「D layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

The golf ball 1 is provided with an intermediate layer having Shore D hardness of 60 or less.例文帳に追加

ゴルフボール１は、ショアＤ硬度が６０以下である中間層を備えている。 - 特許庁

A via hole 6v which reaches the etching stopper film 6es is formed at the insulating layer 6 ((D)step).例文帳に追加

絶縁層６に、エッチングストッパ膜６ｅｓに達するビアホール６ｖが形成される（（Ｄ）工程）。 - 特許庁

(d) The first etching mask layer 12 is removed by wet etching processing.例文帳に追加

第１エッチングマスク層１２をウェットエッチング処理により除去する（ｄ）。 - 特許庁

The optical storage medium D has the substrate 1, having the hard coat layer 1H formed on the other surface thereof.例文帳に追加

光記録媒体Ｄは、一方の面にハードコート層１Ｈが形成された基板１を有する。 - 特許庁

Very small pressure water is supplied to the diffusion layer D from the water-guiding plate 40 to infiltrate it.例文帳に追加

拡散層Ｄには誘水プレート４０から微少圧の水を供給して浸透させる。 - 特許庁

Next, (c) the mask is removed, and (d) a sacrifice layer 20 having a distributed thickness is formed in the formed recess.例文帳に追加

次いで（ｃ）マスクを除去し、（ｄ）形成された凹部内に厚みが分布した犠牲層２０を形成する。 - 特許庁

A distance D between the liquid crystal layer 13 and the reflection plate 22 is 0.8 mm or less.例文帳に追加

液晶層１３と反射板２２との間の距離Ｄが、0.8ｍｍ以下である。 - 特許庁

An organic insulating film present in dicing regions D of the wiring layer 3 is eliminated.例文帳に追加

配線層３のダイシング領域Ｄ上に存在する有機絶縁膜を除去する。 - 特許庁

The lateral HEMT further includes a passivation layer, and a drift region including a lateral width w_d.例文帳に追加

横型ＨＥＭＴはさらに、パッシベーション層と、横幅ｗ_ｄを含むドリフト領域とを有する。 - 特許庁

In that case, a steel pipe 4 incapable of reaching the permeable layer D is inserted in part of the earth retaining wall A.例文帳に追加

その際、土留壁Ａの一部に透水層Ｄに達しない鋼管４を建て込む。 - 特許庁

The cover layer is soft and has Shore D hardness on the ball of less than about 58.例文帳に追加

カバー層は柔らかくボール上で約５８より小さいショアＤ硬度を有する。 - 特許庁

In this case, a steel pipe 4 not reaching the permeable layer D is built into a part of the earth retaining wall A.例文帳に追加

その際、土留壁Ａの一部に透水層Ｄに達しない鋼管４を建て込む。 - 特許庁

To simultaneously attain to the lowering of S/D diffused layer resis tance and the decrease in gate parasitic capacity.例文帳に追加

Ｓ／Ｄ拡散層抵抗の低減とゲート寄生容量の低減を動じ実現する。 - 特許庁

The hardness of the intermediate layer 6 measured by a Shore D hardness meter is 54 or less.例文帳に追加

中間層６の、ショアＤ型硬度計で測定された硬度は、５４以下である。 - 特許庁

Next, as illustrated in Fig.1(d), dry etching is carried out to the first insulating layer 103.例文帳に追加

次に、図１（ｄ）に示されるように、第１の絶縁層１０３のドライエッチングを行う。 - 特許庁

The hardness Hm of the intermediate layer 6 measured by a Shore D hardness meter is ≥55.例文帳に追加

ショアＤ型硬度計で測定された中間層６の硬度Ｈｍは、５５以上である。 - 特許庁

The layer 30 made of the fiber preferably satisfies a general expression (I) of (t/d)×a≤0.95.例文帳に追加

上記繊維より構成される層３０は、下記一般式（Ｉ）の関係を満たすことが好ましい。 - 特許庁

A liquid crystal layer is formed in between the alignment films of the first and second transparent substrates (step d).例文帳に追加

（ｄ）第１及び第２の透明基板の配向膜間に液晶層を形成する。 - 特許庁

The electroforming metal layer 18 is released (d) from the base die 20 together with the insert plate 19.例文帳に追加

この後、電着金属層１８をインサート板１９ごと母型２０から離型する（ｄ）。 - 特許庁

The drainage performance of the diffusion layer D is evaluated by a taken-away amount of the water due to pass by of the gas.例文帳に追加

通過による水の持ち去り量により、当該拡散層Ｄの排水性能を評価する。 - 特許庁

A reflective electrode 149 is formed on the second insulating layer in the reflection region D.例文帳に追加

反射部Ｄの第２絶縁層上に反射電極１４９が形成される。 - 特許庁

The Shore D hardness HD3 of the outer layer 22 is set 30-60.例文帳に追加

その一方で、外層２２のショアＤ硬度ＨＤ３は、３０〜６０に設定される。 - 特許庁

The insulating layer 8 is prepared so that the thickness D is 10 μm or less.例文帳に追加

絶縁層８は、その厚さＤが１０μｍ以内となるように設けられている。 - 特許庁

The lithographic printing plate precursor has a photosensitive layer including the followings (A) to (D) on a supporting body.例文帳に追加

支持体上に、下記（Ａ）〜（Ｄ）を含有する感光層を有する平版印刷版原版。 - 特許庁

In particular, a small-diameter wire in which the circumscribed circular diameter (D) of the insulation layer is 1 mm or shorter is preferably adopted as the insulation wire.例文帳に追加

特に、絶縁層の外接円径（Ｄ）が１ｍｍ以下の細径電線にすると良い。 - 特許庁

The thickness (d) of the first upper clad layer 107 is designed to be more than 220 nm and less than 450 nm.例文帳に追加

第１上部クラッド層１０７の厚さｄは、２２０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に設計されている。 - 特許庁

A distance d between a light-emitting point on a light-emitting layer and a light reflective electrode is represented by an expression (1).例文帳に追加

発光層における発光点と光反射性電極との間の距離ｄが下記式で示される。 - 特許庁

A thin layer of the liquid developer D is formed on the surface of a coating roller 404 of the coating device.例文帳に追加

塗布装置４０の塗布ローラ４０４の表面に、液体現像剤Ｄの薄層を形成する。 - 特許庁

A damage layer 16 with thickness (d) of ≤30 μm is formed on the rear surface 14.例文帳に追加

裏面１４には厚さｄが３０μｍ以下のダメージ層１６が形成されている。 - 特許庁

The grinding process removes a surface layer of the groove 4 with a thickness D of 1 mm or less.例文帳に追加

研削工程は、１ｍｍ以下の厚みＤで溝４の表層を除去する。 - 特許庁

An intensity ratio R (I_D/I_G) between D-band peak intensity I_D and G-band peak intensity I_G measured with Raman scattering spectral analysis is 1.3 or more in the conductive carbon layer or the conductive carbon particles.例文帳に追加

そして、前記導電性炭素層または導電性炭素粒子において、ラマン散乱分光分析より測定されたＤ−バンドピーク強度Ｉ_ＤとＧ−バンドピーク強度Ｉ_Ｇの強度比Ｒ（Ｉ_Ｄ／Ｉ_Ｇ）が１．３以上である。 - 特許庁

Then, the intensity ratio R (I_D/I_G) of D-band peak intensity (I_D) to G-band peak intensity (I_G) measured by Raman scattering spectral analysis of the conductive carbon layer is 1.3 or more.例文帳に追加

そして、導電性炭素層のラマン散乱分光分析により測定されたＤバンドピーク強度（Ｉ_Ｄ）とＧバンドピーク強度（Ｉ_Ｇ）との強度比Ｒ（Ｉ_Ｄ／Ｉ_Ｇ）が、１．３以上である。 - 特許庁

The recording layer 14 is composed principally of Sb_aTe_bGe_cMn_d, and 57≤a≤74, 2≤c≤10, 5≤d≤20, 74≤a+d≤81 and 2.9≤a/b≤4.7 are satisfied.例文帳に追加

記録層１４は主としてＳｂ_ａＴｅ_ｂＧｅ_ｃＭｎ_ｄを含んで構成され、５７≦ａ≦７４、２≦ｃ≦１０、５≦ｄ≦２０、７４≦ａ＋ｄ≦８１、且つ、２．９≦ａ／ｂ≦４．７を満たしている。 - 特許庁

An Al_z1Ga_1-z1N film, a GaN film, and a GaN layer 5 of the mirror satisfy d_a=λ/4n_a, d_g=λ/4n_g, and d_c=λm/2n_c (where (m) is a positive integer).例文帳に追加

該ミラーのＡｌ_ｚ１Ｇａ_１−ｚ１Ｎ膜、ＧａＮ膜およびＧａＮ層５において、ｄ_ａ＝λ／４ｎ_ａ、ｄ_ｇ＝λ／４ｎ_ｇ、およびｄ_ｃ＝λｍ／２ｎ_ｃ（ただし、ｍは正の整数）の関係が満たす。 - 特許庁

The recording layer 14 is mainly composed of Sb_aTe_bGe_cTb_d and satisfies 63≤a≤78, 2≤c≤10, 3≤d≤15, 75≤a+d≤82, and 3.3≤a/b≤4.9.例文帳に追加

記録層１４は主としてＳｂ_ａＴｅ_ｂＧｅ_ｃＴｂ_ｄを含んで構成され、６３≦ａ≦７８、２≦ｃ≦１０、３≦ｄ≦１５、７５≦ａ＋ｄ≦８２、且つ、３．３≦ａ／ｂ≦４．９を満たしている。 - 特許庁

The recording layer 14 is constituted essentially of Sb_aTe_bGe_cMn_d and 55≤a≤70, 4≤c≤10, 10≤d≤20, 2.8≤a/b≤3.5 and 3.0≤a/d≤6.0 are satisfied.例文帳に追加

記録層１４は主としてＳｂ_ａＴｅ_ｂＧｅ_ｃＭｎ_ｄを含んで構成され、５５≦ａ≦７０、４≦ｃ≦１０、１０≦ｄ≦２０、２．８≦ａ／ｂ≦３．５、且つ、３．０≦ａ／ｄ≦６．０を満たしている。 - 特許庁

This disk D has the same outside dimension as a usual CD-R or the like and has a lamination structure constituted of a substrate layer 101, a substrate layer 102, a thermosensitive layer 103, a reflecting layer 104, a protective layer 105 and a protective layer 106.例文帳に追加

このディスクＤ’は通常のＣＤ−Ｒ等と外形寸法は同一であり、基板層１０１、基板層１０２、感熱層１０３、反射層１０４、保護層１０５および保護層１０６の積層構造となっている。 - 特許庁

(1) The substrate layer (A) VST > the first intermediate layer (B) VST > the second intermediate layer (C) VST, and (2) the substrate layer (A) VST > the HS layer (D) VST > the second intermediate layer (C) VST.例文帳に追加

（１）基体層（Ａ）ＶＳＴ＞第一中間層（Ｂ）ＶＳＴ＞第二中間層（Ｃ）ＶＳＴ、（２）基体層（Ａ）ＶＳＴ＞ＨＳ層（Ｄ）ＶＳＴ＞第二中間層（Ｃ）ＶＳＴ。 - 特許庁

An intermediate layer comprising AldGa1-dN (0.30≤d≤1) having larger band gap energy than that of a barrier layer is formed on the well layer between the barrier layer and the well layer in the active layer of the quantum well structure.例文帳に追加

量子井戸構造の活性層の井戸層と障壁層の間に障壁層よりバンドギャップエネルギーの大きいＡｌdＧａ1-dＮ（０．３０≦ｄ≦１）からなる中間層をすべての井戸層の上に形成する。 - 特許庁

In the polarizing plate having a protective sheet A applied on both faces of a polarizer P, the protective sheet A comprises a noncrystalline thermoplastic polymer base layer B and an urethane adhesive layer C and a high water absorbing layer D on the base layer to form a B/C/D layer structure, and the high water absorbing layer D of the protective sheet A is adhered to the polarizer P.例文帳に追加

偏光子Ｐの両面に保護シートＡを積層してなる偏光板において、該保護シートＡが非晶性熱可塑性重合体からなるベース層Ｂの片面にウレタン系接着層Ｃと高吸水層ＤをＢ／Ｃ／Ｄの順に積層され、該保護シートＡの高吸水層Ｄと偏光子Ｐが接着した積層シートであることを特徴とする偏光板。 - 特許庁

The compound tape is provided with: a conductive metallic base material layer (A) with a thickness of 500 μm or less; a conductive joining material layer (D); and a heat-resistant resin layer (B) provided between the conductive joining material layer (D) and the conductive metallic base material layer (A).例文帳に追加

厚みが５００μｍ以下の導電性金属基材層（Ａ）と、導電性接合材層（Ｄ）と、導電性金属基材層（Ａ）と導電性接合材層（Ｄ）との間に設けられた耐熱性樹脂層（Ｂ）とを有することを特徴とする接合用複合テープ。 - 特許庁

In the two-layer film produced by successively laminating (a) a first film, (b) a photosensitive resin layer (spacer resin layer), (c) a transparent resin layer (overcoat resin layer) and (d) a second film, the surface smoothness of (a) the first film and (d) the second film is ≤0.01 μm in terms of Ra.例文帳に追加

（ａ）第1のフィルム（ｂ）感光性樹脂層(以下、スペーサ樹脂層)（ｃ）透明樹脂層(以下、オーバーコート樹脂層)及び（ｄ）第2のフィルムの順に積層された2層フィルムにおいて、（ａ）第1のフィルムと（ｄ）第2のフィルムの表面平滑性がRaで0.01μm以下であることを特徴とする2層フィルム。 - 特許庁

Let N1 is the refractive index of the hemispherical lens 5, r is the radius, N2 is the refractive index of the light coupling layer 1 (N2 is different from N1) and d is the thickness, then a distance D from the vertex of the hemispherical surface to the flat surface of the hemispherical lens 5 is D=r-d×N1/N2.例文帳に追加

半球状レンズ５の屈折率をＮ１、半径をｒとし、光結合層１の屈折率をＮ２（Ｎ２はＮ１とは異なる）、厚さをｄとすると、半球状レンズ５の半球面の頂部から平坦面までの距離Ｄが、Ｄ＝ｒ−ｄ×Ｎ１／Ｎ２である。 - 特許庁

In this member, preferably the structure is set so that when the depth (d) of the recessed groove is d (mm), and the thickness (t) of the thermoplastic elastomer layer 3 is t (mm), the relationship between (d) and (t) satisfies the expressions: 0.1≤d/t≤0.5 and t≥1.例文帳に追加

本部材において、前記の凹溝の深さをｄ（ｍｍ）とし、前記熱可塑性エラストマー層の厚さをｔ（ｍｍ）とするとき、ｄとｔの関係が式： ０．１≦ｄ／ｔ≦０．５ かつ ｔ≧１ の関係を満足するような構造に設定することが好ましい。 - 特許庁

When an optical disk D held at a holding table 25 passes a nip section, the optical disk D abuts on a rubber elastic layer 81b of a fixing roller 81 and while the fixing roller 81 rotates together with the optical disk D, the fixing roller fixes the toner image to the optical disk D by heat and pressure.例文帳に追加

保持テーブル２５に保持された光ディスクＤがニップ部を通過すると、光ディスクＤが定着ローラ８１のゴム弾性層８１ｂに当接し、定着ローラ８１は光ディスクＤに連れ回りしながら、熱と圧力とによってトナー像を光ディスクＤに定着させる。 - 特許庁