「PLASMA GENERATING DEVICE」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a microwave introduction tool in which effect of plasma density is suppressed and in which a microwave absorption rate (power absorption rate) does not decrease even if the length of the introduction tool is shortened, provide a plasma generating device equipped with this, and a plasma treatment device equipped with this.例文帳に追加

プラズマ密度の影響を抑えかつ導入器の長さを短くしてもマイクロ波吸収率（パワー吸収率）が低下しないマイクロ波導入器、これを備えたプラズマ発生装置及びこれを備えたプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

To heighten a degree of vacuum and cleanliness in a plasma generating chamber by a simple structure, in a LPP type EUV light source device.例文帳に追加

ＬＰＰ型ＥＵＶ光源装置において、簡単な構成によりプラズマ発生室内の真空度や清浄度を高める。 - 特許庁

To increase a degree of vacuum and cleanliness in a plasma generating chamber by a simple structure in a LPP type EUV light source device.例文帳に追加

ＬＰＰ型ＥＵＶ光源装置において、簡単な構成によりプラズマ発生室内の真空度や清浄度を高める。 - 特許庁

To provide a transparent electrode forming method and a forming device of a plasma display panel without generating luminescence unevenness on a display image.例文帳に追加

表示画像に発光むらが発生しないプラズマディスプレイパネルの透明電極形成方法及び形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a device and a method for generating microplasma, whereby plasma is generated in a minute region and can be irradiated to required spots.例文帳に追加

微小領域でプラズマを生成し必要な箇所にプラズマを照射できるマイクロプラズマ生成装置および方法を提供する。 - 特許庁

To provide a laser plasma X-ray source device capable of generating an X-ray having a wave length necessary for an LIGA process.例文帳に追加

ＬＩＧＡプロセスに必要な波長のＸ線を発生させることができるレーザープラズマＸ線源装置を提供する。 - 特許庁

PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD, GAS GENERATING DEVICE AND METHOD, AND FLUORINE-CONTAINED POLYMER WASTE DISPOSAL METHOD例文帳に追加

プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法、ガス発生装置及びガス発生方法、並びに、フッ素含有高分子廃棄物処理方法 - 特許庁

The surface plasma generating device is installed in a cylinder which leads an air flow induced by a plasma jet flow of the surface plasma, into the air flow flowing in the cylinder, ozone generated by contacting of the surface plasma and air is mixed and discharged from the cylinder.例文帳に追加

この表面プラズマ発生装置を、表面プラズマのプラズマジェット流で誘起される空気流を導く筒体内に設け、筒体を流通する空気流に、前記表面プラズマと空気との接触により発生するオゾンを混合して前記筒体から放出する。 - 特許庁

To evenly perform plasma irradiation on an irradiation target of wide area even when a plasma generating nozzle of a small diameter having a spotted type blow-out port, which is inexpensive and easy to control, is used in the plasma generating device used for a workpiece treatment or the like such as reforming of a substrate.例文帳に追加

基板の改質等、ワークの処理などに使用されるプラズマ発生装置において、点状の吹出し口を有する低コストで制御が容易な小径のプラズマ発生ノズルを用いても、広い面積の被照射対象物に均等なプラズマ照射を行えるようにする。 - 特許庁

A plasma processing device 10 has a vacuum vessel 11, an antenna (plasma generating means) support 12 that is provided to project to an internal space 111 of the vacuum vessel 11, and a high-frequency antenna (plasma generating means) 13 that is attached to the antenna support 12.例文帳に追加

本発明に係るプラズマ処理装置１０は、真空容器１１と、真空容器１１の内部空間１１１に突出するように設けられたアンテナ（プラズマ生成手段）支持部１２と、アンテナ支持部１２に取り付けられた高周波アンテナ（プラズマ生成手段）１３と、を備えることを特徴とする。 - 特許庁

To carry out plasma irradiation uniformly among respective nozzles when coping with processing or the like of a plurality of workpieces to be processed and the workpiece to be processed of a large area by installing the plurality of plasma generating nozzles at a waveguide tube in a plasma generating device used for processing or the like of the workpiece such as reforming of a substrate.例文帳に追加

基板の改質等、ワークの処理などに使用されるプラズマ発生装置において、導波管に複数のプラズマ発生ノズルを設け、複数の被処理ワークや大面積の被処理ワークの処理などに対応するにあたって、各ノズル間で均一なプラズマ照射を行えるようにする。 - 特許庁

To enable a plasma generating device, as one used for processing of a workpiece such as reforming of a substrate, to have a waveguide mount a plurality of plasma generating nozzles and carry out uniform plasma treatment in correspondence with processing of a plurality of workpieces to be processed or a workpiece to be processed of a large area.例文帳に追加

基板の改質等、ワークの処理などに使用されるプラズマ発生装置において、導波管にプラズマ発生ノズルが複数個取付けられ、複数の被処理ワークや大面積の被処理ワークの処理などに対応するにあたって、均一にプラズマ処理を行うことができるようにする。 - 特許庁

To provide a plasma source equipped with a ferrite structure in which the ferrite structure is installed in arch shape on a linear antenna of a built-in type inductively coupled plasma generating device and a field formed radially from the linear antenna can be concentrated on a treating substrate, and to provide a plasma generating device employing the same.例文帳に追加

内蔵型誘導結合プラズマ発生装置の線形アンテナ上にフェライト構造体をアーチ型に装着し、線形アンテナから放射状に形成されるフィールドを処理基板に集中させることができるフェライト構造体を備えるプラズマソース及びこれを採用するプラズマ発生装置を提供する。 - 特許庁

To cool a plasma display device without generating noise, requiring power consumption for cooling, and moreover, without much increase in the volume of the device.例文帳に追加

騒音の発生がなく、冷却のための消費電力を必要とせず、かつ、装置の容積をあまり増大させずにプラズマディスプレイを冷却することができる。 - 特許庁

To provide an exhaust emission control device capable of suitably burning and removing soot or SOF adhering and accumulating on an electrode of a plasma generating device.例文帳に追加

プラズマ発生装置の電極に付着堆積した煤やＳＯＦ分を適宜に燃焼除去し得るようにした排気浄化装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma-generating device and a plasma generating method in which if the etching selectivity with respect to mask is small, the thickness of the mask can be made small, and also the in-plane uniformity of an etching speed is proper.例文帳に追加

対マスクエッチング選択性が小さくてもマクス厚を薄くすることができ、パターンの微細化を図ることができる、また、エッチング速度の面内均一性が良好なプラズマ生成装置及びプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

A combustion control device 1 includes a first plasma generating element 7A and a second plasma generating element 7B each of which is mounted on a lower surface of a cylinder head assembled on an upper side of a cylinder block 3 so that the surface of which is exposed.例文帳に追加

燃焼制御装置１は、シリンダブロック３の上側に組み付けられたシリンダヘッドの下面に、その表面が露出するように装着された第一プラズマ発生素子７Ａと第二プラズマ発生素子７Ｂとを備えている。 - 特許庁

In the method for depositing the thin film, a thin film depositing device including a vacuum vessel 11 maintaining the inner part thereof in a vacuum and a plasma generating means generating plasma in an antenna housing room 80A connected to the vacuum vessel is used.例文帳に追加

内部を真空に維持する真空容器１１と、真空容器に接続されアンテナ収容室８０Ａ内にプラズマを発生させるプラズマ発生手段と、を備える薄膜形成装置を用いた薄膜形成方法である。 - 特許庁

To provide a plasma processing device which is capable of generating stable plasma of which control range of work distance is broad under atmospheric pressure, and in which low running cost and high-speed processing can be made compatible.例文帳に追加

大気圧下でワークディスタンスの制御範囲が広い安定したプラズマを発生させることが可能で、低ランニングコストと高速処理を両立できるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma discharge display device with high luminous intensity and luminous efficiency which can be driven by a comparatively low voltage by efficiently generating an intense vacuum ultraviolet ray by plasma.例文帳に追加

プラズマによる強力な真空紫外線を効率的に発生させ、発光輝度および発光効率が高い、比較的低電圧駆動が可能なプラズマ放電表示装置を提供する。 - 特許庁

This plasma generating device P of an internal combustion engine E comprises a gas control valve 72 which is controlled by a throttle valve 46 and which controls the flow of the gas for plasma according to an intake amount Ma.例文帳に追加

内燃機関Ｅのプラズマ生成装置Ｐは、スロットル弁46により制御されて吸気量Ｍａに応じてプラズマ用ガスのガス流量を制御するガス制御弁72を備える。 - 特許庁

To provide a plasma display device capable of generating high-efficiency plasma discharge on a discharge cell basis without reducing an opening area of a discharge cell corresponding to each pixel.例文帳に追加

各画素に対応する放電セルの開口面積を減少させることなく、放電セル毎に高効率なプラズマ放電を発生させることが可能なプラズマ表示装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a plasma treatment device and a method generating plasma surely in a short time and stably maintaining the same until it transits to a matching position after it has once been generated.例文帳に追加

プラズマを確実かつ短時間に発生させ、また、プラズマが一旦発生した後にマッチング位置に移行するまで当該プラズマを安定して維持するプラズマ処理装置及び方法を提供する。 - 特許庁

A treatment device composed of: an electron beam excitation ion source for generating nitrogen atom plasma with a high density and a high dissociation degree; a treatment tank for storing plasma and performing nitriding treatment; a vacuum system device; a heating apparatus; and a gaseous starting material system device is used.例文帳に追加

高密度・高解離度の窒素原子プラズマを発生させるための電子ビーム励起イオン源、プラズマを溜め窒化処理を行う処理槽，真空系装置，加熱装置，原料ガス系装置からなる処理装置を使用する。 - 特許庁

To provide a plasma processing device and a plasma processing method generating an uniform plasma of high density and large area, reducing kinetic stress and thermal stress added on a dielectric window for indentation of microwave.例文帳に追加

異常放電を防止しつつ均一で高密度な大面積プラズマを生成し、且つマイクロ波入射用の誘電体窓に加わる力学的応力と熱的応力を減少させるプラズマ処理装置及び処理方法の提供。 - 特許庁

To provide a plasma processing device capable of processing an object to be processed continuously or in a manner of semi-batch, capable of reducing consumption amount of plasma generating gas, and an effective plasma processing method using the same.例文帳に追加

被処理物を連続的又はセミバッチ的に処理することが可能であるとともに、プラズマ発生用ガスの使用量を低減することが可能なプラズマ処理装置及びそれを用いた効率的なプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

The light source device 13 includes: a plasma generation part 51 generating plasma 50; a collection mirror 52 for collecting exposure light EL emitted from the plasma 50; and this measurement device 70 for measuring the exposure light EL emitted from the collection mirror 52.例文帳に追加

光源装置１３は、プラズマ５０を発生させるプラズマ発生部５１と、プラズマ５０から放射される露光光ＥＬを集光させるための集光ミラー５２と、該集光ミラー５２から射出される露光光ＥＬを計測するための計測装置７０とを備えている。 - 特許庁

To provide a multi-split anode wall plasma generating device capable of preventing the short circuit between a cathode and an anode by the peeling off of deposits adhering to and depositing on an inner wall of the anode by diffusion plasma, and to provide a plasma treating device using the same.例文帳に追加

拡散プラズマにより陽極内壁に付着、堆積した堆積物が剥落して陰極と陽極間を短絡することを防止することができる陽極壁多分割型プラズマ発生装置及びそれを用いたプラズマ処理装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a plasma irradiation device in which, by applying a device for generating mild plasma such as glow-type one produced through dielectric-barrier discharge or the like, a thermal load is extremely low with a low-temperature plasma, and operability and safety are good, and loads to a living body are reduced.例文帳に追加

誘電体バリア放電等を利用したグロー状プラズマを活用したマイルドなプラズマデバイスを適用することで、低温度なプラズマで熱負荷が極めて少なく、操作性、安全性、生体への負荷低減を図ることができるプラズマ照射装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma generating device having a structure capable of avoiding damages due to heat in a transmission system for transmitting microwave energy, and to provide a plasma generation method taking into consideration energy loss of microwave in the transmission system of the plasma device.例文帳に追加

マイクロ波のエネルギを伝達する伝達系中の熱による損傷を回避することを可能とする構造を備えるプラズマ生成装置及び該プラズマ装置の伝達系中のマイクロ波のエネルギ損失を考慮したプラズマ生成方法を提供することが課題である。 - 特許庁

In the plasma treating device for plasma-treating a substrate 10 of an objective part to be treated, which has an electrode 11 formed on the organic resin substrate surface 10a face, plasma discharge is generated in a treating space, where a plasma generating gas containing oxygen is supplied.例文帳に追加

有機物である樹脂基板面１０ａ面に処理対象部位である電極１１が形成された基板１０をプラズマ処理するプラズマ処理方法において、処理空間内に酸素ガスを含むプラズマ発生用ガスを供給した状態でプラズマ放電を発生させる。 - 特許庁

To provide a plasma generating device that has simple structure and low cost of manufacture and maintenance and is capable of adjustment of the uniformity of the processing substrate.例文帳に追加

構造がシンプルであり、製作コスト及び維持コストが低廉である、処理基板の均一性を調整することが可能とする。 - 特許庁

To provide a plasma display device for stably and inexpensively generating electric power for a rising ramp waveform in the initialization period of a scanning pulse.例文帳に追加

走査パルスの初期化期間における昇りランプ用電源を安定的かつ安価に生成できるプラズマディスプレイ装置を提供する。 - 特許庁

In this film forming device 11, a substrate supporting stand 2 is arranged in a film forming chamber 1, and plasma generating part is arranged oppositely to the substrate supporting stand 2.例文帳に追加

成膜装置(11)は成膜室(1) 内に基板支持台(2) が配され、同基板支持台(2) に対向してプラズマ発生部が配されている。 - 特許庁

To realize a plasma processing device which has a high selective ratio and is capable of carrying out fine processing, by a method wherein a plasma generating means that generates plasma through a capacitive coupling discharge and a means which radiates electromagnetic waves into a plasma generating chamber are provided.例文帳に追加

本発明は容量結合放電プラズマと、高周波による電磁波放射によるプラズマの複合放電により、プラズマ中の電子のエネルギレベルをプラズマ発生とは独立に制御し、目的とする活性種を目的とする量、生成することでより高性能なプラズマ処理を実現するとともに、電磁波放射、磁場を制御し大口径基板を均一に処理するものである。 - 特許庁

Magnets 7a, 7b are arranged at a side of side walls outside a plasma-generating room 6 of the ion implanting device with a certain interval, and the side walls and magnetic body members 8a, 8b are arranged between the side walls of the plasma-generating room 6 and the magnets 7a, 7b.例文帳に追加

イオン注入装置のプラズマ生成室６外部の側壁側に該側壁と所定間隔をもってマグネット７ａ、７ｂを配置すると共に、プラズマ生成室６側壁とマグネット７ａ、７ｂの間に磁性体部材８ａ、８ｂを配置する。 - 特許庁

This rare gas immobilizing device 10 is provided with a rotary target 14 having a deposition film 18 of lithium on the surface, a gas introducing pipe 23 to introduce gas including the rare gas, and a plasma generating device 21 for generating a plasma column 24 of gas introduced from the gas introducing pipe 23.例文帳に追加

希ガスの固定化装置１０は、表面にリチウムの蒸着膜１８が形成された回転ターゲット１４と、希ガスを含むガスを導入するガス導入パイプ２３と、該ガス導入パイプ２３から導入されたガスのプラズマ柱２４を生成するためのプラズマ発生装置２１とを備えている。 - 特許庁

To provide a method of generating radiation light from laser plasma having a means of supplying a material existing in a solid state at room temperature for a long period by a simple device operating with simple adjustment, and a laser plasma radiation light generating device using the above method.例文帳に追加

簡便な調整で動作する簡易な装置により、室温では固体で存在する材料を長時間連続に供給する手段を備えたレーザープラズマから輻射光を発生させる方法、該方法を用いたレーザープラズマ輻射光発生装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the plasma processing apparatus capable of generating plasma and controlling the incident energy of ions impinging on a specimen simultaneously, a film is formed on the surface of a part contacting plasma in a plasma processing chamber so as to improve the part in plasma-resistant properties, and the plasma processing device has a temperature adjusting function so as to keep the film at a prescribed temperature of 160°C or below.例文帳に追加

プラズマ生成と試料へのイオンの入射エネルギ制御とを独立におこなうプラズマ処理装置において、プラズマ処理室内のプラズマと接する部品の表面には耐プラズマ性を向上させるために皮膜が形成され、かつ前記皮膜の温度が所定の１６０℃以下に制御出来るように温度調節機能を有したことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 特許庁

The plasma treatment device comprising a plasma excitation power supply 10 and a plasma generation chamber 3 and performing desired plasma treatment on a plane 5 being treated is further provided with a mechanism 20 consuming power from the plasma excitation power supply 10 in addition to plasma generating power.例文帳に追加

プラズマを発生させるためのプラズマ励起用電源１０と、プラズマを発生させるプラズマ発生室３とを具備し、プラズマ励起用電源１０の有効制御範囲の電力で、被処理面５に所望のプラズマ処理を行うプラズマ処理装置にあって、プラズマ生成電力以外にプラズマ励起用電源１０からの電力を消費する電力消費機構２０を設ける構成とする。 - 特許庁

Source liquid mist is generated by a mist generating means 6; the mist is carried by an air flow and dried by heating the air flow by a drying device 2 to generate a source powder; and the source powder is pyrolyzed and fused in a plasma space at an ultrahigh temperature produced by the plasma generating means 8 of a plasma heating device 3.例文帳に追加

ミスト発生手段６によって原料液のミストを生成し、ミストを気流によって搬送し、乾燥装置２によって気流を加熱することでミストを乾燥して原料粉体を生成し、プラズマ加熱装置３のプラズマ発生手段８が形成する超高温のプラズマ空間で原料粉体を熱分解して融合する。 - 特許庁

In order to ignite a triode etching or coating device equipped with a pair of electrodes separated from each other and capacitively generating plasma, and a coil device combining inductive energy in the plasma, in the first place, plasma is capacitively generated between the electrodes, afterwards, inductive energy is combined.例文帳に追加

容量的にプラズマを発生させる互いに離れた１対の電極とプラズマ内に誘導性のエネルギを結合するコイル装置とを備えた三極管エッチングあるいはコーティング装置を点火するために、まず電極間でプラズマが容量的に発生され、その後さらに誘導エネルギが結合される。 - 特許庁

By this operation, a microwave plasma treatment device 100 is capable of generating a good quality SiN film stably by obtaining the plasma of treatment gas by the power of the microwave introduced into the treatment vessel 10.例文帳に追加

これにより，マイクロ波プラズマ処理装置１００は，処理容器１０内に入射されたマイクロ波のパワーにより処理ガスをプラズマ化させて良質なＳｉＮ膜を安定的に発生させることができる。 - 特許庁

To provide a plasma display panel driving circuit which is capable of generating a voltage required for driving by only a multiplied voltage generation circuit and has the reduced number of elements constituting the driving circuit, and a plasma display device.例文帳に追加

倍電圧発生回路のみで駆動に必要な電圧を発生させることができ、駆動回路を構成する素子数を削減したパネル駆動回路およびプラズマディスプレイ装置を提供する。 - 特許庁

To suppress particle generation in generating plasma under atmospheric pressure to solve a problem that the generation of particles by high-density plasma causes such failures as point defects, line defects, or the like in the display part of a display device.例文帳に追加

大気圧下でプラズマを発生させる場合、高密度のプラズマによって発生するパーティクルは表示装置における表示部の点欠陥や線欠陥などの不良の原因となるものである。 - 特許庁