「First step」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

Knowing the capability we have is the first step in designing an effective capability-based strategy.例文帳に追加

自分たちのケイパビリティを知ることが、ケイパビリティベースドストラテジーを組み立てる一歩である。 - Weblio英語基本例文集

So, the first step is to perform a use case analysis and create Use Case diagrams.例文帳に追加

したがって、最初の手順は、ユースケース分析を行なって、ユースケース図を作成することです。 - NetBeans

First trial write is applied to 1st and 2nd trial write areas of an optical disk (step S1).例文帳に追加

まず、光ディスクの第１、第２の試し書き領域に試し書きを行う（ステップＳ１）。 - 特許庁

At the normal operation time, the first auxiliary wheel 41 is stored in a step stand 11.例文帳に追加

正常動作時には、第１の補助輪４１はステップ台１１内に収納されている。 - 特許庁

In this case, the first step includes a plurality of times of implantation of the ions with different implantation energy.例文帳に追加

ここで、第１の工程は、異なる注入エネルギでイオンを複数回注入する。 - 特許庁

There was a step above, and Wendy, you may be sure, was the first to recognize it. 例文帳に追加

上で足音がして、あなたも思った通り、ウェンディが最初にそれに気づきました。 - James Matthew Barrie『ピーターパンとウェンディ』

This worm reduction gear is constituted in such a way that it is provided with a second step gear configuration for meshing with a first step gear configuration including the worm wheel, and an axis position of the second step gear configuration is arranged on a motor side relative to a first step axis position to take out torque to the outside from an output shaft connected with the center of the second step gear configuration.例文帳に追加

このウォーム減速機は、ウォームホイールを含む一段目ギア構成に噛み合わせる二段目ギア構成を備え、かつ、該二段目ギア構成の軸位置を一段目軸位置に対してモータ側に配置して、この二段目ギア構成の中心に結合した出力軸から外部にトルクを取り出すように構成する。 - 特許庁

A user detection method includes: a photographing step for photographing an image with time; a detection step for detecting a user included in the image photographed in the photographing step with time, using first reference data; and a switching step for switching from the first reference data, used in the detection step, to second reference data.例文帳に追加

ユーザ検知方法は、経時的に画像を撮影する撮影ステップと、第１基準データを用いて、撮影ステップにおいて撮影される撮影画像に含まれるユーザを経時的に検知する検知ステップと、検知ステップにおいて用いられている第１基準データを第２基準データに切り換える切換ステップと、を含む。 - 特許庁

The manufacture method comprises a first step to obtain the intraocular lens base material by polymerizing a polymerizable monomer used for it, a second step to impregnate the intraocular lens base material obtained in the first step with a polymerizable monomer, and a third step to polymerize the monomer with which the base material has been impregnated in the second step.例文帳に追加

眼内レンズ基材の原料となる重合性モノマーを重合させ、眼内レンズ基材を得る第１ステップと、該第１ステップによって得られた前記基材に対し重合性モノマーを含浸させる第２ステップと、該第２ステップによって前記基材に含浸された前記重合性モノマーを重合する第３ステップと、を有する。 - 特許庁

That is, as the first stage, the system enters the operation off-state (step S103), and this state continues for time t1 (step S104).例文帳に追加

すなわち、第一段階として運転ＯＦＦ状態となり（ステップＳ１０３）、この状態がｔ１時間継続される（ステップＳ１０４）。 - 特許庁

The method for producing the single crystal substrate, which has the composite step-terrace structure comprising a first flat terrace, a first downward step, a second flat terrace and a second upward step having the height lower than that of the first downward step, comprises a step to etch an original single crystal substrate to form the composite step-terrace structure in a self-organizing manner.例文帳に追加

本発明は、平坦な第１のテラスと、下り方向の第１の段差と、平坦な第２のテラスと、前記第１の段差よりも高さの小さい上り方向の第２の段差からなる複合ステップテラス構造を有する単結晶基板の製造方法であって、単結晶基板に対してエッチングを行なうことで自己組織的に複合ステップテラス構造を有する単結晶基板の製造方法である。 - 特許庁

Further, it is set such that the increase ratio of the second step force becomes relatively larger than the increase ratio of the first-time step force.例文帳に追加

そして、初回の踏力の増加割合に比べ２回目の踏力の増加割合が相対的に大きくなるよう設定されている。 - 特許庁

Next, in the fourth step, a second insulating resin layer 5 is arranged covering the first insulating resin layer 4 arranged in the third step.例文帳に追加

次に、第４の工程では、第３の工程で覆設された第１絶縁樹脂層４上に第２絶縁樹脂層５が覆設される。 - 特許庁

Preferably, a second quantization step Q2(m) is not more than 1/2 of a first quantization step Q1(m), and more preferably, it is 7^-1/2 of the Q1(m).例文帳に追加

第２の量子化ステップQ2(m)は、第１の量子化ステップQ1(m)の1/2以下であることが好ましく、さらに好ましくは、Q1(m)の7^-1/2にする。 - 特許庁

The step (a) has a step wherein the resistance value of the first variable resistance and the resistance value of the second variable resistance increase/decrease at the same time.例文帳に追加

前記（ａ）段階は前記第１可変抵抗の抵抗値と前記第２抵抗の抵抗値とが同時に増減する段階を備える。 - 特許庁

The step-up means 405 raises the output voltage of the first power supply 401, up to the lower-limit voltage allowing the operation of the step-down means 407.例文帳に追加

昇圧手段４０５は、第１の電源４０１の出力電圧を降圧手段４０７の動作下限電圧まで昇圧する。 - 特許庁

The first correction value calculation step and the second correction value calculation step use results of reading reference patterns, and the reference sheet having the reference patterns formed thereon is preliminarily provided on the scanner so as to cover a read range of the first read step and that of the second read step, before the first correction value calculation step and the second correction value calculation step.例文帳に追加

そして、前記第１補正値算出ステップ及び前記第２補正値算出ステップは、基準パターンの読み取り結果を用いるものであり、前記第１補正値算出ステップ及び前記第２補正値算出ステップの前に、前記基準パターンの形成された基準シートが、前記第１読み取りステップの読み取り範囲及び前記第２読み取りステップの読み取り範囲をカバーするように前記スキャナに予め設けられる。 - 特許庁

Heating is performed at a temperature higher than a heating temperature at the first step to make the silicon crystal reach a quasi-thermal balance state (a second step).例文帳に追加

第１の工程の加熱温度より高い温度で加熟し、シリコン結晶を準熱平衡状態に至らしめる（第２の工程）。 - 特許庁

First, a MIMO channel matrix H is acquired (step S1) and before applying a repetitive lattice reduction method, pre-processing is performed (step S2).例文帳に追加

まず、ＭＩＭＯチャネル行列Ｈを取得し（ステップＳ１）、反復格子縮小方法を適用する前に前置処理を行う（ステップＳ２）。 - 特許庁

It is determined that the larger the detection value obtained in the second step compared to that in the first step, the worse the prognosis.例文帳に追加

第２の工程における検出値が第１の工程における検出値と比較して大きいほど、予後が不良と判断される。 - 特許庁

The delay circuit receives an input signal at a first step, and a delay signal delaying the input signal from each delay step is output.例文帳に追加

遅延回路は、入力信号を初段で受け、各遅延段から入力信号を遅延させた遅延信号をそれぞれ出力する。 - 特許庁

The brake control is first executed when the value of the next-step control prohibit time counter is over the next- step control prohibit time (S742:YES).例文帳に追加

そして、次段制御禁止時間カウンタ値が次段制御禁止時間以上となって初めて（Ｓ７４２：ＹＥＳ）、ブレーキ制御を実行する。 - 特許庁

If abnormality is discriminated (Y in a step S12), picture read operation executed by driving first and second running bodies is stopped (step S13).例文帳に追加

異常と判断された場合は（ステップＳ１２のＹ）、第１、第２走行体を駆動して行う画像読取動作を中止する（ステップＳ１３）。 - 特許庁

In a drying step, the drops arranged in the first drawing step are dried, and half-solid materials 6 in the dot-shaped state are formed on the substrate.例文帳に追加

乾燥ステップでは、第１描画ステップにて配置された液滴を乾燥し、基板上にドット状半固形物６を形成する。 - 特許庁

The first step and the second step are continuously performed within the same device 7 containing the bush and the reinforcement resin accumulation body therein.例文帳に追加

そして、第１のステップと第２のステップとを、ブッシュと補強繊維集積体を収容している同一装置７内で連続して行う。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor device includes a step of forming the interlayer insulating film 2 on a semiconductor substrate 1, and a step of then forming a first Cu diffusion barrier insulating film 3.例文帳に追加

半導体基板１上に層間絶縁膜２を形成した後、第１のＣｕ拡散バリア絶縁膜３を形成する。 - 特許庁

A main control unit 100 successively releases bonuses at a step S1020 when a first bonus is drawn in a chance zone at a step S1000.例文帳に追加

主制御部１００は、ステップＳ１０００のチャンスゾーンで第一ボーナスを引けば、ステップＳ１０２０でボーナスを放出して連チャンさせる。 - 特許庁

In the process of manufacturing a shift catalyst, first rutile-type titania and anatase-type titania area prepared (step S100) and mixed (step S110).例文帳に追加

シフト触媒を製造する際に、まず、ルチル型チタニアとアナターゼ型チタニアとを用意し（ステップＳ１００）、両者を混合する（ステップＳ１１０）。 - 特許庁

In this method, the dielectric thin film 41 is formed by performing a first coating film forming step and a second coating film forming step.例文帳に追加

この製造方法では、第１塗膜形成工程と第２塗膜形成工程とを行って誘電体薄膜４１を形成する。 - 特許庁

A scribe line S1 is formed on the surface of a first glass substrate 10 (step A1) and then a scribe line S2 is formed (step A2).例文帳に追加

第１のガラス基板１０の表面にスクライブラインＳ１を形成し（ステップＡ１）、その後にスクライブラインＳ２を形成する（ステップＡ２）する。 - 特許庁

The second step trimming groove 20B is formed deeper than the first step trimming groove 20A up to depth penetrating the trimming groove 19.例文帳に追加

第２段階のトリミング溝２０Ｂは、第1段階のトリミング溝２０Ａより深く、前記トリミング電極を貫通する深さに形成される。 - 特許庁

While the engine is running, first the stored piston projected amount hi is read (Step S10) and a next combustion cylinder is discriminated (Step S20).例文帳に追加

エンジンの運転時、まず格納した「ピストン突き出し量ｈｉ」を読み込み（ステップＳ１０）、次の燃焼気筒を判別（ステップＳ２０）する。 - 特許庁

The method includes the first step of forming the first emboss on the surface of the mold, and the second step of further forming the second emboss, which is finer than the first emboss on the surface of the mold on which the first emboss is formed.例文帳に追加

シボの形成方法は、前記金型の表面に第１のシボを形成する第１の工程と、前記第１のシボが形成された前記金型の表面に、前記第１のシボよりも細かい第２のシボをさらに形成する第２の工程とを包含する。 - 特許庁

In a first selecting step, level of reference is determined previously, then a partitioned element which is larger than the level of reference is selected from the partitioned elements which are altered in the first altering step by a first selecting unit 403.例文帳に追加

第１選択ステップでは、第１選択部４０３によって、基準の大きさを予め定め、第１改変ステップにて改変された区画要素のうちで、前記基準の大きさよりも大きい区画要素を選択する。 - 特許庁

Furthermore, the first step-fall-like releaving recessed part is formed at a portion near the top surface of the table 13 and the first cover member 17 is provided so as to make the top surface thereof smooth by easing the step of the first relieving recessed part.例文帳に追加

更に、テーブル１３の上面近傍部に段落ち状の第１逃し凹部を形成し、その第１逃し凹部の段落ちの段差を緩和して滑らかな上面にする第１カバー部材１７を設けた。 - 特許庁

The step transferring the first mask pattern includes a step transferring the first mask pattern portion to one part 49 of the pixel 16a being in a position at an overlap exposure area, in which the first and the second areas are laid over the other.例文帳に追加

第１のマスクパターンを転写する工程は、第１および第２領域が重なった重複露光領域に位置する画素１６ａ内の一部分４９に第１のマスクパターン部分を転写する工程を含む。 - 特許庁

That is, a first etching step employs an etching method in which the etching rate to at least a second film and a third film is high, and the first etching step is continued until at least a first film is exposed.例文帳に追加

すなわち、第１のエッチング工程には、少なくとも第２の膜及び第３の膜に対するエッチングレートが高いエッチング方法を採用し、第１のエッチング工程は少なくとも第１の膜を露出するまで行う。 - 特許庁

Here, the interlayer insulating film 2 formed on the first surface 1a of the semiconductor substrate 1 reflects a step between the bottom surface of the first hole 7 and the first surface 1a of the semiconductor substrate 1, resulting in a step shape.例文帳に追加

このとき、半導体基板１の第１面１ａに形成されている層間絶縁膜２は、第１孔７の底面と半導体基板１の第１面１ａとの段差を反映して段差形状になっている。 - 特許庁

A method of forming the sensor has a step of forming a first-type epitaxial layer 3 on a first-type semiconductor substrate 1, and a step of forming an embedded barrier layer 5 in the first-type epitaxial layer 3.例文帳に追加

このセンサを形成する方法は、第１型の半導体基板上に第１型のエピタキシャル層を形成する段階と前記第１型のエピタキシャル層内に埋没バリヤ層を形成する段階とを具備する。 - 特許庁

At this time, the interlayer insulating film 2 formed on the first surface 1a of the semiconductor substrate 1 is step shaped as a result of reflecting the shape of a step between the bottom surface of the first hole 7 and the first surface 1a of the semiconductor substrate 1.例文帳に追加

このとき、半導体基板１の第１面１ａに形成されている層間絶縁膜２は、第１孔７の底面と半導体基板１の第１面１ａとの段差を反映して段差形状になっている。 - 特許庁

First, thin parts 17 are formed on outer surface sides of tip parts of arm parts 13 via first step parts 16, and second thin parts 19 are formed behind the first thin parts 17 via second step parts 18.例文帳に追加

アーム部１３の外面側の後部に第１の段部１６を介して第１の薄肉部１７を形成し、第１の薄肉部１７の外面の後部に第２の段部１８を介して第２の薄肉部１９を形成する。 - 特許庁

A first dry process is implemented in a first step for a region A11 on a wafer W, and, in a second step, a second dry process different from the first dry process is implemented for a region A21.例文帳に追加

第１の工程においてウエハＷ上の領域Ａ１１に対して第１のドライプロセスを実施し、第２の工程において領域Ａ２１に対して第１のドライプロセスと異なる第２のドライプロセスを実施する。 - 特許庁

In the first boot step, the trustworthiness of at least the first check-up data is examined, wherein when the check-up shows that at least the first check-up data is trusted, the second check-up data related to at least the second boot step is examined.例文帳に追加

第１のブートステップでは、少なくとも第１のチェックアップデータの信頼性がチェックされ、信頼できることが証明されれば、少なくとも第２のブートステップに関連する第２のチェックアップデータがチェックされる。 - 特許庁

The authentication device 100 backs up the first program by executing the second program (step S305), and then stores a new first program that is the first program after updating in the own device (step S311).例文帳に追加

また、認証装置１００は、第２プログラムを実行することにより、第１プログラムのバックアップを作成させた上で（ステップＳ３０５）、更新後の第１プログラムである新第１プログラムを自装置に保存させる（ステップＳ３１１）。 - 特許庁

In a substrate, a step having a first upper surface S1, a second upper surface S2 having a height lower than that of the first upper surface S1, and a step lateral surface S3 intervening between the first upper surface and the second upper surface, is formed.例文帳に追加

第１上面Ｓ１と、第１上面Ｓ１よりも高さの低い第２上面Ｓ２と、第１上面と第２上面との間に存在する段差側面Ｓ３と、を有する段差が形成された基板。 - 特許庁