「Lift-Off Method」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a manufacturing method capable of forming a structure consisting of an optical multilayer film more precisely by using the lift-off method.例文帳に追加

リフトオフを用いて、光学多層膜からなる構造体をさらに精度良く形成する製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method suitable for forming the electrode of a compound semiconductor using lift-off method.例文帳に追加

化合物半導体の電極をリフトオフ法を用いて形成する場合に、電極形成に適した方法を提供すること。 - 特許庁

Since the thin electrode film thickness is good, the lift-off method is adopted for the processing method for the interdigital electrode.例文帳に追加

電極膜厚が薄くて良いので、すだれ状電極の加工方法としてリフトオフ法を使用することができる。 - 特許庁

Thereafter, the resist film 7 is peeled off to obtain a laminated pattern of the conductor and dielectric thin films 4 and 5 by a lift-off method.例文帳に追加

この後、レジスト膜７を剥離させることにより、リフトオフ法で導体薄膜４，６と誘電体薄膜５との積層パターンを得る。 - 特許庁

In the method for forming a pattern 16 on the pattern formation region of the base 11 by a lift-off method, a dummy pattern 116 is formed by a lift-off method also on the pattern non-formation region of the base except the pattern formation region.例文帳に追加

基体１１のパターン形成領域上にリフトオフ法にてパターン１６を形成する本発明の方法は、パターン形成領域以外の基体のパターン非形成領域上にも、リフトオフ法にてダミーパターン１１６を形成する。 - 特許庁

The method for manufacturing the thin film magnetic head has a stage for film-depositing a material 13 lifted-off by a resist pattern 12 for lift-off and a stage for successively deforming the resist pattern 12 for lift-off by heat treatment to give stress to the film 13 of the material lifted-off.例文帳に追加

リフトオフ用レジストパターン１２にリフトオフされる材料１３を成膜する工程と、その後熱処理によりリフトオフ用レジストパターン１２を変形させてリフトオフされる材料の膜１３にストレスを与える工程とを有して薄膜磁気ヘッドを製造する。 - 特許庁

In the liquid crystal display device and a method for manufacturing the same, the lift-off defects are minimized by forming a protective layer pattern using a sputtering method at the time of the lift-off process which is the core process of the 3 mask process.例文帳に追加

本発明は液晶表示装置及びその製造方法に係り、３マスク工程の核心工程であるリフトオフ工程時スパターリング法を利用して保護膜パターンを形成することによってリフトオフ不良を最小化する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor light-emitting device in which a substrate and a semiconductor layer can be excellently separated by a laser lift-off method.例文帳に追加

レーザーリフトオフ法による基板と半導体層との分離を良好に行える半導体発光装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The resist pattern 50 thus formed is used to form the comb-like pattern of the surface acoustic wave device by a lift-off method.例文帳に追加

また、形成されたレジストパターン５０を用い、リフトオフ法により弾性表面波装置の櫛歯状パターンが形成される。 - 特許庁

Then, the pattern-formed group III nitride lift-off layer 31a is selectively removed by an etchant to the insulation film 39, and an insulation film 39b including an opening 39c is formed by a lift-off method.例文帳に追加

引き続き、パターン形成されたIII族窒化物リフトオフ層３１ａを絶縁膜３９に対してエッチャントを用いて選択的に除去して、リフトオフ法により、開口３９ｃを有する絶縁膜３９ｂを形成する。 - 特許庁

To provide a method which does not invite decline in the operability and yield, at the time of forming a metal pattern on a semiconductor substrate by a lift-off method.例文帳に追加

リフトオフ法によって半導体基板上に金属パターンを形成する際、作業性や歩留まりの低下を招かない方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method or the like of forming a pattern by which the pattern is formed without using a resist as an etching mask and without using a lift-off method.例文帳に追加

レジストをエッチングマスクとして用いず、またリフトオフ法を用いることなくパターン形成が可能となるパターンの形成方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a method, of forming an interconnection, in which a fine thin-film interconnection with a small contact resistance can be formed surely on a thick-film interconnection by a lift-off method.例文帳に追加

厚膜配線上に、リフトオフ法により、接触抵抗の小さい、微細な薄膜配線を確実に形成することを可能ならしめる。 - 特許庁

To prevent damage to a nitride group III-V compound semiconductor layer on a substrate when releasing the substrate by a laser lift-off method.例文帳に追加

レーザリフトオフ法にて基板を剥離する際に、基板上の窒化物系III−Ｖ族化合物半導体層の損傷を防止する。 - 特許庁

A gate electrode 52 and an ohmic electrode 54 are then formed on the upper surface 21 of the heterostructure layer 20 using lift-off method.例文帳に追加

次に、リフトオフ法を用いて、へテロ構造層２０の上側表面２１上に、ゲート電極５２、オーミック電極５４を形成する。 - 特許庁

Then, the circuit pattern is formed by the lift-off method (S2) before hydrogen peroxide water is used for removing the film 2 for resist application (S3).例文帳に追加

そして、リフトオフ法により回路パターンを形成した後（Ｓ２）、過酸化水素水を用いてレジスト塗布用膜２を除去する（Ｓ３）。 - 特許庁

By the lift-off method using the resist pattern RP4a, the source and drain electrodes aligned with the gate electrode GE2 are formed.例文帳に追加

このレジストパターンＲＰ４ａを用いたリフトオフ法により、ゲート電極ＧＥ２に整合したソース・ドレイン電極を形成する。 - 特許庁

To provide an eddy current examining method of high defect detecting performance affected hardly by fluctuation of lift-off and a noise magnetic flux.例文帳に追加

リフトオフの変動や雑音磁束の影響を受けにくく、欠陥検出性能の高い渦流探傷方法を提供する。 - 特許庁

To provide a stable manufacturing method by which a portion between resists or a portion between the resist and a lift-off material are prevented from being mixed so as not to deteriorate dimensional accuracy and pattern accuracy, and are dissolved easily in an organic solvent at the lift-off.例文帳に追加

レジスト間あるいはレジストとリフトオフ材料間が混ざり合って寸法精度やパターン精度が劣化することを防止すると共に、リフトオフ時に容易に有機溶剤に溶解し、安定した製造方法を提供する。 - 特許庁

A method for designing or producing a coffee container system includes the step of constructing a sample of a coffee container system, where the container system includes a main container, a lift-off top, and a seal mechanism for the opening between the lift-off top and the container.例文帳に追加

コーヒー容器システムを設計し、または製造する方法は、コーヒー容器システムのサンプルを組み立てるステップを含み、この容器システムは、主容器と、リフトオフトップと、リフトオフトップと容器との間の開口のためのシール機構とを含む。 - 特許庁

RESIST PATTERN USED FOR BUMP FORMATION BY DEPOSITION LIFT-OFF AND FORMATION METHOD THEREOF, BUMP AND FORMATION METHOD THEREOF AND ELASTIC SURFACE WAVE ELEMENT AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加

蒸着リフトオフによるバンプ形成に用いるレジストパターンおよびその形成方法、バンプおよびその形成方法、ならびに弾性表面波素子およびその製造方法 - 特許庁

To provide a method for forming a mask including a pattern forming process by lift-off, the method by which a film is accurately patterned while the occurrence of damage to a resist is suppressed.例文帳に追加

リフトオフによるパターンの形成工程を含むマスクの形成方法に関し、膜を精度良くパターニングし、しかもレジストのダメージ発生を抑制すること。 - 特許庁

METHOD OF EVALUATING LIFT-OFF AMOUNT BETWEEN EDDY CURRENT FLAW DETECTING PROBE AND INSPECTED OBJECT, AND EVALUATION DEVICE THEREFOR, EDDY CURRENT FLAW DETECTION METHOD, AND EDDY CURRENT FLAW DETECTOR例文帳に追加

渦電流探傷プローブと被検査体のリフトオフ量評価方法及びその評価装置並びに渦電流探傷方法及び渦電流探傷装置 - 特許庁

The method further comprises the steps of then etching the protective film (step S14), forming a metal thin film (step S16), and forming an electrode layer by using a lift-off method (step S18).例文帳に追加

その後、保護膜のエッチング（工程Ｓ１４）と金属薄膜の形成とを（工程Ｓ１６）行ない、リフトオフ法を用いて電極層（工程Ｓ１８）を形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a printed circuit board incorporating a capacitor having a dielectric thin film using a laser lift-off and a capacitor manufactured by this method.例文帳に追加

レーザリフトオフを用いた誘電体薄膜を有するキャパシタが内蔵された印刷回路基板の製造方法及びこれから製造されたキャパシタを提供する。 - 特許庁

To provide a magnetic leakage method of flow detection which can detect internal flaws with excellent S/N even when the lift-off is fluctuated during the measurement.例文帳に追加

測定中にリフトオフが変動しても、内部欠陥をＳ／Ｎよく検出することのできる漏洩磁束探傷法を提供する。 - 特許庁

METHOD OF FORMING READ SENSOR USING PHOTORESIST STRUCTURES WITHOUT UNDERCUT WHICH ARE REMOVED BY USING CHEMICAL-MCCHANICAL POLISHING (CMP) LIFT-OFF PROCESSES例文帳に追加

化学的機械研磨（ＣＭＰ）リフトオフ・プロセスにより除去されるアンダカットの無いフォトレジスト構造物を用いた読み取りセンサ形成方法 - 特許庁

Metallic films 6 of Cr, etc., are deposited by vacuum vapor deposition and the metallic film patterns are formed by a lift-off method using a resist stripper (c).例文帳に追加

Ｃｒなどの金属膜６を真空蒸着で成膜し、レジスト剥離液によるリフトオフ法で金属膜パターンを形成する（ｃ）。 - 特許庁

To provide a lift off method and device capable of uniformly processing the lift off of all the surface of a large diameter wafer, requiring a few quantity of a parting liquid and a displacement liquid, causing no reattachment of an exfoliated metal film, and efficiently processing even a cracked wafer.例文帳に追加

大口径のウエーハでも全面を均一にリフトオフ処理でき、剥離液や置換液の量も少なく、剥離したメタル膜の再付着もなく、割れたウエーハでも効率よく処理できるようにしたリフトオフ方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To accurately and surely detect a coagulation position of a cast piece manufactured by a continuous casting device as a target, without setting a lift-off amount according to a contact method and further without being affected by variation in lift-off amount.例文帳に追加

連続鋳造装置で製造される鋳片を対象として、リフトオフ量の設定を接触方式では行わず、そのうえで、リフトオフ量の変動に影響されることなく鋳片の凝固位置を正確且つ確実に検出できるようにする。 - 特許庁

To provide a light-emitting element that can restrain damage in the lift-off of a sapphire substrate and has improved productivity, and to provide a manufacturing method of the light-emitting element.例文帳に追加

サファイア基板のリフトオフにおけるダメージを抑えることができ、生産性に優れる発光素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

Then, a third film is formed to cover the patterned second film and the releasable film, and the third film is subjected to patterning by a lift-off method.例文帳に追加

次に、パターニング後の第２の膜および剥離膜を覆うように第３の膜が形成され、リフトオフ法によって第３の膜がパターニングされる。 - 特許庁

Subsequently, a fine surface electrode 7a is formed by lift-off method to cover the conductive protective film 3a.例文帳に追加

導電保護膜３ａ、裏面電極４を、スルーホール２の端面を覆うように、それぞれ絶縁体基板１の一方主面、他方主面に形成する。 - 特許庁

To perform vapor deposition for as large a substrate as possible to form an electrode by a lift-off method without increasing the sizes of a deposition system.例文帳に追加

リフトオフ法による電極形成のための蒸着を蒸着装置を大型化せずになるべく大きい基板が処理出来るようにする。 - 特許庁

To provide a pattern forming method, along with a semiconductor device manufacturing method, capable of preventing a lift-off layer from being peeled from the ground without sacrificing the performance of the ground.例文帳に追加

下地の性能を犠牲にすることなく、リフトオフ層が下地から剥離することを防止できるパターン形成方法、及び半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To form the gate, source and drain electrodes of a compound semiconductor device without causing any of pattern defects by using a simple method and not using a lift-off method.例文帳に追加

リフトオフ法を用いずに、簡易な手法で化合物半導体装置のゲート電極、ソース電極、及びドレイン電極を各種パターンに欠陥を生ぜしめることなく形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a SAW device with which the manufacture cost is reduced through the use of the lift-off method and interdigital electrodes which have a comparatively large mass can be formed.例文帳に追加

ＳＡＷデバイスを製造する場合、比較的質量の大きいすだれ状電極は電極膜厚が厚くなるため、リフトオフ法で加工することができない。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing metallic wires or metallic electrodes in which the generation of sidewall attachments (burrs) to be generated by a lift-off method adopting dipping in a peeling solution is suppressed in the case of forming the metallic wires or the metallic electrodes in a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイスにおいて、金属配線や金属電極を形成する際、剥離液の浸漬によるリフトオフ工法では、側壁付着物(バリ)が発生する。 - 特許庁

To provide a wiring harness that can be wired to a target to which the wiring harness is wired without lift of a portion of an off-set, and a method for forming a wiring harness, the method enabling easy forming of an off-set portion of the wiring harness.例文帳に追加

オフセット部分での浮き上がりなく被配索側へ配索することができるワイヤハーネス及びワイヤハーネスのオフセット部分を容易に形成することが可能なワイヤハーネスのオフセット形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an eddy current flaw detection method capable of accurately evaluating a lift off amount even when a curved surface is inspected by using a flexible probe.例文帳に追加

フレキシブルなプローブを用いて、曲面の検査をする場合でも、リフトオフ量を精度良く評価できる渦電流探傷方法を提供することにある。 - 特許庁

To make it possible to pattern a film with good accuracy while suppressing the occurrence of damages of a resist in a method for forming a mask including a pattern forming process by lift-off.例文帳に追加

リフトオフによるパターンの形成工程を含むマスクの形成方法に関し、膜を精度良くパターニングし、しかもレジストのダメージ発生を抑制すること。 - 特許庁

A metallic thin film 6 for electrode is deposited on the resist pattern 5 formed by the transfer and the thin film 6 is exfoliated together with the resist film 2 by a lift-off method.例文帳に追加

転写によって形成されたレジストパターン５上に電極用金属薄膜６を成膜し、リフトオフ法によってレジスト膜２と共に剥離する。 - 特許庁

To provide a thin-film transistor (TFT) substrate for a display element with which processes can be simplified by utilizing a lift-off process and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

リフトオフ工程を利用することによって、工程を単純化することができる表示素子用薄膜トランジスタ基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The Ni films 5, the Pt films 6 and the Au films 7 formed on the photo-resists 4 are removed together with the photo-resists 3 and 4 by a lift-off method.例文帳に追加

その後、リフトオフ法によりフォトレジスト４上に形成されたＮｉ膜５、Ｐｔ膜６およびＡｕ膜７をフォトレジスト３，４とともに取り除く。 - 特許庁

An HEMT 100 is made by epitaxially growing it on a sapphire substrate, adhering it to a silicon substrate and removing the sapphire substrate by the laser lift-off method.例文帳に追加

ＨＥＭＴ１００は、サファイア基板にエピタキシャル成長させた後、シリコン基板を貼り付けてレーザーリフトオフ法でサファイア基板を除去すると得られる。 - 特許庁