「Patterns」に関連した英語例文の一覧と使い方(43ページ目) - Weblio英語例文検索

The base laminated body 9 and 23 are formed by laminating first pattern sheets 4a and 18a wherein ceramic patterns 5 and 17 are formed apart around conductor patterns 3 and 15, and second pattern sheets 4b and 18b wherein the ceramic patterns 5 and 17 are overlapped on an inclined surface 7 around the patterns 3 and 15.例文帳に追加

母体積層体９、２３は、前記セラミックパターン５、１７が前記導体パターン３、１５の全周辺に離間して形成された第１のパターンシート４ａ、１８ａと、前記セラミックパターン５、１７が前記導体パターン３、１５の全周辺の傾斜面７に重畳されている第２のパターンシート４ｂ、１８ｂとが積層されている。 - 特許庁

The sensor body 1 includes two kinds of wiring patterns such as diffusion layer wiring patterns 15 and metal wiring patterns 17 electrically connected to piezo-resistance R1x-R4x, R1y-R4y and R1z-R4z of resistors, and at least parts thereof formed in the respective flexural parts 13 are formed of the wiring patterns 15.例文帳に追加

また、センサ本体１では、抵抗体たるピエゾ抵抗Ｒ１ｘ〜Ｒ４ｘ，Ｒ１ｙ〜Ｒ４ｙ，Ｒ１ｚ〜Ｒ４ｚに電気的に接続された配線として拡散層配線１５と金属配線１７との２種類があり、少なくとも各撓み部１３に形成される部分が拡散層配線１５により構成されている。 - 特許庁

The first arrangement of the patterns arranged along a cyclic pattern reel in a stop display area and the second arrangement of the patterns arranged along the cyclic pattern reel in the stop display area are matched, and a pattern group to which the patterns of the first arrangement belong and a pattern group to which the patterns of the second arrangement belong are made different.例文帳に追加

停止表示領域において、周期図柄リールに沿って並んだ図柄の第１並びと、停止表示領域において、前記周期図柄リールに沿って並んだ図柄の第２並びとが、一致するようにし、第１並びの図柄が属する図柄群と、第２並びの図柄が属する図柄群とが、異なるようにする。 - 特許庁

When a decision is made to cause the 15R probability variation jackpots, the game machine carries out a performance to be carried out when a decision is made to cause 2R normal jackpots up to before displaying the temporary stopped patterns and derives and displays the 15R probability variation jackpot patterns as the final stopped patterns after displaying the temporary stopped patterns.例文帳に追加

また、１５Ｒ確変大当りとすることに決定されている場合に、２Ｒ通常大当りとすることに決定されたときに実行される演出を仮停止図柄の表示前まで実行し、当該仮停止図柄の表示後に１５Ｒ確変大当り図柄を最終停止図柄として導出表示させる。 - 特許庁

Various matching patterns are retrieved and extracted from in-space arrangement patterns PS, in-category-area arrangement patterns PT, and unit arrangement patterns PU prepared in a database by using arrangement conditions, publishing conditions, etc., determined according to printed matter setting information on object printed matter.例文帳に追加

対象印刷物の印刷物設定情報に基づいて定められた配置条件、掲載条件などを用いて、あらかじめデータベースＤＢ内に準備された複数の紙面内配置パターンＰＳ、カテゴリー領域内配置パターンＰＴ、単位配置パターンＰＵの中から、各種適合パターンを検索抽出する。 - 特許庁

Mask identification marks 109 contained with the information on the kinds of the masks, lot numbers, etc., by the formation of carbon material patterns by irradiation with an FIB the formation of dye material patterns by an ink jet method, or the deposition of seals previously formed with the patterns are annexed outside the arrangement regions of the resist patterns 102 on a resist mask substrate 101.例文帳に追加

レジストマスク基板１０１上のレジストパターン１０２の配置領域外に、ＦＩＢ照射によるカーボン材パターン形成、インクジェット法による染料剤パターン形成によって、あるいは予めパターン形成されたシールの被着によって、マスクの種類，ロット番号等の情報が入ったマスク識別マーク１０９を付設する。 - 特許庁

Further, a display control means for executing a variable display game using a plurality of patterns to the variable display device according to the set variable pattern has a pattern synthesis means for synthesizing at least two patterns from among a plurality of patterns for each variable cycle of the plurality of variable patterns to generate a synthesized pattern.例文帳に追加

また、設定された変動パターンにしたがって変動表示装置に複数の図柄による変動表示ゲームを実行させる表示制御手段は、複変動パターンの１回の変動サイクルごとに複数の図柄のうち少なくとも２つの図柄を合成して合成図柄を生成する図柄合成手段を有している。 - 特許庁

In forming the mask patterns to be used for the ordinary exposure, the sizes of the light shielding patterns (gate electrodes) on a mask for the ordinary exposure superposed on the positions corresponding to the fine patterns on the mask for the high-resolution exposure are changed in the direction of reducing the line width difference after the resolution which occurs according to the crude density of the fine patterns.例文帳に追加

その通常露光に用いるマスクパターンの生成に際し、高解像度露光用マスク上の微細パターンに対応した位置に重ねられる当該通常露光用マスク上の遮光パターン（ゲート電極）のサイズを、微細パターンの疎密性に応じて生じる解像後の線幅格差を縮小する方向に変化させる。 - 特許庁

These patterns 6 and 7 for defective identification represent patterns for a display identifying the defective semiconductor device, markings are put on the patterns 6 for defective identification when there is a defectiveness such as a defective wiring in the printed wiring board, and markings are put on the patterns 7 for defective identification when the defectiveness is generated in an assembly process.例文帳に追加

これら不良識別用パターン６，７は、半導体装置の不良を識別する表示用のパターンであり、プリント配線基板に配線不良などの不良がある場合には、不良識別用パターン６にマーキングが施され、組み立て工程において不良が発生した場合には、不良識別用パターン７にマーキングが施される。 - 特許庁

The dummy patterns 12 and 13 are respectively composed of: first frame-like patterns 12a and 13a formed on a flat substrate 1 so as to surround a heating resistor 4 and a fluid temperature measuring resistor 5; and second frame-like patterns 12b and 13b formed on the inner inside of the first patterns 12a and 13a.例文帳に追加

ダミーパターン１２、１３が平板状基板１上に発熱抵抗４および流体温度測温抵抗５を取り囲むように形成された枠状の第１パターン１２ａ、１３ａと第１パターン１２ａ、１３ａの内周側に形成された枠状の第２パターン１２ｂ、１３ｂとから構成されている。 - 特許庁

In this case, in the variation patterns, the variation pattern for pseudo succession of temporarily stopping temporary stop patterns other than a jackpot pattern and then executing re-variation of executing the variable display of the performance patterns again once or several times after the variable display of the performance patterns is started and before a display result is derived and displayed is included.例文帳に追加

この場合、変動パターンには、演出図柄の可変表示が開始されてから表示結果が導出表示されるまでに一旦大当り図柄以外の仮停止図柄を仮停止させた後に演出図柄の可変表示を再度実行する再変動を１回または複数回実行する擬似連用の変動パターンを含む。 - 特許庁

The positions of base patterns formed on a substrate are detected, pattern data on patterns to be formed on the substrate are corrected on the basis of information on the positions of the base patterns, mask patterns based on the corrected pattern data are displayed in a liquid crystal panel and pattern formation is carried out by lithography using this liquid crystal panel as a mask.例文帳に追加

基板上に形成された下地パターンの位置を検出し、下地パターンの位置情報に基づいて基板上に形成すべきパターンのパターンデータを補正し、液晶パネルに補正パターンデータに基づくマスクパターンを表示し、この液晶パネルをマスクに用いてリソグラフィーによりパターン形成を行う。 - 特許庁

The ratios of probability variation patterns and time shortening patterns among big winning patterns are different between the special pattern display devices 6a and 6b, and the opening forms of the start winning ports 11a and 11b when winning patterns are displayed at a normal pattern display device 18 are made different corresponding to the normal state, the probability variation state and the time shortening state.例文帳に追加

大当り図柄のうち確変図柄及び時短図柄の割合は、特別図柄表示装置６ａと６ｂとで異なっており、また普通図柄表示装置１８に当り図柄が表示されたときの始動入賞口１１ａ、１１ｂの開放態様を、通常状態、確変状態、時短状態に対応して異ならせる。 - 特許庁

When an adjustment mode is set, transfer positions of the test patterns of each color on the intermediate transfer belt 21 are detected in the separation state, to measure the shift of the test patterns of each color from the transfer positions of the test patterns of each color and correct the measured shift of the test patterns of each color by using each difference in the memory 75.例文帳に追加

そして、調整モードが設定されると、離間させた状態で、中間転写ベルト２１上の各色のテストパターンの転写位置を検出して、各色のテストパターンの転写位置からそれらのずれを測定し、この測定した各色のテストパターンのずれをメモリ７５内の各差分を用いて補正している。 - 特許庁

The pattern forming method comprises: a step of forming a coating to be etched; a step of forming a plurality of mask patterns on an upper layer of the coating by corresponding to regions being desirable to be left as a plurality of patterns; and a step of forming patterns of the coatings by performing etching treatment by using a plurality of mask patterns as masks.例文帳に追加

本発明に係るパターン形成方法は、被エッチング膜を成膜する工程と、複数のパターンとして残したい領域に対応して被エッチング膜の上層に複数のマスクパターンを形成する工程と、複数のマスクパターンをマスクとして、エッチング処理を行うことにより被エッチング膜のパターンを形成する工程とを備える。 - 特許庁

Thus, the relationship between the interval of the grooved portions and the interval of mosaic patterns of a liquid crystal cell is not held constant to avoid formation of moire patterns and to avoid formation of bright and dark portions since directions in which no light is emitted from the light reflecting patterns will not be aligned between adjacent light reflecting patterns.例文帳に追加

これにより溝部の間隔と液晶セルのモザイク模様の間隔との関係が一定とならず、モアレパターンの発生を抑えることができると共に、光反射パターンから光の出射されない方向が隣接する光反射パターン同士で揃うことがないため明暗部の発生を抑えることができる。 - 特許庁

The four line patterns 12 are separated from each other at the parts of the vertexes of the square.例文帳に追加

４つのラインパターン１２を正方形の頂点の部分で互いに分離する。 - 特許庁

To reduce the number of auxiliary exposure patterns in a method of exposing a charged particle beam.例文帳に追加

荷電粒子ビーム露光方法において，補助露光パターンの数を抑制する。 - 特許庁

As a part of the pattern constituting a great success, the past display patterns are also used.例文帳に追加

大当りを構成する図柄の一部として過去の表示図柄も使用する。 - 特許庁

The reference patterns 41, 42,..., 4n are registered on a reference pattern registration part 14 in regular order.例文帳に追加

基準パターン41，42，…，4nは基準パターン登録部１４に順番に登録される。 - 特許庁

Also, the manufacture specifies a user to be associated with the specified dot patterns.例文帳に追加

また、製造者は、特定したドットパターンに関連付ける利用者を特定する。 - 特許庁

Similarly, by multiplying the image data by variable power rates, the inhibition patterns are extracted.例文帳に追加

また同様に画像データに変倍率を乗じて禁止パターンを抽出する。 - 特許庁

Tone patterns 28, 29, 30 are displayed above the other end face 21b.例文帳に追加

他端面２１ｂの上方には、明暗パターン２８、２９、３０が表示されている。 - 特許庁

A library DB 300 stores a library showing various kinds of circuit patterns.例文帳に追加

ライブラリＤＢ３００は、各種回路パターンをあらわすライブラリを記憶している。 - 特許庁

To form various fine patterns at a low cost by using a self-organization material.例文帳に追加

自己組織化材料を用いて様々な微細パターンを低コストに形成する。 - 特許庁

To extract patterns of frequent changes from an ever-changing network structure.例文帳に追加

時々刻々変化するネットワーク構造から頻出する変化パターンを抽出する。 - 特許庁

The number of accent phrases, and metrical patterns for the accent phrases are found from an input text.例文帳に追加

入力テキストからアクセント句数と、各アクセント句毎に韻律パタンを求める。 - 特許庁

As a result, the light distribution patterns of two ideal lamp functions can be obtained.例文帳に追加

この結果、この発明は、理想の２つのランプ機能の配光パターンが得られる。 - 特許庁

To practically increase the kinds of variation patterns without increasing a memory capacity.例文帳に追加

メモリ容量を増やすことなく、変動パターンの種類を実質的に増量する。 - 特許庁

Liquid crystal cells in a liquid crystal cell body are successively inspected employing a plurality of display patterns.例文帳に追加

液晶セル体の液晶セルを順次複数の表示パターンで検査する。 - 特許庁

The correction of the mask patterns is preferably performed by the correction of an optical proximity effect.例文帳に追加

マスクパターンの補正は、光近接効果補正により行うことが好ましい。 - 特許庁

To change patterns and luminescent colors by a simple structure in a display device.例文帳に追加

表示装置において、簡易な構造で模様及び発光色を切り換える。 - 特許庁

Over time, the multi-dimensional data provide an indication of patterns of human behavior.例文帳に追加

多次元データは、時間に対して、人間の行動パターンの表示を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure method that readily forms various kinds of fine patterns.例文帳に追加

微細な種々のパターンを容易に形成できる露光方法を提供すること。 - 特許庁

In this way, the patterns 13 are transferred to the substrate W from the printing plate 12.例文帳に追加

これにより、印刷版１２から基板Ｗにパターン１３が転写される。 - 特許庁

To provide a method and knitting machine for the production of knitted goods with horizontal stripe patterns.例文帳に追加

水平縞模様付き編み製品を製造するための方法および編み機。 - 特許庁

Furthermore, tapered slopes are formed on pattern edges of the plurality of island shaped patterns.例文帳に追加

なおかつ、複数の島状パターンのパターン端部にテーパースロープ面を形成する。 - 特許庁

Dimple patterns of the four second spherical triangles St2 are the same.例文帳に追加

４個の第二球面三角形Ｓｔ２のディンプルパターンは、互いに同一である。 - 特許庁

Semiconductor devices 21 and 22 are connected to these circuit patterns 51 and 52, respectively.例文帳に追加

この配線パターン５１、５２には、それぞれ半導体素子２１、２２が接続される。 - 特許庁

To provide a semiconductor memory in which test patterns can easily be written.例文帳に追加

テストパターンを容易に書込むことが可能な半導体記憶装置を提供する。 - 特許庁

This makes it unlikely for migration to occur between the wring patterns 65a and 65b.例文帳に追加

これにより、配線パターン６５ａ、６５ｂ間でマイグレーションが発生し難くなる。 - 特許庁

To suppress deterioration in depth of focus even when main patterns are arranged at random.例文帳に追加

メインパターンがランダムに配置された場合にも焦点深度の劣化を抑制する。 - 特許庁

To provide a double exposure double resist layer process for forming gate patterns.例文帳に追加

ゲートパターンを形成するための二重露光二重レジスト層方法を提供する。 - 特許庁

A pattern determining means 132 selects any from the plurality of fluctuation patterns.例文帳に追加

パターン決定手段１３２は、複数の変動パターンからいずれかを選択する。 - 特許庁

Light shielding patterns (h) are provided nearby four corners of a rectangular light transmission part 11.例文帳に追加

矩形の光透過部１１の四隅近傍に遮光パターンｈを設けたこと。 - 特許庁