「Process Area」に関連した英語例文の一覧と使い方(18ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for fabricating semiconductor optical devices which are available in an optical communication wavelength area with mechanical stability, and can be mass-produced through the simplified process.例文帳に追加

光通信用波長領域での使用が可能で、力学的に安定で、作製工程が容易な、量産性を備えた半導体光素子の作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a data storage device which performs a stable data storage process in the minimum data storage area while increasing the efficiency for using a nonvolatile memory.例文帳に追加

不揮発性メモリの使用効率を向上させ、最小限のデータ保存領域で安定したデータ保存処理を行うことができる、データ保存装置を提供すること。 - 特許庁

While using an exposure control window 238, color control window 240 and black-and-white threshold window 242, the user can further process the selected object area.例文帳に追加

ユーザは、露光調整ウィンドウ２３８、カラー調整ウィンドウ２４０および白黒しきい値ウィンドウ２４２を使用して選択した対象領域をさらに処理することができる。 - 特許庁

On a host, a device allocating process which receives a request for file system area allocation from a user or an application sends the allocation request to a storage management server.例文帳に追加

ホスト上で、ユーザ又はアプリケーションからのファイルシステム領域割り当て要求を受けたデバイス割り当て処理が、当該割り当て要求をストレージ管理サーバへ送信する。 - 特許庁

When the CPU 11A for overall control stops, the CPU 20A for codec does not doubly store the same process end information in a command storage area 252.例文帳に追加

全体制御用ＣＰＵ１１Ａが停止状態になったとき、コーデック用ＣＰＵ２０Ａは同じ処理終了情報をコマンド保存領域２５２に重複して保存しない。 - 特許庁

Similarly, when the CPU 20A for codec stops, the CPU 11A for overall control does not doubly store the same process commands in a command storage area 151.例文帳に追加

同様に、コーデック用ＣＰＵ２０Ａが停止状態になったとき、全体制御用ＣＰＵ１１Ａはコマンド保存領域１５１に同じ処理指示コマンドを重複して保存しない。 - 特許庁

To provide a sheet treatment apparatus that can reduce a number of components and has a small occupied area without lowering productivity even in a process of continuous jobs.例文帳に追加

連続したジョブを処理する際にも生産性を低下させることなく、部品点数も削減可能とし、かつ、占有面積の小さなシート処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an optical disk device, wherein even when an optical disk having a small recorded area is subjected to a spinning up process, a delay never occurs.例文帳に追加

本発明の目的は、記録済み領域の少ない光ディスクに対してスピンアップ処理をする場合であっても遅延が発生することのない光ディスク装置を提供する。 - 特許庁

To provide a high-resolution inspection apparatus and an inspection method capable of observing a wide observation area in a short time in a hot spot inspection required in a lithographic process.例文帳に追加

リソグラフィーの工程で必要とされるホットスポット検査において、広い観察面積を短時間で観察できる高解像度の検査装置及び検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image processing apparatus for achieving a pseudo gradation conversion process such as error diffusion by block processing without imparting a marginal area.例文帳に追加

本発明の課題は、のりしろ領域を付与することなく、ブロック処理によって誤差拡散などの疑似階調変換処理を実現する画像処理装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a graphene film, in which the degree of freedom in selection of substrates is high and a graphene film having a large surface area is formed on a substrate by a simple process.例文帳に追加

基板選択の自由度が高く、簡易な方法で大面積のグラフェン膜を基板上に形成することが可能なグラフェン膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

To realize a nonvolatile memory which can record multilevel information per one memory cell without complicating a manufacturing process and increasing the occupancy area of a nonvolatile capacitor.例文帳に追加

製造プロセスを複雑化することなく、また、不揮発性キャパシタの占有面積を増大させることなく、１メモリセルあたり多値情報を記録可能な不揮発性メモリを実現する。 - 特許庁

In a process for press-fitting the lamination, the lamination is press-fitted in a pressure area ≥ pressure P (kgf/cm^2), satisfying ΔB/ΔA≤0.005 (%/(kgf/cm^2)) and ≤ (P+200) (kgf/cm^2).例文帳に追加

積層体を圧着する工程において、ΔＢ／ΔＡ≦０．００５（％／（kgf／cm^2））となるプレス圧Ｐ（kgf／cm^2）以上、（Ｐ＋２００）（kgf／cm^2）以下のプレス圧領域で圧着を行う。 - 特許庁

To provide an entrance management system capable of grasping an implementation state of a process for each different management object while reducing a load applied to a management object coming into a clean area.例文帳に追加

クリーンエリアに入る管理対象に掛かる負荷を低減させつつ管理対象別の行程の履行状況を把握することが可能な入場管理システムの提供。 - 特許庁

To provide a nonvolatile semiconductor memory element, capable of providing a nonvolatile memory by a CMOS process of standard logic, and capable of arranging compactly a capacitor to minimize an area.例文帳に追加

標準ロジックのＣＭＯＳプロセスで不揮発性メモリを実現し、キャパシタをコンパクトに配置して面積を最小限にする、不揮発性半導体メモリ素子を提供する。 - 特許庁

The enlargement of the cross section area increases cutting pressure, and moreover, the wave process and the wire thickness variation allows a grinding fluid to be led in and provides cutting performance as usual even with a flat wire.例文帳に追加

断面積の拡大により切断押圧力が増加し、波打ち加工又は線厚変動により研削液を引き込み扁平線でも従来同様の切断能を持つ。 - 特許庁

To process a crystal plate with a larger area so as to have a thin thickness and satisfactory surface roughness which are suitable for the high frequency and/or high stability of a crystal resonator.例文帳に追加

より大きな面積の水晶板を、水晶振動子の高周波化及び／又は高安定性に適した薄い板厚、十分な表面粗さに加工する。 - 特許庁

To inspect disconnection of signal wiring of a thin film transistor in a manufacturing process of a high definition display liquid crystal panel of which the display area is split into two upper and lower parts.例文帳に追加

表示領域を上下二分割した高精細度表示の液晶パネルの製造工程における薄膜トランジスタの信号配線の断線検査を可能とする。 - 特許庁

To provide a surface treatment apparatus and its method of which a treatment process is simple, causes less damage to a substrate, and the substrate of a large area can be relatively, uniformly treated.例文帳に追加

処理工程が簡単で基板に与えるダメージが少なく、大面積の基板を比較的均一に処理することができる表面処理装置及び方法を提供すること。 - 特許庁

In a development process, a hydrophilic ink 104 is supplied to the latent image, the ink 104 is held only in a hydrophilic area 103, and the latent image is converted into an image.例文帳に追加

現像工程では、この潜像に親水性インク１０４を供給し、親水性領域１０３のみに親水性インク１０４を保持させて潜像を画像化する。 - 特許庁

To process an accurate color correction at a high speed in image processing in association with a color area compression at a color correction time from input image data to output image data.例文帳に追加

入力系画像データから出力系画像データへの色補正時における色域圧縮を伴う画像処理において、高速で正確な色補正処理を行う。 - 特許庁

The measurement of a displacement on the above weld zone surface 8a is repeated several times for the same area, arithmetic addition of this measurement result is utilized for imaging process.例文帳に追加

上記溶接部表面８ａの変位の測定は、同一箇所に対して複数回繰り返し、この測定結果を加算演算して画像化処理に利用する。 - 特許庁

In the process of removing and installing the filter member, within an area other than the installing guide part, the tilt of the filter member is permitted within an angle restricted by the tilting guide part.例文帳に追加

フィルタ部材の脱着過程において、装着ガイド部を脱した領域では、傾きガイド部で規制される角度内でフィルタ部材の傾きが許容される。 - 特許庁

The process A describes request contents in its own request storage area, and the OS uses the address for a pending register and informs the I/O device that an unprocessed request exists.例文帳に追加

プロセスＡは自分の要求格納領域へ要求内容を記述し、ＯＳは、ペンディングレジスタ用のアドレスを使って、未処理の要求があることをＩ／Ｏ装置に伝える。 - 特許庁

A matching process part 92 reads the current register updating data from the current register updating buffer 48 during instruction decoding, and stores it in data area of the reservation station 26.例文帳に追加

マッチング処理部９２は、命令デコード時に、最新レジスタ更新バッファ４８から最新のレジスタ更新データを読出してリザベーションステーション２６のデータ領域に格納する。 - 特許庁

To obtain a semiconductor device having a capacitor which can be formed through a process shared with an interconnection while reducing the area of memory cell, and a method of fabrication.例文帳に追加

メモリセル面積の縮小が可能であり、配線と共有化されたプロセスで形成できるキャパシタを有する半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a message transaction system by a computer, which alleviates a process for schedule arrangement, in the area of message systems including e-mail clients and instant messaging systems.例文帳に追加

電子メールクライアントやインスタントメッセージングシステムをはじめとするメッセージシステムの分野において、スケジュール手配のプロセスを軽減する、コンピュータによるメッセージトランザクションシステムを提供する。 - 特許庁

In the color reproduction accuracy improving process, control parameters are corrected so as to bring the results of the measurement of the colorimetric adapting area of a multi-dimensional color toner image closer to original colors.例文帳に追加

色再現精度向上処理では、多次色トナー像の測色適応領域を測色した結果を本来の色に近づけるように制御パラメータを補正する。 - 特許庁

In the process 850, the packets are parallelly received by plural reception threads and stored in a common area 883, and when the message is completed, it is dispatched to a high-order object.例文帳に追加

プロセス８５０では、パケットを複数の受信スレッドで並行して受信し、共有領域８８３に記憶し、メッセージが完成したら上位オブジェクトに受け渡す。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and its manufacturing method for reducing an area thereof by using a laminated structure, and manufacturing the semiconductor device by a simple process.例文帳に追加

積層構造により小面積化を実現できるとともに、簡単な工程により製造できる半導体装置及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the bonding process, the 1st substrate 1 and 2nd substrate 2 are coated with adhesives along their outer peripheral parts and their inner area is also coated with an adhesive 3.例文帳に追加

接着工程は、第一基板１及び第二基板２の外周部に沿って接着剤３を塗工し、さらに内部領域にも接着剤３を選択的に塗工する。 - 特許庁

The plotting processors 120, 130 and 140 process plotting data of an allocated area and returns the processing result to the distribution/collection processing 110.例文帳に追加

各描画処理用処理装置１２０、１３０、１４０は割り当てられた領域の描画データを処理して処理結果を分配・回収用処理装置１１０に返す。 - 特許庁

Thereafter, it is judged in which area the defect exists from the result of the numerical analysis and thus, this process is used as a means for automatically judge the suitability to this casting plan.例文帳に追加

その後、数値解析の結果から欠陥の存在があらかじめ設定したどちらの領域にあるかを判定し、その方案の適正を自動判定させる手法。 - 特許庁

To provide a wiring board capable of increasing a contact area between wires through a simple process, a display panel, and manufacturing methods thereof.例文帳に追加

本発明は、簡易な工程で配線間の接触面積を増大させることが可能な配線基板、表示パネル、並びに、それらの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

The counter original substrate 200 before being cut has pixel area spacer projections 210 and outer circumferential part spacer projections 211 which are manufactured in the same process.例文帳に追加

切り出し前の対向原基板２００には、同一の工程で作製された画素領域スペーサ突起２１０及び外周部スペーサ突起２１１が備えられている。 - 特許庁

When a target parameter is controlled so as not to let the overlapping area change, the parameter can be adjusted real time in a transfer exposure process, without complicated calculations.例文帳に追加

重なり面積が変化しないように調節対象のパラメータを調節すれば、転写露光工程中に、リアルタイムで、かつ複雑な計算処理なくパラメータを調節できる。 - 特許庁

In the case that the liquid fills the sufficiently large volume of the area, airtight closure is achieved for the respective process waste gas in the constitution component.例文帳に追加

この液体が領域の十分に大きな容積を満たしている場合には、前記構成要素においてそれぞれのプロセス排ガスに対し気密な閉鎖が達成される。 - 特許庁

To prevent characteristics in a non-volatile semiconductor memory device from being deteriorated by an electromagnetic wave incident on an element isolation area in a plasma process out of manufacturing processes.例文帳に追加

製造工程中のプラズマ工程において、素子分離領域に入射した電磁波が不揮発性半導体記憶装置の特性を劣化させるのを防止する。 - 特許庁

In an erase process to erase the test write data recorded in the test area, CW erase is performed (a step S104) and reproduction of the test write data is attempted (a step S106).例文帳に追加

テストエリアに記録された試し書きデータを消去する消去工程では、ＣＷイレーズを行い（ステップＳ１０４）、試し書きデータの再生を試行する（ステップＳ１０６）。 - 特許庁

To provide a toner excellent in durable developing performance independently of output image area, uniform in charge amount distribution independently of process speed, and capable of obtaining a high-grade image.例文帳に追加

出力画像面積に関わらず耐久現像性に優れ、プロセススピードに関わらず帯電量分布が均一で、高品位な画像を得ることができるトナーを提供する。 - 特許庁

To provide a ferroelectric memory device which can store multi-value data without complexing manufacturing process and without increasing occupancy area of a ferroelectric capacitor.例文帳に追加

製造プロセスを複雑化することなく、また、強誘電体キャパシタの占有面積を増大させることなく、多値データを記憶可能な強誘電体メモリ装置を提供すること。 - 特許庁

A photoresist 4 is formed on the interlayer insulating film 8, and is exposed in a photolithographic process over the whole surface of the area within a shadow ring, to form contact holes 9.例文帳に追加

続いて、層間絶縁膜８上にフォトレジスト４を形成し、フォトリソグラフィ工程にてシャドーリング内の領域の全面を露光し、コンタクトホール９を形成する。 - 特許庁

In the process of contracting out the myoden administration to tato fumyo by kokuga, the conditions, such as the rate and the item of taxation imposed on each myoden, became varied based on the situation in each area. 例文帳に追加

国衙が名田経営を田堵負名に請け負わせていく中で、地域の実情に合わせて各名田ごとに税率や税目などに差異も生まれていった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To manufacture a pressure roller capable of moderating excessive temperature rise in a paper non-passing area, when small-sized recording paper is made to pass through an image heating device, using a simplified process.例文帳に追加

像加熱装置に小サイズの記録紙を通紙した際の非通紙領域の過昇温を緩和できる加圧ローラを、簡略化した製法で製造できるようにする。 - 特許庁

A copy source designation acquisition part 121 in an input part 120 of a process information edition device 100 acquires designation of an area in a copy source of data in a manufacturing flow.例文帳に追加

工程情報編集装置１００の入力部１２０において，複写元指定取得部１２１は，製造フローにおけるデータの複写元の範囲の指定を取得する。 - 特許庁