ等しくする。 - 特許庁

The contact area at the time is narrow and the recording surface and the surface of the side of the protective layer of the disk D can be avoided from being abutted on the collision regulating parts α1, α2,... and other members, and these surfaces are prevented from being scratched.例文帳に追加

このときの接触領域は狭く、ディスクＤの記録面や保護層側の面が衝突規制部α１，α２，…やその他の部材に当接することを避けることができ、これらの面が傷付くことを防止できる。 - 特許庁

In the belt layer 10, a part X_2 whose distance between an adjacent steel cord 1 is wider than the other part X_1 is provided in a direction orthogonal to a cord longitudinal direction with a distance D of the maximum 100 mm at a time.例文帳に追加

ベルト層１０中で、隣接するスチールコード１間の距離が他の部分Ｘ_１に比して広い箇所Ｘ_２を、コード長手方向に直交する方向に対し、最大１００ｍｍ以下の間隔Ｄをおいて１箇所ずつ設けた。 - 特許庁

The outer layer has a coefficient of sliding friction of less than 0.30 with respect to the prism film and/or the diffuser film measured in accordance with ASTM D 1894-06, with roughness R3z of larger than 5 μm (R3z in accordance with ISO4288).例文帳に追加

外層は、５μｍより大きい粗さＲ３ｚ（ＩＳＯ ４２８８によるＲ３ｚ。）で、プリズムフィルムまたはディフューザーフィルムに対して０．３０未満のＡＳＴＭ Ｄ １８９４−０６によって測定される滑り摩擦係数を有する。 - 特許庁

The nonemulsified-type aqueous two-layer makeup cosmetic is obtained by compounding water with (A) a hydrophilic atomized silica, (B) a cellulosic water-soluble polymer, (C) a film-forming agent, (D) a water-soluble salt and (E) a hydrophobicization-treated flaky powder.例文帳に追加

（Ａ）親水性煙霧状無水ケイ酸、（Ｂ）セルロース系水溶性高分子、（Ｃ）被膜形成剤、（Ｄ）水溶性塩、（Ｅ）疎水化処理板状粉体を配合することを特徴とする非乳化型水系二層メーキャップ化粧料。 - 特許庁

The radiation sensitive composition for colored layer formation contains (A) a colorant, (B) a polymer including a repeating unit having a group represented by a formula (1-1) or (1-2), (C) a polyfunctional monomer, and (D) a photopolymerization initiator.例文帳に追加

（Ａ）着色剤、（Ｂ）下記式（１−１）又は（１−２）で表される基を有する繰り返し単位を含む重合体、（Ｃ）多官能性単量体、（Ｄ）光重合開始剤を含有する着色層形成用感放射線性組成物。 - 特許庁

Magnetic flux density B on the outside of the panel 11 due to an electric current of the elecric car line 1 is reduced by selecting the height T of the panel 11, a material and structure of the ferromagnetic substance layer 18 and a distance D from the electric car line 1 to the panel 11.例文帳に追加

パネル11の高さＴと、強磁性体層18の材料及び構造と、電車線路１からパネル11までの距離Ｄとの選択により、電車線路１の電流によるパネル11外側の磁束密度Ｂを低減する。 - 特許庁

In the manufacturing method, the device substrate in which the device D accompanied by the surface S1 to be joined is formed, and the packaging unit 80 which has the insulating layer 82 constituting the surface S2 to be joined, are bonded by a normal temperature bonding method.例文帳に追加

本発明の製造方法は、接合対象面Ｓ１を伴うデバイスＤが形成されたデバイス基板と、接合対象面Ｓ２をなす絶縁層８２を有するパッケージング部８０とを常温接合法により接合する。 - 特許庁

The graphite-particle deposition layer 7 shows the I_D/I_G of 1 or less, which is a ratio of an integrated intensity I_D in a peak that represents a band (D) obtained by separating a peak of a Raman spectrum obtained from Raman spectroscopy, to an integrated intensity I_G in a peak that shows a band (G).例文帳に追加

グラファイト粒子堆積層７は、ラマン分光分析によるラマンスペクトルをピーク分離して得られる、Ｄバンドを表すピークの面積強度Ｉ_D とＧバンドを表すピークの面積強度Ｉ_G の比たる、Ｉ_D ／Ｉ_G が１以下である。 - 特許庁

This method has (c) an anisotropic dry etching process of forming a predetermined pattern recess 20 by piercing the tunnel barrier layer 15 of a tunnel junction film 10a, and (d) an isotropic dry etching process of removing a sidewall deposit (22) of the recess 20.例文帳に追加

（ｃ）トンネル接合膜１０ａのトンネルバリア層１５を貫通して、所定パターンの凹部２０を形成する異方性ドライエッチング工程と、（ｄ）凹部２０の側壁付着物（２２）を除去する等方性ドライエッチング工程とを有する。 - 特許庁

The photomask blank has, on a substrate, a photosensitive composition layer containing a sensitizing dye (A) expressed by general formula (1), a polymerization initiator (B), a compound (C) having an ethylenically unsaturated bond, a binder polymer (D), and a light shielding material (E).例文帳に追加

基板上に、（Ａ）下記一般式（Ｉ）で表される増感色素と、（Ｂ）重合開始剤と、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物と、（Ｄ）バインダーポリマーと、（Ｅ）遮光材料と、を含む感光性組成物層を有するフォトマスクブランクス。 - 特許庁

A gap between the wire circuit board 2 and the semiconductor element (flip chip) 1 is resin-sealed with a sealing resin layer 4 consisting of a liquid epoxy resin composition containing the following components (A) to (C), and the following component (D).例文帳に追加

そして、上記配線回路基板２と半導体素子（フリップチップ）１との空隙が、下記の（Ａ）〜（Ｃ）成分とともに下記の（Ｄ）成分を含有する液状エポキシ樹脂組成物からなる封止樹脂層４によって樹脂封止されている。 - 特許庁

The photomask blank has, on a substrate, a photosensitive composition layer containing a compound (A) expressed for general formula (a), a polymerization initiator (B), a compound (C) having an ethylenic unsaturated bond, a binder polymer (D), and a light shielding material (E).例文帳に追加

基板上に、（Ａ）下記一般式（ａ）で表される化合物と、（Ｂ）重合開始剤と、（Ｃ）エチレン性不飽和結合を有する化合物と、（Ｄ）バインダーポリマーと、（Ｅ）遮光材料と、を含む感光性組成物層を備えるフォトマスクブランクスである。 - 特許庁

An intensity ratio R (I_D/I_G) between D-band peak intensity I_D and G-band peak intensity I_G measured with Raman scattering spectral analysis is 1.3 or more in the conductive carbon layer or the conductive carbon particles.例文帳に追加

そして、前記導電性炭素層または導電性炭素粒子において、ラマン散乱分光分析より測定されたＤ−バンドピーク強度Ｉ_ＤとＧ−バンドピーク強度Ｉ_Ｇの強度比Ｒ（Ｉ_Ｄ／Ｉ_Ｇ）が１．３以上である。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device which can reduce the resistance of an S/D layer of a MOS transistor formed on an SOI substrate and reduce its parasitic capacity, and to provide the semiconductor device.例文帳に追加

ＳＯＩ基板に形成されるＭＯＳトランジスタのＳ／Ｄ層について、その抵抗を小さくすることができ、且つ、その寄生容量を低減できるようにした半導体装置の製造方法及び半導体装置を提供する。 - 特許庁

The method for producing the copolymer comprises copolymerizing (C) the olefin and (D) the polar vinyl monomer with the use of a catalyst consisting of (A) a layer compound and (B) a complex of a transition metal belonging to the table 4-10 of the periodic law.例文帳に追加

（Ａ）層状化合物と（Ｂ）周期律表第４〜１０族の遷移金属錯体からなる触媒を用い、（Ｃ）オレフィンと（Ｄ）極性ビニルモノマーとを共重合する、オレフィン／極性ビニルモノマー共重合体の製造方法である。 - 特許庁

A semiconductor memory device includes first and second memory cells each including a variable resistance element 19 and a diode D and having a pillar shape, and an insulating layer 20 provided between the first memory cell and the second memory cell and including a void 21.例文帳に追加

半導体記憶装置は、可変抵抗素子１９及びダイオードＤを有し、かつピラー状の第１及び第２のメモリセルと、第１のメモリセル及び第２のメモリセル間に設けられ、かつボイド２１を有する絶縁層２０とを含む。 - 特許庁

Such a concrete placing form panel is formed as a panel integrated with an external finishing layer D comprising the external finishing material and the backing, to omit an external scaffolding, and is also applicable to a panel for a curtain wall construction method by integrating a wall body for fireproof structure.例文帳に追加

外部仕上材とその下地からなる外部仕上層Ｄを一体化したパネルとして外部足場を省略したり、耐火構造用壁体の一体化によるカーテンウォール工法用パネルへの応用も可能である。 - 特許庁