「First step」に関連した英語例文の一覧と使い方(141ページ目) - Weblio英語例文検索

The process of manufacturing a container package includes: a stopper unit 70 having the function of stopping a can 20; first supply device 41 to sixth supply device 46 for supplying cans 20 to the stopper unit 70; and a gripping unit 50 for gripping six cans 20 located on the stopper unit 70 and for conveying the six cans 20 to a packing step.例文帳に追加

容器梱包体の製造工程には、缶体２０を停止させる機能を有したストッパーユニット７０、このストッパーユニット７０に対して缶体２０を供給する第１供給装置４１〜第６供給装置４６、ストッパーユニット７０上に位置する６つの缶体２０を把持するとともにこの６つの缶体２０を梱包工程へ搬送する把持ユニット５０が設けられている。 - 特許庁

In the processing order determination step, indices to the limit range and the target range are calculated (S5); and the processing order in which fuel assemblies to be processed are arranged is determined both so that the first index can lie within the limit range, and the second index within the target range, while determining whether the indices lie within the limit range or the target range (S6).例文帳に追加

処理順序決定工程では、これらの制限範囲および目標範囲に対する指標を計算し（Ｓ５）、その指標が制限範囲内あるいは目標範囲内であるか否かを判定し（Ｓ６）ながら、第１の指標が制限範囲内であって第２の指標が目標範囲となるように処理対象燃料集合体を並べた処理順序を決定する。 - 特許庁

In the preparation step (S1), the limit range of a first index on the safety of a reprocessing device, including indices set to characteristic data on the fuel assemblies to be processed and the average value on some of them, arranged in the processing order among fuel assemblies to be processed and a target range of a second index to radioactive waste discharged from the reprocessing device are stored.例文帳に追加

準備工程（Ｓ１）では、処理対象燃料集合体の特性データと処理対象燃料集合体のうち処理順に並べられた一部についての平均値に対して設定されるものを含む再処理装置の安全に関する第１の指標の制限範囲と、再処理装置から排出される放射性廃棄物に対する第２の指標の目標範囲とを記憶する。 - 特許庁

The method for mounting components of a component mounting device which mounts the components on a board in a predetermined order mounts a component in a first predetermined position of the board with a suction nozzle or a mechanical chuck and corrects the component flotation by pushing in a second predetermined position of the mounted component with the suction nozzle or the mechanical chuck or a pushing-in member per component mounting step.例文帳に追加

所定の順番に部品を基板に装着する部品装着装置の部品実装方法において、部品を前記基板の所定の第１の位置に吸着ノズルまたはメカチャックで装着後、部品装着ステップ毎に該装着した部品の所定の第２の位置を前記吸着ノズル、前記メカチャック、または押込み部材で押込むようにして、部品の浮きを修正する。 - 特許庁

The method for generating immune response to prostate-specific antigen (PSA) comprises a step for introducing a sufficient amount of first pox virus vector into a host to stimulate the immune response, wherein the pox virus vector has at least one insertion site containing a DNA segment encoding PSA operably linked to a promoter expressible in the host.例文帳に追加

前立腺特異的抗原(PSA)に対する免疫応答を発生させるための方法であって、第１のポックスウイルスベクターの十分量を宿主に導入して免疫応答を刺激する工程を包含し、ここで該ポックスウイルスベクターが該宿主において発現し得るプロモーターに作動可能に連結されたPSAをコードするDNAセグメントを含む少なくとも１つの挿入部位を有する、方法。 - 特許庁

This method has the steps of: polishing a dummy wafer by the polishing cloth, while supplying a polishing agent including free abrasive grains; and measuring an absorbance and the number of particles of the used polishing agent which has been used and recovered in this polishing, and also has the first evaluation step of evaluating the state of the polishing cloth by use of the absorbance and the number of particles obtained by the measurement.例文帳に追加

遊離砥粒を含む研磨液を供給しながら、研磨布でダミーウェーハを研磨し、この研磨で使用し回収された使用済み研磨液の吸光度およびパーティクル個数を測定するステップと、前記測定により得られた吸光度およびパーティクル個数を用いて、前記研磨布の状態を評価する第一評価ステップとを具えることを特徴とする。 - 特許庁

The capacitor structure 20 includes a positive electrode 22 arranged at an upper part in the center hole 16a, a negative electrode 24 arranged at a lower part in the center hole 16a, a solid electrolyte plate 26 arranged on a step 16b of the center hole 16a, a first liquid chamber 28 filled with an aqueous electrolyte containing Li ions, and a second liquid chamber 30 filled with a non-aqueous electrolyte containing Li ions.例文帳に追加

キャパシタ構造２０は、中心孔１６ａの上部に配置された正極２２と、中心孔１６ａの下部に配置された負極２４と、中心孔１６ａの段差１６ｂに配置された固体電解質板２６と、Ｌｉイオンを含む水系電解液が充填された第１液室２８、Ｌｉイオンを含む非水系電解液が充填された第２液室３０とを備えている。 - 特許庁

According to this sensor element manufacturing method, since a pressurizing process is performed, after a punching arrangement process to arrange the solid electrolyte object 435 for a penetration hole 433 of the insulating member 405, step dimension between the solid electrolyte object 435 and the insulated member 405 in the boundary portion can be made smaller than thickness dimension of the electrodes (first electrode 404 and second electrode 406).例文帳に追加

本センサ素子製造方法によれば、絶縁部材４０５の貫通孔４３３に対して固体電解質体４３５を配置する打抜配置工程の後、加圧工程を実行することから、境界部分における固体電解質体４３５と絶縁部材４０５との段差寸法を電極（第１電極４０４および第２電極４０６）の厚さ寸法よりも小さくすることができる。 - 特許庁

To provide a weather strip for supporting the door glass of an automobile in which first and second weather strips supporting movable glass and fixed glass on a division channel of a rear door are joined by surface adhesion, they are supported at the lower end of a door chassis to eliminate the use of specific components, and the step difference between the components is eliminated to enhance appearance.例文帳に追加

後方ドアのディビジョンチャンネル上に可動ガラスと固定ガラスをそれぞれ支持する第１,２のウエザストリップが相互に面着によって接合されるとともに、これらをドアシャシの下端部上に支持するようにして、格別な部品の使用を排除するとともに、部材間の段差をなくして、外観美を向上させることができる自動車のドアガラス支持用ウエザストリップを提供する。 - 特許庁

This method includes a step where whether or not a video signal represents a selected type of image is detected at a first location, if the video signal does not represents a selected type of image, the video signal is received at a 2nd location separated from the 1st location, and an image from the video signal at the 2nd location is printed out.例文帳に追加

本方法は、第一の位置で、映像信号がある選択されたタイプの画像を表すかどうか検知し、もし上記映像信号が上記選択されたタイプの画像を表さないならば、上記映像信号を上記第一の第一の位置から隔離された第二の位置で受信し、上記第二の位置で上記映像信号からの画像を印刷する過程を含む。 - 特許庁

The layout designing method makes preparations (second to twelfth steps) for making wiring corrections for eliminating a redundant via wiring rule violation place by changing the direction of a cell if a redundant via wiring rule is violated during detailed wiring (first steps), and then making the wiring corrections by changing the direction of the cell (thirteenth to fifteenth steps) and performing route update (sixteenth step).例文帳に追加

詳細配線（第１工程）で冗長ビア配線ルール違反が発生した場合、セルの向きを変更して冗長ビア配線ルール違反箇所を解消する配線修正を行うための準備（第２工程〜第１２工程）を行い、その後、セルの向きを変更して配線修正を行い（第１３〜第１５工程）、経路更新を行う（第１６工程）工程を用意する。 - 特許庁

Using a semiconductor production system having a first processing apparatus 101 and a second processing apparatus 111 in a second step, processing direction of a wafer 115 in the processing apparatus 111 is controlled such that a thin film or a structure formed on the wafer has a uniform height in the wafer plane based on the measurement data of a wafer 105 processed by the processing apparatus 101.例文帳に追加

第１のプロセス装置１０１と、１つ以上後の第２のプロセス装置１１１とを有する半導体製造システムを用い、プロセス装置１０１で処理されたウエハ１０５の計測データを基に、ウエハ上に形成された薄膜膜厚もしくは構造体の高さがウエハ面内で均一になるように、プロセス装置１１１におけるウエハ１１５の処理方向を制御する。 - 特許庁

At this time, when fuel pressure to be monitored exceeds the first predetermined value and is below a second predetermined value at which assist injection by an injector for intake port injection is required in an engine operation condition, assist injection by the injector for intake port injection is performed together with forced fuel injection by the injector for injection in the cylinder (step S104).例文帳に追加

このとき、同監視する燃料圧力が上記所定の第１の値以上で、且つ、当該機関の運転状態において吸気ポート噴射用インジェクタによるアシスト噴射を必要とする所定の第２の値以下であるとき、筒内噴射用インジェクタによる燃料噴射の強制実行に併せて、吸気ポート噴射用インジェクタによるアシスト噴射を実行する（ステップＳ１０４）。 - 特許庁

When depositing the colossal magneto-resistive material thin film which has epitaxially grown after crystal orientation on a base electrode by sputtering using facing targets, a sputtering process having at least two steps are used, a deposition rate is relatively slowed down in the sputtering process in a first step, and the deposition rate is relatively accelerated in the sputtering process in later steps to form the thin film.例文帳に追加

対向ターゲットを用いたスパタッリングによって下地電極上の結晶方位に倣ってエピタキシャル成長した巨大磁気抵抗材料薄膜を成膜する際に、少なくとも２段階のスパッタリング工程を用い、第１段階のスパッタリング工程で成膜速度を相対的に遅くし、その後の段階のスパッタリング工程で成膜速度を相対的に速くして薄膜を形成する。 - 特許庁

A method for manufacturing the immunity-measuring reagent containing not more than 1 wt.%, in terms of the weight of casein (A), of casein (a) which is a fraction having a molecular weight more than 900,000 daltons includes a step of first heating a solution containing the casein (A) at 20-60°C and then of adsorbing and removing the casein (a).例文帳に追加

また、分子量が９０万ダルトンより大きな画分であるカゼイン（ａ）の含有量（重量％）がカゼイン（Ａ）の重量に基づいて１以下である（Ａ）を含有する免疫測定試薬を製造する方法であって、（Ａ）を含有する溶液を２０〜６０℃で加温処理した後、（ａ）を吸着除去する工程を含むことを特徴とする免疫測定試薬の製造方法を用いる。 - 特許庁

The gain of the second variable gain amplifier 33 is adjusted, and the step of stepwise gain control of the first variable gain amplifier 31 is switched with respect to the gain which exceeds the gain adjustment range of the second variable gain amplifier 33 in the gain control signal output circuit 34, so that a signal level in a fixed range can be input to the A/D converter 32.例文帳に追加

利得制御信号出力回路３４では、第２の可変利得増幅器３３のゲイン（利得）を調整する一方、第２の可変利得増幅器３３のゲイン調整範囲を超えるゲインに対しては、第１の可変利得増幅器３１の段階的利得制御のステップを切り替えることで、Ａ／Ｄ変換器３２には一定範囲内の信号レベルが入力される。 - 特許庁

An FFT circuit 100 comprises; a first FFT processing section 110 which performs (M-1) steps of FFT processing to two parallel 2^M-1 digital signals; a second FFT processing section 120 which performs (N-M+1) steps of FFT processing to 2^N digital signals; and a third FFT processing section 130 which performs one step of FFT processing to 2^Mdigital signals.例文帳に追加

ＦＦＴ回路１００は、２つの並列した２^Ｍ−１個のデジタル信号に対して（Ｍ−１）段のＦＦＴ処理を行う第１のＦＦＴ処理部１１０と、２^Ｎ個のデジタル信号に対して（Ｎ−Ｍ＋１）段のＦＦＴ処理を行う第２のＦＦＴ処理部１２０と、２^Ｍ個のデジタル信号に対して１段のＦＦＴ処理を行う第３のＦＦＴ処理部１３０とを有する。 - 特許庁

As the first step, we sent a notice that the FSA will conduct inspection based on the Banking Act on March 28 and the inspection will be conducted accordingly. That system problem occurred due to some cause or other and the Banking Act requires an appropriate investigation, so the inspection must be conducted as required. 例文帳に追加

今、まず28日に銀行法に基づき実施する旨の検査予告を行って、これから行きますから、きちんと因果関係といいますか、何か原因があってああいったシステム障害になっているわけです。その辺をきちん、きちんと調査することが当然銀行法上の精神でもございますから、その法の精神に基づいてやっていきたい、まずやっていくべきだというふうに思っております。 - 金融庁

The process for producing the aluminum nitride containing material includes a first heat treatment step where a catalyst element having a smaller free energy of formation of nitride than that of aluminum is positioned in molten aluminum heated in a nitrogen atmosphere to cause nitridation using the catalyst element as a catalyst and form a material containing aluminum nitride.例文帳に追加

本発明に係る窒化アルミニウム含有物の製造方法は、窒化物の生成自由エネルギーがアルミニウムより小さい元素である触媒元素を、窒素雰囲気下で加熱された溶融アルミニウム中に位置させることにより、触媒元素を触媒とした窒化反応を生じさせ、窒化アルミニウムを含有する窒化アルミニウム含有物を生成する第１熱処理工程を具備する。 - 特許庁

A manufacturing method of a semiconductor element formed by lamination so as to include an n-type semiconductor and a p-type semiconductor on a substrate 110 includes a step of forming a group III-V compound semiconductor film on the substrate 110 by sputtering at least two targets (a first target 21 and a second target 22) made of different group III elements with a gas containing a group V element.例文帳に追加

基板１１０上にｎ型半導体およびｐ型半導体を含むように積層して構成された半導体素子の製造方法であって、異なるＩＩＩ族元素による少なくとも２つのターゲット（第１ターゲット２１および第２ターゲット２２）を、Ｖ族元素を含むガスによりスパッタリングして、基板１１０上にＩＩＩ−Ｖ族の化合物半導体の膜を形成する工程を含む。 - 特許庁

In the first step polymerization, a vinyl monomer bearing a cycloalkyl group (a) and, when necessary, a vinyl monomer bearing no cycloalkyl group (b-A) are emulsion-polymerized in an aqueous system by using a polymeric peroxide as a polymerization initiator until the degradation rate of the peroxy bonds becomes in the range of from 20 to 80% to form a polymer bearing peroxy bonds in the molecular chains.例文帳に追加

一段目重合として、シクロアルキル基を有するビニル系単量体ａと、必要に応じてシクロアルキル基を有さないビニル系単量体ｂ−Ａとを、重合開始剤としてポリメリックペルオキシドを用いて、そのペルオキシ結合の分解率が２０〜８０％の範囲になるまで水系で乳化重合し、連鎖中にペルオキシ結合を有する重合体を生成する。 - 特許庁

The method for creating categorized documents generally comprises step for: initially assuming all documents as type 1 documents; filtering out all type 2 documents and placing them in a first category; filtering out all type 3 documents and placing them in a second category; and defining all remaining documents as type 4 documents and placing all type 4 documents in a third category.例文帳に追加

カテゴリー分けされた文書を作成する方法は、一般に、最初に全ての文書が形式１であると仮定し、全ての形式２文書をフィルタリングしてそれらを第１カテゴリーに入れ、全ての形式３文書をフィルタリングしてそれらを第２カテゴリーに入れ、そして残りの全ての文書を形式４文書として定義して全ての形式４文書を第３カテゴリーに入れる段階を含む。 - 特許庁

The method for photosetting stereo lithogrphy includes a step of first obtaining a starting point and an ending point of scanning in which a distance exceeding a scanning line photosetting region profile line is corrected by offsetting if the scanning line photosetting region for photosetting the photosetting resin liquid when drawing along the scanning line.例文帳に追加

本発明にかかる光硬化造形方法では、まず、走査線に沿って描画したときに前記光硬化性樹脂液を硬化させる走査線硬化領域が、輪郭線に沿って描画したときに前記光硬化性樹脂液を硬化させる輪郭線硬化領域を超える場合には、オフセット処理して走査線硬化領域輪郭線を超える距離を補正した走査の始点と終点を求める。 - 特許庁

The method for producing mannitol for direct compression, having >90% β modification content comprises, (a) in a first step, mixing an aqueous solution of D-mannitol as a starting raw material with a spraying gas and fine powder β-mannitol and a high-temperature gas, (b) precipitating the obtained fine powder product on a fluidized bed, absorbing, fluidizing and transporting the product.例文帳に追加

ａ）第１ステップにおいて、出発原料としてのＤ‐マンニトール水溶液、噴霧ガス、微粉状β−マンニトールおよび高温ガスを混合すること、ｂ）得られた微粉状生成物を、流動床に析出させ、吸収、流動化させてさらに移送することを特徴とする、β修飾含有率が９０％を超える直接圧縮用マンニトールの製造方法。 - 特許庁

An electroplating method includes each step of forming a seed region to be electroplated on a first portion of a substrate, forming a ground plane on a second portion of a substrate, electrically isolating the ground plane from the seed region, electroplating the region, wherein the electroplating includes causing the ground plane and the region to make electrical connection, and then removing the ground plane from the second portion of the substrate.例文帳に追加

電気めっき方法は、電気めっきされるシード領域を基板の第一の部位に形成し、グラウンド面がシード領域から電気的に分離されるように、基板の第二の部位にグラウンド面を形成し、シード領域に電気めっきを施し、電気めっきはグラウンド面と前記領域に電気接続を行わせることを含み、基板の第二の部位からグラウンド面を除去する、各工程を含む。 - 特許庁

A wiring condition changing section 42 sets second adjacent spacing conditions for eliminating the noise error, to the error net extracted in a noise analysis step, and gives the appropriate adjacent spacing conditions convergingly to the troubled net causing wiring delays and crosstalks, while giving first adjacent spacing conditions, to nets other than the error net, and carries out wiring processing again, based on the net list.例文帳に追加

配線条件変更部４２はノイズ解析ステップで抽出されたエラーネットに対しノイズエラーを解消する第２隣接スペーシング条件を設定配線遅延やクロストークを起す問題のあるネットに絞って遍切な隣接スペーシング条件を与えると共に、エラーネット以外のネットに第１隣接スペーシング条件を与え、ネットリストに基づいて再度配線処理を実行する。 - 特許庁

Until a meaningful data result is obtained or all transmission parameters in a selected set are applied, selected ones of transmission parameters in the first set and the second set are applied in order to decode a received data stream, and it is judged from a result of the decode step whether the channel is serving for communication between the plurality of nodes or serving for communication with the subscriber.例文帳に追加

意味のあるデータ結果が得られるか又は選択された組の伝送パラメータの総てが適用されるまで、第１組及び第２組の伝送パラメータの選択された１つの各伝送パラメータを順番に適用して受信データ・ストリームをデコードし、このデコード・ステップの結果からチャネルが複数のノード間で通信を行うものか又は加入者と通信を行うものかを判断する。 - 特許庁

The method for initialization of the mobile communications terminal comprises a step in which first information stored in the SIM card is compared with second information stored to storage equipment of the terminal; and if there is matching, the terminal is initialized by using fourth information, regarding the initialization of the terminal stored in the storage equipment of the terminal.例文帳に追加

移動通信端末機の初期化方法は、ＳＩＭカードに保存された第１情報と端末機の保存装置に既に保存された第２情報とが一致するか否かを確認した後、前記第１情報と前記第２情報とが一致すると、前記端末機の保存装置に保存された端末機の初期化に関する第４情報を利用して端末機を初期化する段階を含む。 - 特許庁

The substrates whose outer peripheral parts have curve angles of negative values are used as first and second substrates L1 nd L0 to be bonded to each other so that a space between substrates at outermost peripheral parts of the substrates is larger than the space between the substrates at inner peripheral parts of the substrates when surfaces to be bonded face each other in a bonding step.例文帳に追加

相互に貼り合わせるべき第１の基板Ｌ１、第２の基板Ｌ０として、基板外周部の反り角がマイナス値のものを使用し、接着するべき面同士を貼り合わせ工程において対向させたときに、基板最外周部における基板間の対向間隔が、基板内周部における基板間の対向間隔よりも大きい状態にして貼り合わせる。 - 特許庁

In a method to register a plurality of entities belonging to a specific optical network unit (ONU), a step at which an optical line terminal apparatus (OLT) confirms whether a registration request message received from a specific ONU belongs to a prescribed grant or not is registered and the entity is registered as either a first entity of the specific ONU or an additional entity based on the confirmed result.例文帳に追加

特定の光ネットワークユニット（ＯＮＵ）に属する複数のエンティティーを登録する方法において、特定のＯＮＵから受信した登録要求メッセージが所定のグラントに属するか否かを光ライン端局装置（ＯＬＴ）がチェックするステップと、このチェック結果に基づき、特定のＯＮＵの第１のエンティティーか又は付加的エンティティーかのいずれかとしてエンティティーを登録する。 - 特許庁

A second interlayer insulating film 107 is divided into a second interlayer insulating film A 107a having a fast wet etching rate, and a second interlayer insulating film B 107B having a usual wet etching rate to positively utilize transversal etching at an interface with a first interlayer insulating film 106 thereby avoiding formation of a wedge-shaped step difference at the interface of the interlayer insulating films and preventing disconnection of electrode wiring.例文帳に追加

第２層間絶縁膜１０７をウエットエッチングレートの早い第２層間絶縁膜Ａ１０７Ａと通常の第２層間絶縁膜Ｂ１０７Ｂに分けることにより、第１層間絶縁膜１０６との界面での横方向のエッチングを積極的に利用し、層間絶縁膜界面でのくさび状の段差ができないようにし電極の断線を防ぐ。 - 特許庁

The vacuum pump system for the laminating apparatus is configured in such a way that: a water seal type vacuum pump and an oil seal type vacuum pump are arranged as the vacuum pump for evacuating an upper chamber and a lower chamber, the evacuation step is divided into two stages, and the water seal type vacuum pump is used in the first stage and the oil seal type vacuum pump is used in the second stage.例文帳に追加

ラミネート装置用の真空ポンプシステムを、上チャンバと下チャンバを真空引きする真空ポンプとして水封式真空ポンプおよび油回転式ポンプを配置し、真空引きの工程を２段階に分け、一段目の真空引きにおいては水封式真空ポンプを使用し、二段目の真空引きの工程は油気回転式真空ポンプを使用する構成とした。 - 特許庁

In a first step, objects to be measured such as two zinc plating steel plates 1a, 1b respectively formed with the films on their surfaces are prepared, an elastic conductive material 10 is interposed between two zinc plating steel plates 1a, 1b as the objects to be measured, and a spacer 11 for regulating a gap between two zinc plating steel plates 1a, 1b is also interposed.例文帳に追加

第１のステップで、測定対象物、例えば表面に膜が形成された亜鉛めっき鋼板１ａ，１ｂを２枚用意して、これら２枚の亜鉛めっき鋼板１ａ，１ｂを測定対象物として２枚の亜鉛めっき鋼板１ａ，１ｂで伸縮可能な導電性材料１０を挟むとともに、２つの亜鉛めっき鋼板１ａ，１ｂの間隔を規制するスペーサ１１を挟む。 - 特許庁

An exposure system 100 with a plurality of units contains a planning means for planning a processing step in each lot, a coupling means for coupling the processing steps which have been planned by the planning means, and relate to a first and second lot to be successively processed, and a control means for controlling the plurality of units based on the processing steps coupled by the coupling means.例文帳に追加

複数のユニットを有する露光装置１００は、各ロットに関して処理工程を計画する計画手段と、前記計画手段により計画された、連続して処理されるべき第１及び第２のロットに関する処理工程を結合する結合手段と、前記結合手段により結合された処理工程に基づいて、前記複数のユニットを制御する制御手段とを有する。 - 特許庁

The method for manufacturing the surface-acoustic wave device comprises a first step of disposing a plurality of surface acoustic wave elements 20 on a mounting set substrate 40, so as to form a space between comb-like electrodes of the elements 20 and one surface of the substrate 40, and connecting the connecting electrodes of the elements 20 to conductor patterns of the substrate 40 by flip-chip bonding.例文帳に追加

第１の工程は、実装用集合基板４０上に、弾性表面波素子２０の櫛形電極と実装用集合基板４０の一方の面との間に空間が形成されるように複数の弾性表面波素子２０を配置し、フリップチップボンディングによって弾性表面波素子２０の接続電極と実装用集合基板４０の導体パターンを接続する。 - 特許庁

A two-step method of polymerizing a composition containing a free radical photoinitiator includes the sequential steps of exposing the composition to a first radiation source having a maximum spectral output occurring at a wavelength of longer than 300 nm and, thereafter, exposing the composition to a second radiation source having a maximum spectral output occurring at a wavelength of 200-280 nm.例文帳に追加

フリーラジカル光開始剤を含有する組成物を重合させる二段法が、３００ｎｍより大きい波長で起こる最大スペクトル出力を有する第１の放射線源に前記組成物を露光する工程と、その後、２００〜２８０ｎｍの波長で起こる最大スペクトル出力を有する第２の放射線源に前記組成物を露光する工程と、の順次の工程を含む。 - 特許庁

A controller 3 first dulls assist control of the controller 3 when determining that reference output voltage indicating an input nonexistence state of a position sensor 6 deviates from a normal input nonexistence state, and reduces output of an abnormality determining part 32 from assist output of an FB control part 31 by an adder 33 by setting a degrading mode (a step S13) of reducing the assist output.例文帳に追加

コントローラ３は、位置センサ６の入力なしの状態を示す基準出力電圧が、正常な入力無しの状態から逸脱していると判断すると、まずコントローラ３のアシスト制御を鈍くし、且つアシスト出力を下げるデグレードモード（ステップＳ１３）を設定し、FB制御部３１のアシスト出力から異常判断部３２の出力を加算器３３で減じるようにした。 - 特許庁

The controller for the motor for exclusive use performs the second control in a step of rotating the main shaft at a low speed, starts the third control during empty weaving operation at latest, and starts the first control during the period of the subsequent empty weaving operation at latest or till a determined period set during from the period after the start of the weaving operation to the completion of one cycle.例文帳に追加

専用モータ用制御器は、主軸を低速回転させる工程中に前記第２の制御を実行し、遅くとも空織り運転中には、前記第３の制御を開始するとともに、遅くともその後の空織り運転期間あるいは製織運転開始されてから１サイクル終了されるまでの間に定められる所定時期までに、前記第１の制御を開始する。 - 特許庁

The stilbene tetramer (the first compound) having dibenzobicyclo[3.2.1]octadiene structure is produced by dissolving a stilbene tetramer (the second compound) having dibenzobicyclo[3.2.0]octadiene structure in an aprotic polar solvent and performing a skeletal transformation step transforming the structure of the second compound in the presence of an acid catalyst comprising an acid having stronger acid strength than sulfuric acid.例文帳に追加

ジベンゾビシクロ［３．２．１］オクタジエン骨格を有するスチルベン４量体化合物（第１の化合物）は、ジベンゾビシクロ［５．３．０］オクタジエン骨格を有するスチルベン４量体化合物（第２の化合物）を非プロトン性極性溶媒に溶解し、硫酸よりも酸強度が強い酸よりなる酸触媒の存在下で、第２の化合物の骨格を変換する骨格変換工程を行うことにより製造される。 - 特許庁

This method for producing the conjugate comprises (a) incubating the first polypeptide in the presence of a heterobifunctional crosslinker comprising an N-hydroxysuccinimide ester group and maleimide group connected through a polyethylene oxide spacer and represented by formula (1), (b) removing the excessive heterobifunctional crosslinker and then (c) incubating the reactional product in the step (b) with the second polypeptide comprising at least one sulfhydryl group.例文帳に追加

(ａ) 上記第一のポリペプチドを、ポリエチレンオキシドスペーサーを介して連結した下記式（１）のＮ−ヒドロキシスクシンイミドエステル基及びマレイミド基からなるヘテロ二機能性クロスリンカーの存在下にインキュベートし、(ｂ) 過剰のヘテロ二機能性クロスリンカーを除去し、ついで(ｃ) 工程（ｂ）の反応生成物を少なくとも１個のスルフヒドリル基からなる上記第二のポリペプチドとインキュベートする。 - 特許庁

When Shinkuro ISE was thought to have been a mere masterless samurai, his actions were conveyed as the first step in a mastermind plan to succeed as the future Soun HOJO, but recent studies have almost confirmed that he was Moritoki ISE, a member of the distinguished Ise clan and a retainer of the Muromachi shogunate, and that he had in fact gone to Suruga Province to arbitrate the Imagawa family dispute in accordance with the wishes of the Muromachi shogunate. 例文帳に追加

伊勢新九郎が素浪人と考えられていた頃は、抜群の知略による後の北条早雲の出世の第一歩のように語られていたが、近年の研究で名門伊勢氏の一族の幕臣伊勢盛時であることがほぼ明らかになっており、これは室町幕府の意向を受けて伊勢盛時が駿河国へ下向して今川家の内紛を調停したようだ。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Preferably, before the start of the first step, a gas containing nitrogen and/or oxygen is supplied to the catalyst layer.例文帳に追加

第１工程：該固定床の触媒層に水蒸気を供給する工程 第２工程：第１工程の後に、水蒸気の供給に加えて、塩化水素を供給する工程 第３工程：第２工程の後に、水蒸気および塩化水素の供給に加えて、酸素を供給して反応を開始する工程 第１工程の開始前に触媒層へ窒素および／または酸素を含有するガスを供給することが好ましい。 - 特許庁

However, under the final rule, issuers that proceed to step three but are unable to identify the origin of their conflict minerals or whether their conflict minerals came from recycled or scrap sources are required to provide a Conflict Minerals Report, but that report does not have to be audited for the first four years following the rule’s adoption for smaller reporting companies.例文帳に追加

しかし、最終規則の下では、第3 ステップに進んだが紛争鉱物の原産国を特定できない、またはその紛争鉱物が再生利用品もしくはスクラップ起源であるかどうかを判断できない発行人は、紛争鉱物報告書の提出を求められるが、小規模な報告会社の場合、規則の採択から4 年間、この報告書の監査を受ける必要がない。 - 経済産業省

In an electrode forming step, in forming a p-type ohmic electrode composed of a metal film comprising a Pd film and a Ta film by successive lamination of the Pd film which is a first p-type ohmic electrode 10 and the Ta film which is a second p-type ohmic electrode 11 on a p-type GaN contact layer 7, the metal film is formed to include an oxygen atom.例文帳に追加

電極形成工程において、ｐ型ＧａＮコンタクト層７上に、第１ｐ型オーミック電極１０であるＰｄ膜および第２ｐ型オーミック電極１１であるＴａ膜を順次形成して、Ｐｄ膜およびＴａ膜から成る金属膜で構成されるｐ型オーミック電極を形成するとき、金属膜中に酸素原子が含まれるように金属膜を形成する。 - 特許庁

This manufacturing method contains a step in which the impurities are selectively introduced at a first concentration, into a region for nonvolatile memory cells 20R and a region for the electrostatic discharge damage countermeasure transistors 10R in the semiconductor substrate 1, and thereby the tunnel diffusion layer 24 is formed; and at the same time, a source region 11 and a drain region 12 of the electrostatic discharge damage action transistor are formed.例文帳に追加

この製造方法は、半導体基板１において不揮発性メモリセル用領域２０Ｒおよび静電破壊対策トランジスタ用領域１０Ｒに第１濃度で不純物を選択的に導入することによって、トンネル拡散層２４を形成し、同時に静電破壊対策トランジスタのソース領域１１およびドレイン領域１２を形成する工程を含む。 - 特許庁