「Interlayer」に関連した英語例文の一覧と使い方(37ページ目) - Weblio英語例文検索

A direct Si nitride film 109 is formed so as to cover the PMOS, and an interlayer insulating film of SiO2 is formed on the film 109.例文帳に追加

このＰＭＯＳを覆うように直接Ｓｉ窒化膜１０９、その上にＳｉＯ_２の層間絶縁膜を形成する。 - 特許庁

An etching-stop film 106a and a hard mask pattern are formed on the first interlayer insulating film and the contact plugs.例文帳に追加

第１の層間絶縁膜及びコンタクトプラグの上部にエッチング停止膜１０６ａ及びハードマスクパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a circuit wiring board having an interlayer via with specially high reliability, and to provide a method of manufacturing the circuit wiring board.例文帳に追加

特に高信頼性の層間導電ビアを有する回路配線基板及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

A texture structure can be obtained by dry etching of a second interlayer dielectric 19 using the residue 20b as the mask.例文帳に追加

この残渣２０ｂをマスクとして第２層間絶縁層１９をドライエッチングすることでテクスチャー構造を得ることができる。 - 特許庁

The element has an interlayer insulating film 6 between a pixel electrode 4 and a gate line 1, a source line 2 and a TFT 3.例文帳に追加

ゲート配線１、ソース配線２、およびＴＦＴ３と、画素電極４との間に、層間絶縁膜６を備えてなる。 - 特許庁

A manufacturing method of a wiring structure forms a nitride layer 111 by nitrifying an exposed surface of an interlayer insulating layer 102 of a wiring 105a.例文帳に追加

配線１０５ａの層間絶縁膜１０２における露出面を窒化することで、窒化層１１１を形成する。 - 特許庁

To provide a thin film transistor which does not cause an interlayer short circuit, disconnection, and the penetration of contaminants from the outside.例文帳に追加

層間ショート、断線、及び外部からの汚染物質の進入等を起こさない薄膜トランジスタ基板を提供する。 - 特許庁

To improve connection reliability between a conductor layer and an interlayer connection member without making manufacturing processes complicated.例文帳に追加

製造工程を複雑にすることなく導体層と層間接続部材との間の接続信頼性を向上させること。 - 特許庁

The mica is preferably a swellable mica containing at least sodium ions or lithium ions as interlayer cations.例文帳に追加

前記雲母が層間陽イオンとして少なくともナトリウムイオンあるいはリチウムイオンを含む膨潤性雲母であることが好ましい。 - 特許庁

The interlayer film between the pixel electrode layer and the common electrode layer is selectively removed so that an opening is formed.例文帳に追加

画素電極層と共通電極層との間の層間膜は選択的に除去されて開口が形成されている。 - 特許庁

The interlayer paper 2 is dropped into the magazine 3, and picked up by a recovery head 13 and recovered to a recovery section 7.例文帳に追加

層間紙２の場合はこれをマガジン３に落下させ、回収ヘッド１３でピックアップして回収部７に回収する。 - 特許庁

The interlayer compound is composed in such a manner that a functional organic compound is interposed between the layers in the reformed layer-like clay mineral.例文帳に追加

層間化合物は、改質層状粘土鉱物の層間に機能性有機化合物が介在して構成される。 - 特許庁

To eliminate a malfunction caused by cracks starting from an interlayer insulating film at the timing of bonding.例文帳に追加

ボンディングする際の層間絶縁膜を起点としたクラックの発生による不具合を解消することができるようにする。 - 特許庁

ETHYLENE-VINYL ACETATE COPOLYMER RESIN COMPOSITION, INTERLAYER FOR LAMINATED GLASS COMPRISING THE COMPOSITION, AND LAMINATED GLASS USING THE SAME例文帳に追加

エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂組成物、それからなる合わせガラス用中間膜及びそれを用いた合わせガラス - 特許庁

This interlayer connecting member 10 of a multilayer printed wiring board 30 includes a plurality of layers of circuit patterns and electrodes 28, 38.例文帳に追加

複数層の回路パターンや電極２８，３８を備えた多層プリント配線板３０の層間接続部材１０である。 - 特許庁

The interlayer 2 for a laminated glass includes a thermoplastic resin, a tungsten oxide particle, and an antioxidant.例文帳に追加

本発明に係る合わせガラス用中間膜２は、熱可塑性樹脂と、酸化タングステン粒子と、酸化防止剤とを含む。 - 特許庁

Therefore, short-circuit between the Cu wirings 24 formed on the third interlayer film 17 can be prevented.例文帳に追加

そのため、第３層間膜１７上に形成された複数のＣｕ配線２４間における短絡を防止することができる。 - 特許庁

A plurality of lines 11B for contact are formed in a fourth interlayer insulating film 10 on a semiconductor substrate 1.例文帳に追加

半導体基板１上の第４層間絶縁膜１０中に複数のコンタクト用配線１１Ｂが形成されている。 - 特許庁

The thin thickness area of the interlayer film 1 for the laminated glass has a higher water content ratio than that of the thick thickness area thereof.例文帳に追加

合わせガラス用中間膜１の厚みの薄い領域の含水率は、厚みの厚い領域の含水率よりも高い。 - 特許庁

Pixel separation barriers 21 formed on the upper side of the interlayer insulating film 11 are arranged between the pixels.例文帳に追加

層間絶縁膜１１の上側に形成され、それぞれの画素同士の間に配置された画素分離隔壁２１を備える。 - 特許庁

An etching stopping film pattern is formed at a part opposed to the photodiode on the first interlayer insulating structure.例文帳に追加

前記第１層間絶縁構造物上で前記フォトダイオードと対向する部位にエッチング阻止膜パターンを形成する。 - 特許庁

Thereby, the formation of contact holes and the dispersion structure having irregularity on a interlayer film surface are realized from one sheet of photomask.例文帳に追加

これにより一枚のフォトマスクでコンタクトホール形成と層間膜表面に凹凸を有する散乱構造とができる。 - 特許庁

A bonding pad 5 and the protective film 6 for protecting the pad 5 are formed on the interlayer insulating film 3 as an uppermost layer.例文帳に追加

最上層の層間絶縁膜３には、ボンディングパッド５及びそれを保護するための保護膜６が形成されている。 - 特許庁

A contact hole which reaches the insulating film and wiring is formed in this interlayer insulating film to form a pixel electrode.例文帳に追加

この層間絶縁膜に絶縁膜および配線に達するコンタクトホールを形成して、画素電極を形成している。 - 特許庁

Thereafter, the optical catalyst film 4 is removed, and an upper wiring 5 (including viaholes) is formed on the surface of the interlayer insulating layer 3.例文帳に追加

その後、光触媒４を除去し、層間絶縁層３表面に上部配線５（ビアホールを含む）を形成する。 - 特許庁

To provide a paper-made wall paper having high stiffness, excellent construction workability, strong interlayer strength and excellent printability.例文帳に追加

剛性が高く施工作業適性に優れ、層間強度が強く、印刷性に優れた紙製の壁紙を提供する。 - 特許庁

The signal wiring 50 is formed of an insulting film 64 and an aluminum wiring 51 formed on an interlayer insulating film 74.例文帳に追加

信号配線部５０は、絶縁膜６４および層間絶縁膜７４上に形成されたアルミニウム配線５１からなる。 - 特許庁

After having formed a lead electrode 3 on a semiconductor substrate, an interlayer dielectric 5 is deposited on the substrate and planarized.例文帳に追加

半導体基板の上に、引き出し電極３を形成した後、基板上に層間絶縁膜５を堆積し、平坦化する。 - 特許庁

To reduce occupied area of capacitance created between a gate electrode and a capacitance electrode facing each other across an interlayer insulation film.例文帳に追加

層間絶縁膜を挟んでゲート電極と容量電極が対向してできる容量の占有面積を小さくする。 - 特許庁

A memory layer 17 and an upper electrode 18 are formed on a lower electrode 14 and an interlayer insulating film 15.例文帳に追加

下部電極１４および層間絶縁膜１５上に記憶層１７および上部電極１８が形成されている。 - 特許庁

In the formation of the liner layer 12, uniformly excepting element isolation film 11, the interlayer insulating film 13 is formed thereon.例文帳に追加

ライナー層１２の形成に関し、素子分離膜１１上は一様に除いて、その上に層間絶縁膜１３を形成する。 - 特許庁

INTERLAYER CONNECTION STRUCTURE OF MULTILAYER INTERCONNECTION BOARD, MANUFACTURING METHOD AND LAND SECTION FORMATION METHOD OF FLEXIBLE PRINTED CIRCUIT BOARD例文帳に追加

多層配線基板の層間接続構造及びフレキシブルプリント基板の製造方法並びにこの基板のランド部形成方法 - 特許庁

To provide a semiconductor device (comprising an interlayer insulating film) having a sufficiently low dielectric constant and high mechanical strength.例文帳に追加

十分に誘電率が低くかつ機械的強度の高い（層間絶縁膜を備えた）半導体装置を提供する。 - 特許庁

Then the interlayer insulating film 14 on the common potential line COM is selectively etched to form a contact hole CH3.例文帳に追加

次に、共通電位線ＣＯＭ上の層間絶縁膜１４を選択的にエッチングしてコンタクトホールＣＨ３を形成する。 - 特許庁

The semiconductor device 1 includes the semiconductor substrate 2 and the interlayer dielectric 8 formed on the semiconductor substrate 2.例文帳に追加

半導体装置１は、半導体基板２と、半導体基板２上に形成された層間絶縁膜８とを備えている。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which has an interlayer film structure of low permittivity and where very accurate damascene wiring can be formed.例文帳に追加

高精度なダマシン配線形成が可能で低誘電率の層間膜構造を有する半導体装置を提供する。 - 特許庁

Interlayer insulating films 330, 430, and 530 of silicon dioxide are formed by covering polycide gates 315, 335, 415, and 435.例文帳に追加

ポリサイドゲート３１５，３３５，４１５，４３５を覆って二酸化珪素による層間絶縁膜３３０，４３０，５３０を形成する。 - 特許庁

To provide a flexible multilayer circuit board which can prevent migration of ion which might occur in an interlayer insulating layer.例文帳に追加

層間の絶縁層に発生する虞のあるイオンマイグレ−ションを防止可能な可撓性多層回路基板を提供する。 - 特許庁

The interlayer insulation film 6 having low permittivity is formed over the base substrate 1 so as to fill spaces between the interconnection 5b.例文帳に追加

配線５ｂ間を埋め込む状態で下地基板１の上方に低誘電率の層間絶縁膜６を形成する。 - 特許庁

A polyurethane exclusive for glass such as Hercules Resin M141 is injected into each interlayer of the laminated body to form an intermediate film.例文帳に追加

積層体のそれぞれの層間には、HERCULES RESIN MI41などのガラス専用のポリウレタン樹脂が注入され、これが中間膜となる。 - 特許庁

A slurry solution containing a functional material (62a) comprising palladium and aluminum oxide is applied to the surface of the interlayer (61).例文帳に追加

中間層（61）の表面には、パラジウム及び酸化アルミニウムから成る機能性材料（62a）を含むスラリー液が塗布される。 - 特許庁

To obtain an insulating film useful for an interlayer dielectric of a semiconductor device, and having a low dielectric constant and strong mechanical strength.例文帳に追加

半導体装置の層間絶縁膜などに有用な誘電率が低く、かつ機械的強度が高い絶縁膜を得る。 - 特許庁

Metal wiring 13 containing aluminum is first formed on a semiconductor substrate 11 with an interlayer insulating film 12 disposed therebetween.例文帳に追加

まず、半導体基板１１上に層間絶縁膜１２を介在させて、アルミニウムを含む金属配線１３を形成する。 - 特許庁

A photodiode 103 is formed on the interlayer insulating film 104 side of the p-type semiconductor layer 102 for each pixel.例文帳に追加

Ｐ型半導体層１０２の層間絶縁膜１０４側にはフォトダイオード１０３が画素毎に形成されている。 - 特許庁

A first laminate LB1 comprises first interlayer insulating films ID1a-ID1d having first mechanical strength.例文帳に追加

第１の積層体ＬＢ１は第１の機械的強度を有する第１の層間絶縁膜ＩＤ１ａ〜ＩＤ１ｄを含む。 - 特許庁