「D layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

A multiplication value Δnd of a thickness d of the liquid crystal layer 3 and refractive index anisotropy Δn of a liquid crystal material of the liquid crystal layer is 240 nm or less to light having 550 nm wavelength.例文帳に追加

液晶層３の厚みｄと、液晶層の液晶材料の屈折率異方性Δｎと、を乗じた値Δｎｄは、波長５５０ｎｍの光に対して２４０ｎｍ以下である。 - 特許庁

A multiplication value Δnd of a thickness d of the liquid crystal layer 3 and refractive index anisotropy Δn of a liquid crystal material of the liquid crystal layer is 460 nm or more to light having 550 nm wavelength.例文帳に追加

液晶層３の厚みｄと、液晶層の液晶材料の屈折率異方性Δｎと、を乗じた値Δｎｄは、波長５５０ｎｍの光に対して４６０ｎｍ以上である。 - 特許庁

An intense electric field drift layer 6 is formed by applying a nano-crystallization process and an insulation film formation process to parts overlapping the lower electrodes 12 of the polycrystalline silicon layer 3a (fig. (d)).例文帳に追加

多結晶シリコン層３ａのうち下部電極１２に重なる部分にナノ結晶化工程、絶縁膜形成工程を施すことにより強電界ドリフト層６を形成する（図１（ｄ））。 - 特許庁

A soil cement column row earth retaining wall A using an H-steel 3 as a core material is created on both sides of a construction site ground B by excavating it in a nonpermeable layer E under the retaining wall beyond a permeable layer D.例文帳に追加

建設地盤Ｂを挟んで、Ｈ形鋼３を芯材とするソイルセメント柱列土留壁Ａを、透水層Ｄを越えてその下の不透水層Ｅに根入れして造成する。 - 特許庁

The substrate 15 having the adhesive layer 16 is conveyed at the speed of conveyance V (m/min) and, at the same time, the fine beads 24 of average grain size D are scattered on the adhesive layer 16 by a scattering machine 22.例文帳に追加

この接着層１６を有する支持体１５を搬送速度Ｖ［ｍ／ｍｉｎ］で搬送しながら、接着層１６に散布機２２により平均粒径Ｄの微小ビーズ２４を散布する。 - 特許庁

(d) A second group III nitride semiconductor layer 34 is formed on the first group III nitride semiconductor layer 33 while reducing the temperature of the substrate 31 in a temperature range of less than the first temperature.例文帳に追加

（ｄ）基板３１の温度を第１の温度以下の温度範囲で下げながら、第１の３族窒化物半導体層３３上に第２の３族窒化物半導体層３４を形成する。 - 特許庁

A spacer 51 for regulating the gap GP between a toner layer TL and an FPC 4 is disposed on the downstream side of toner flight starting position J in the carrying direction D of the toner layer TL.例文帳に追加

トナー層ＴＬとＦＰＣ４とのギャップＧＰを規定するスペーサ５１を、トナー層ＴＬの搬送方向Ｄにおいてトナー飛翔開始位置Ｊの下流側に配置している。 - 特許庁

A photosensitive layer of the electrophotographic photoreceptor having the photosensitive layer on a conductive substrate contains a phthalocyanine pigment and contains a monoazo compound of 2.0 D in dipole moment.例文帳に追加

導電性支持体上に感光層を有する電子写真感光体において、該感光層がフタロシアニン顔料を含有し、かつ双極子モーメント２．０Ｄ以上のモノアゾ化合物を含有する。 - 特許庁

In the hard coat film, an anchor layer (B) and a hard coat layer (D) containing a (meth)arylic resin (C) are formed on the cycloolefin film (A) to be at least the substrate.例文帳に追加

少なくとも基材となるシクロオレフィン系フィルム（Ａ）上にアンカー層（Ｂ）と、（メタ）アクリル樹脂（Ｃ）を含むハードコート層（Ｄ）を設けてなることを特徴とするハードコートフィルムを提供するものである。 - 特許庁

And the substrate S flattened by the formation of the dummy layer R2 is sucked and fixed to a stage D of a grinding device, and a surface Sb of the substrate S to be ground is ground together with the dummy layer R2.例文帳に追加

そして、このダミー層Ｒ２の形成によって平坦化された基板Ｓを研削装置のステージＤに吸引固定し、基板Ｓの被研削面Ｓｂをダミー層Ｒ２ごと研削する。 - 特許庁

The laminated polyester film has a laminated film, of which the product nd of a film thickness d and a refractive index n is 15-35 nm, on at least one side of a polyester layer (a base-material layer).例文帳に追加

膜厚ｄと屈折率ｎの積ｎｄが１５〜３５ｎｍである積層膜をポリエステル層（基材層）の少なくとも片側に有することを特徴とする積層ポリエステルフィルム。 - 特許庁

The semiconductor-on-insulator type transistor comprises (a) an insulating layer, (b) a semiconductor material layer on the insulating layer, (c) a transistor gate provided in the semiconductor material layer, and (d) a vertical, outer source/drain diffusion region and a vertical, inner diffusion-region, provided in the semiconductor material layer operationally adjacent to the transistor gate.例文帳に追加

セミコンダクタ・オン・インシュレータ型トランジスタは、ａ）絶縁層、ｂ）絶縁層上の半導体物質の層、ｃ）半導体物質層内に設けられたトランジスタゲート、ｄ）トランジスタゲートに動作上近接して半導体物質層内に設けられた上下方向外側ソース／ドレイン拡散領域及び上下方向内側拡散領域とからなる。 - 特許庁

The sub-processes are: (A) forming a first layer of photosensitive coating film; (B) exposing the first layer of the coating film through a first photomask; (C) forming a second layer of photosensitive coating film wider than the first layer; and (D) exposing the second layer of the photosensitive coating film through a second photomask.例文帳に追加

（Ａ）１層目の感光性塗布膜を形成する工程、 （Ｂ）１層目の感光性塗布膜を第１のフォトマスクを介して露光する工程、 （Ｃ）２層目の感光性塗布膜を１層目の感光性塗布膜幅よりも広く形成する工程、 （Ｄ）２層目の感光性塗布膜を第２のフォトマスクを介して露光する工程。 - 特許庁

Regarding each I layer, the electric conduction agent (B) is blended preferably by 1 to 30 mass% into the layer, and, regarding the II layer, the polylactic acid-based resin (D) is blended preferably by 10 to 50 mass% into the layer, and the elastomer (E) is blended preferably by 5 to 20 mass% into the layer.例文帳に追加

前記Ｉ層中に、導電剤（Ｂ）は、層中に１質量％以上３０質量％以下、前記ＩＩ層中に、ポリ乳酸系樹脂（Ｄ）は、層中に１０質量％以上５０質量％以下、エラストマー（Ｅ）は、層中に５質量％以上２０質量％以下の割合で配合するのがよい。 - 特許庁

The transparent base material film (A) and the transparent inorganic thin film layer (C) are laminated through the transparent resin layer (B), which contains the polymer comprising the unsaturated carboxylic acid and/or its derivative, or directly without the transparent resin layer (B) and a transparent resin layer (D) is further laminated on the transparent inorganic thin film layer (C).例文帳に追加

透明基材フィルム（Ａ）と透明無機薄膜層（Ｃ）が、不飽和カルボン酸及び／またはその誘導体からなるポリマーを含む透明樹脂層（Ｂ）を介して／又は介することなく積層され、さらに透明無機薄膜層（Ｃ）の表面に、透明性樹脂層（Ｄ）が積層されていることを特徴とするガスバリアフィルム。 - 特許庁

As for the electrifying member 1 constituted by laminating an elastic layer (b) arranged on a conductive substrate (a) with two or more tubes, the surface roughness of the outermost layer tube (d) positioned as the outermost layer among two or more layered tubes is different from the surface roughness of the inner layer tube (c) coming into contact with the elastic layer.例文帳に追加

導電性基体ａ上に設けられた弾性層ｂ上に少なくとも２層以上のチューブを被覆した帯電部材１において、２層以上のチューブのうち、最外層に位置する最外層チューブｄの表面粗さと、前記弾性層に接する内層チューブｃの表面粗さとが異なる。 - 特許庁

The light 106 for exposure and heating is made to irradiate the lens surface side, as shown in (c), and a hot melt layer 5 contacted with the exposed optical functional layer 6 is melted while the portion of the optical functional layer 2 is selectively exposed and heated to generate adhesion, thereby the optical functional layer 6 is adhered to the hot melt layer 5, as shown in (d).例文帳に追加

（ｃ）に示すように、露光、加熱用の光１０６をレンズ面側から照射し、光学機能層２の部分を選択的に露光、加熱しながら、露光された光学機能層６に接触したホットメルト層５を溶融し、接着力を発生させ、（ｄ）に示すように、光学機能層６とホットメルト層５を接着させる。 - 特許庁

A gap D for ensuring a passage is left between the inside of the protective tube 14 and the outside of the activated carbon layer 13.例文帳に追加

この保護筒１４の内周と活性炭層１３の外周との間に流路確保用の隙間Ｄを設けた浄水カートリッジである。 - 特許庁

By providing Ra and Rz×D within the ranges, a form and directivity of a crystal comprising the stimulable phosphor layer 3 can be optimized.例文帳に追加

Ｒａ、Ｒｚ・Ｄを上述の範囲とすることで、輝尽性蛍光体層３をなす結晶の形状、指向性を最適化できる。 - 特許庁

Next, the die (D) having the protrusion 51 is formed by dividing the base layer to a thickness direction around the protrusion.例文帳に追加

次に、基体層を凸状部の周囲において厚み方向に分断することにより、凸状部５１を有するダイＤを形成する。 - 特許庁

In a second rugged structure formed by the layer of the dielectric material 30, second recesses 32 have the width W and the depth H, while second projections 33 have the width d.例文帳に追加

誘電体３０の層が形成している第２の凹凸構造のうち第２の凹部３２の幅はＷであり、深さはＨである。 - 特許庁

A plurality of grooves 50a to 50j, 51a to 51j are formed in the transparent conductive layer 31 located inside the intervals D, E.例文帳に追加

前記間隔Ｄ，Ｅ内に位置する透明導電層３１には、複数本の溝５０ａ〜５０ｊ，５１ａ〜５１ｊが形成されている。 - 特許庁

Successively in Fig (d), the remaining electrode material layer 35 is etched by using the inductive plasma source of the ICP device and a bias plasma source.例文帳に追加

続いて、ＩＣＰ装置の誘導プラズマ源及びバイアスプラズマ源を用いて残りの電極材料層３５をエッチングする（図１（ｄ））。 - 特許庁

(3) The photosensitive resin laminate contains a hydrophilic polymer (D) further added to the photosensitive resin layer.例文帳に追加

（３）さらに前記感光性樹脂層中に、（Ｄ）親水性重合体を含有した前記（１）記載の表装材用感光性樹脂積層体。 - 特許庁

In this way, the printing layer 4 (two-dimensional code 5) can be transferred from the transfer sheet to the adherend 30, as shown in Fig. (d).例文帳に追加

このようにして、図２（ｄ）に示すように、転写シートから被着体３０へ印刷層４（二次元コード５）を転写することができる。 - 特許庁

Thereby, the thickness d of the liquid crystal layer 19 is made almost constant both in the non-display area N and in the display area S.例文帳に追加

これにより、非表示領域Ｎと表示領域Ｓの両方で、液晶層１９の厚みｄをほぼ同じ値とすることができる。 - 特許庁

Consequently, a magnetic memory device having high heat resistance can be provided even when the recording layer has a comparatively narrow width D.例文帳に追加

このため、記録層の幅Ｄを比較的狭くした場合であっても、耐熱性の高い磁気メモリ装置を提供することができる。 - 特許庁

Furthermore, the phosphorous-containing layer contains, for instance, an aminophenol polymer (A), an acrylic polymer (B), a phosphorus compound (C), and a metal compound (D).例文帳に追加

リン含有層は、例えば、アミノ化フェノール重合体（Ａ）、アクリル系重合体（Ｂ）、リン化合物（Ｃ）及び金属化合物（Ｄ）を含有する。 - 特許庁

A process for forming an outermost surface resist 12e having a through pattern 12e1 on the outermost surfaces of the laminated layer units a to d is executed.例文帳に追加

積層単位ａ〜ｄの最表面に貫通パターン１２ｅ１を有する最表面レジスト１２ｅを形成する工程を実施する。 - 特許庁

Thereafter, the clay 5 is baked while burning the surface layer 6 to remove the same to obtain the ceramic sheet 2a shown by Fig. (D).例文帳に追加

その後、この粘土５を焼成すると共に表面層６を燃焼により消滅させて、（Ｄ）に示す様な陶板２ａを得る。 - 特許庁

(d) A thermal oxide film 33 is formed in only a region facing the opening 31 for the shallow trench in a monocrystalline silicon layer 21C.例文帳に追加

（ｄ）単結晶シリコン層２１Ｃにおける浅部トレンチ用開口部３１に臨んだ領域のみに熱酸化膜３３を形成する。 - 特許庁

Birefringence Δn and total thickness d of the optical retardation compensation film is adjusted corresponding to retardation of a liquid crystal layer of the liquid crystal element.例文帳に追加

液晶素子の液晶層がもつレターデーションに合わせ、位相差補償膜の複屈折Δｎと、その全体厚みｄとを調節する。 - 特許庁

A doped polysilicon layer 57 and a doped amorphous silicon film 58 are formed on an insulating substrate 51 where a capacitor cell has been formed (Fig.(A)-(D)).例文帳に追加

キャパシタセルが形成された絶縁性基板５１上にドープドポリシリコン層５７とドープドアモルファスシリコン膜５８を形成する（図１（Ａ）〜（Ｄ））。 - 特許庁

To provide a coating application type magnetic recording medium provided with a lower layer coating film B and an upper layer coating film A on one surface on a nonmagnetic support C and provided with a back layer D on the other surface in such a manner that excellent preservation characteristics can be obtained.例文帳に追加

非磁性支持体Ｃ上の一方の面に下層塗膜Ｂ、上層塗膜Ａが設けられ、且つ他方の面にバック層Ｄが設けられた塗布型磁気記録媒体において、優れた保存特性が得られるようにする。 - 特許庁

In the plane view from the side of an object F, the light shielding layer BM and the insulation layer 28 overlap with the separation region between the second and third electrodes 24, and the light receiving surface of the light receiving element D is positioned inside the opening of the light shielding layer BM.例文帳に追加

対象物Ｆ側から平面視した場合に、遮光層ＢＭと絶縁層２８は第２，第３電極２４間の離間領域と重なり、受光素子Ｄの受光面は遮光層ＢＭの開口部内に位置する。 - 特許庁

The photosensitive film for permanent pattern formation has a support, a cushion layer and a photosensitive layer in this order, wherein the photosensitive layer comprises a photosensitive composition containing (A) a binder, (B) a polymerizable compound, (C) a photopolymerization initiator and (D) an extender.例文帳に追加

永久パターン形成用感光性フィルムが、支持体と、クッション層と、（Ａ）バインダー、（Ｂ）重合性化合物、（Ｃ）光重合開始剤及び（Ｄ）体質顔料を含有する感光性組成物からなる感光層とをこの順に備えてなる。 - 特許庁

In the multilayer film 10, a film, produced by layering a colored layer 104 and a surface transparent layer 106 in this order on a substrate concealment layer 102, is subjected to embossing E, and all of the following conditions (a) to (d) are satisfied.例文帳に追加

下地隠蔽層１０２の上に着色層１０４および表面透明層１０６をこの順に積層したフィルムにエンボス加工Ｅを施してなり、以下の条件（ａ）〜（ｄ）をすべて満たすことを特徴とする積層フィルム１０。 - 特許庁

Color development layers for starting color development through reception of different energies such as a blue color development layer 205, a green color development layer 206, and a red color development layer 207 are stacked on an image side of an optical disk D.例文帳に追加

光ディスクＤの画像面には、青色発色層２０５、緑色発色層２０６および赤色発色層２０７といった各々異なるエネルギーを印加することで発色を開始する発色層が積層されている。 - 特許庁

A polycarbonate resin laminated molded object is manufactured by laminating a film laminate (d), which includes a composite film including a layer having specific pencil hardness and a layer having specific heat resistance and a specific cured composition layer, on polycarbonate.例文帳に追加

特定の鉛筆硬度を有する層と特定の耐熱性を有する層とを含む複合フィルムと、特定の硬化組成物層とを含むフィルム積層体（ｄ）を、ポリカーボネートに積層してなるポリカーボネート樹脂積層成形体を造る。 - 特許庁

Similarly, a third alloy layer 3c, a fourth alloy layer 3d, and a fifth alloy layer 3e are laminated to form the Au-Sn alloy laminate solder 3 of the thickness d consisting of fiver thin film alloy layers (d1+d2+d3+d4+d5).例文帳に追加

以下同様にして順番に第３次合金層３ｃ、第４次合金層３ｄ及び第５次合金層３ｅを積層して５層（ｄ１＋ｄ２＋ｄ３＋ｄ４＋ｄ５）の薄膜合金層から成る厚さｄのＡｕ−Ｓｎ合金積層ハンダ３を形成する。 - 特許庁

Moreover, the free magnetic layer 70 is made large in thickness at the element center D, so that a magnetic flux generated by the static magnetic field spreads at the element center D so as to be effectively reduced in density at the element center D, the magnetic detector can be improved in reproducing sensitivity at the element center D and increased in reproduction output.例文帳に追加

しかも前記フリー磁性層７０の素子中央部では膜厚が厚くされたことによって前記静磁界による磁束が前記素子中央部で広がり、前記素子中央部での磁束密度をより効果的に小さくできるため、前記素子中央部での再生感度を向上させることができ、再生出力の向上を図ることができる。 - 特許庁

In the ion implanting step, when θ is the angle defined by the obliquely ion implanting direction and a normal of a surface of a semiconductor substrate 1 and D is the sum of the thickness of the mask layer 17 and the thickness of the interlayer insulating film 8, L1/D ≥tanθ>S1/D is satisfied.例文帳に追加

このイオン注入の工程において、斜めイオン注入の注入方向と半導体基板１表面の法線とがなす角度をθとし、マスク層１７の厚みと層間絶縁膜８の厚みとの和をＤとした場合に、Ｌ１／Ｄ≧ｔａｎθ＞Ｓ１／Ｄが満たされる。 - 特許庁

Then, a liquid-repellent layer M1c which repels the droplets D of a lens forming material is formed on an ejection surface M1a of the mother sheet M1, thereafter, the droplets D are ejected to the ejection surface M1a, and the droplets D struck to the ejection surface M1a are hardened to form microlenses 26.例文帳に追加

そして、マザーシートＭ１の吐出面Ｍ１ａに、レンズ形成材料の液滴Ｄを撥液する撥液層Ｍ１ｃを形成した後に、その吐出面Ｍ１ａに液滴Ｄを吐出し、吐出面Ｍ１ａに着弾した液滴Ｄを硬化させてマイクロレンズ２６を形成するようにした。 - 特許庁

The method for manufacturing the organic EL display device comprises a step A of forming the lower electrode, a step B of forming the first organic compound layer, a step C of partially removing the first organic compound layer per a sub-pixel unit by using a laser beam, a step D of forming the first intermediate electrode layer, and a step E of forming the second organic compound layer.例文帳に追加

（Ａ）下部電極の形成工程 （Ｂ）第一有機化合物層の形成工程 （Ｃ）レーザー光を使用して第一有機化合物層を副画素単位で部分的に除去する工程 （Ｄ）第一中間電極層の形成工程 （Ｅ）第二有機化合物層の形成工程 - 特許庁

A visible light sensitive resin film layer (A), a sheet layer (B) transparent to visible light, a visible light shielding layer (C) capable of forming a pattern with a developing solution and an energy beam sensitive film layer (D) are successively laminated on the surface of a substrate to obtain the objective pattern forming laminated film.例文帳に追加

基材表面に可視光線感光性樹脂被膜層（Ａ）、可視光線を透過するシート層（Ｂ）、現像液によりパターン形成可能な可視光線遮蔽層（Ｃ）、及び感エネルギー線被膜層（Ｄ）を順次積層してなることを特徴とするパターン形成用積層被膜。 - 特許庁