「Process Area」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

The first circular end is preferably formed by a swaging or pointing process to reduce the cross-sectional area of the tubular member and to form the circular end.例文帳に追加

第一円形末端は、好ましくは、管状部品の断面積を縮小および円形末端形成のためのスウェージングまたは先出し加工によって形成される。 - 特許庁

To provide a sector conversion device including a small memory area that is used to save two sectors of data when power is lost during the sector conversion process.例文帳に追加

セクタ変換プロセス時に電力が失われた場合、２セクタ分のデータを保存するために使用される小規模メモリ領域を含む、セクタ変換デバイスを提供すること。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a semiconductor device in which the capacitor area of a cross point type FeRAM can be increased and product performance and work efficiency can be enhanced.例文帳に追加

クロスポイント型ＦｅＲＡＭのキャパシタ面積を増大できるとともに、製品性能及び作業効率を向上できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the image reading operation for one color original image, a CCD area sensor continuously execute charge storage process sequentially for each of RGB light beams.例文帳に追加

１つのカラー原画像に対する画像読取動作において、ＣＣＤエリアセンサにて、ＲＧＢの各色光毎に分けて順に電荷蓄積工程を連続実行する。 - 特許庁

To binarize a character boundary area as faithfully as possible and to improve an OCR recognition rate in binarizing process for converting a multi-valued character image into a binary character image.例文帳に追加

多値文字画像を二値文字画像に変換する二値化処理において、文字境界領域をできる限り忠実に二値化し、ＯＣＲ認識率を向上させる。 - 特許庁

The inprint of the ferroelectric capacitors in the ROM area is advanced by the baking process, and the read-out margin being the difference in residual polarized values of the ferroelectric capacitances is increased.例文帳に追加

ベーク処理によりＲＯＭ領域の強誘電体キャパシタ対のインプリントが進み、強誘電体キャパシタ対の残留分極値の差である読み出しマージンは大きくなる。 - 特許庁

To suppress a warpage of a base substrate in a process of hardening an insulating resin material and to approximately twice the capacity, with an installation area of about the same level as that of conventional products.例文帳に追加

絶縁性樹脂材料の硬化過程でのベース基板の反りを抑制するとともに、従来品と同程度の設置面積で約２倍の容量増加を図ること。 - 特許庁

A reliable data is provided since the element in a practical process is selected and measured by this manner to grasp the concentration using the wave number area absorbed by the substance.例文帳に追加

このように、実際工程中の素子を選択して測定し、物質が吸収する波数領域によって濃度を把握するので信頼性あるデータを得ることができる。 - 特許庁

To reduce the area required for the moisture-proofing process of a product having a high-frequency circuit and a low-frequency circuit, formed on the same board.例文帳に追加

本発明は、高周波回路と低周波回路を同一基板上に構成した製品における防湿処理の必要面積の削減を課題とするものである。 - 特許庁

In the first process to transfer the ink to the intermediate transfer body 7, the ink is transferred in the vicinity of each transfer area 21 on the intermediate transfer body 7, then, a marker 22 is formed.例文帳に追加

中間転写体７への１回目のインク転写時に中間転写体の各転写領域２１の近傍にインクを転写してマーカ２２を形成する。 - 特許庁

S5 being a movement trajectory calculation process calculates a three-dimensional trajectory of the relative movement of a peripheral part with respect to the part as a movement trajectory area of the peripheral part.例文帳に追加

Ｓ５は、運動軌跡算出工程で、当該部品に対する周辺部品の相対運動の三次元軌跡を、周辺部品の運動軌跡領域として算出する。 - 特許庁

Conductive particles included in the anisotropic conductive film 30 flown out in a solderless process aggregate in a non-connection area 17 due to a thickness of an insulating resin layer.例文帳に追加

圧着工程により流れ出した異方性導電フィルム３０に含まれる導電粒子は、絶縁性樹脂層の厚みのため非接続領域１７で凝集する。 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus capable of performing the film deposition on both sides of a substrate, having small installation area, short film deposition process, and capable of preventing any abnormal discharge.例文帳に追加

基板の両面に成膜可能な成膜装置であって、設置面積が小さいと共に成膜工程が短く、しかも異常放電が生じない成膜装置の提供。 - 特許庁

To provide a device and a method which can make a display in a proper display area for every process unit of application, etc., corresponding, to applied equipment.例文帳に追加

適用機器に応じて、アプリケーション等の処理単位ごとに適切な表示領域にて表示を行うことのできる装置および方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

An operation system 100 at a transmission source 150 generates an internal file to be sent to a transmission destination 140 as a client and stores it in a process waiting area 104.例文帳に追加

送付元１５０の業務システム１００は、取引相手先である送付先１４０に送信すべき内部ファイルを作成し、処理待ちエリア１０４に格納する。 - 特許庁

A radar return processing system and a method are operable to process radar information when an installation vehicle 122 operates in proximity to a surface area of interest.例文帳に追加

装備乗物（１２２）が対象となる表面領域の近傍で動作中であるときに、レーダエコー処理システムおよび方法がレーダ情報を処理するように動作可能である。 - 特許庁

To realize a printing process in such a way that when emboss printing and relief printing are carried out, an area is set or a degree of floating or depth is set in accordance with a specification desired by a user.例文帳に追加

エンボス印刷、レリーフ印刷等を行う際、領域の設定や浮き上がりや深さの程度を、ユーザ所望の仕様にして印刷処理できるようにする。 - 特許庁

Thus, it is possible to prevent the film peeling in the dicing process even at the time of using a low dielectric constant insulating film whose mechanical strength, and adhesion strength is deteriorated due to the existence of the area.例文帳に追加

この領域の存在により機械的強度、密着強度の劣る低誘電率絶縁膜を用いてもダイシング工程での膜剥がれが防止される。 - 特許庁

To suitably process a video signal to be output for display by a display apparatus having a mode in which a resolution decreases in at least part of a display area.例文帳に追加

少なくとも表示領域の一部の領域において解像度が低下するモードを持つ表示装置で表示出力する映像信号を好適に処理する。 - 特許庁

The increase in space allows new process generation of the integrated circuit die in which an increasing number of logic elements are fitted within the same surface area of a substrate of the integrated circuit die.例文帳に追加

空間の増大により、多数の論理素子を集積回路ダイの基板の同一の表面積内に収容する集積回路ダイの新しいプロセス世代が可能となる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device, in which a small-sized package having a curtailed mounting area is obtained, while the cost in a manufacturing process is reduced largely, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

実装面積を縮小した小型のパッケージを得ると共に、製造工程におけるコストを大幅に削減する半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a molding process for sand molding with frames in which the generation of spill sand and sand-to-be-cut-off is sharply reduced and also molding sand is compacted uniformly across the whole area of the mold.例文帳に追加

スピルサンドや切削砂の発生を大幅に削減すると共に鋳物砂の圧縮が鋳型全体に均一に成される付砂鋳型の造型方法を提供する。 - 特許庁

Consequently, it is substantially suppressed that the electrostatic breakdown affects a display pixel and a driving circuit inside the panel area 10P in the process applied on the large substrate 10.例文帳に追加

そのため、大判の基板１０に施される工程において、パネル領域１０Ｐの内側の表示画素及び駆動回路に静電破壊が及ぶことを極力抑止できる。 - 特許庁

The machining start position is changed from A to A" to center the area for scanning laser beam, and the machining process is started when the machining object reach A".例文帳に追加

レーザ光を走査させる領域が中央揃えされるよう加工開始位置をＡからＡ”に変更し、加工対象物がＡ”に到達した時点から加工を開始する。 - 特許庁

To provide a metal tantalum nanosheet with a high specific surface area utilizing a metal tantalum nanosheet obtained by reducing a tantalum pentoxide nanosheet obtained by a fluidized interfacial sol-gel process.例文帳に追加

流動界面ゾル−ゲル法により得られる五酸化タンタルナノシートを還元して得られる金属タンタルナノシートを利用し、高比表面積の金属タンタルナノシートを提供する。 - 特許庁

To provide a dry process various density image processor which is made smaller in size and lighter in weight and is enhanced in a floor area required for installation and utilization efficiency of spaces.例文帳に追加

小型かつ軽量化を可能にし、設置に要する床面積や空間の利用効率を高めることができる乾式濃淡画像処理装置を提供する - 特許庁

To provide a method for inexpensively producing tubular titanium oxide having a large specific surface area and anatase crystallinity by a simple process without using a specific apparatus.例文帳に追加

特殊な装置を用いることなく、簡易なプロセスにより比表面積が大きいアナターゼ結晶性を有するチューブ状酸化チタンを経済的に製造する方法を提供する。 - 特許庁

This method tests materials applied to the surface of a sample and include a process of directing an excitation beam of a known beam width and intensity section toward the sample area.例文帳に追加

試料の表面に適用された材料を試験する方法は、既知のビーム幅および強度断面を有する励起ビームを試料の領域に方向付けることを包含する。 - 特許庁

To maximize the core window of the assembly, separating support rails are used in the manufacturing process and can be removed to minimize the bottom area of the assembly.例文帳に追加

分離する支持レールは、組立体の鉄心窓を最大にするために、製造工程で用いられ、組立体の底面積を最小にするために、取り外すことができる。 - 特許庁

Consequently the overlapped dimensions d1, d2 of the source neighborhood area 4 and the ring-shaped gate electrodes 1 are almost equal without being influenced by pattern matching errors in the photo-process.例文帳に追加

その結果、ソース近傍領域４とリング状ゲート電極１の重なり寸法ｄ１、ｄ２は、フォトプロセスのパターン合わせ誤差には影響されず、ほぼ等しくなる。 - 特許庁

The method of writing on the light management film includes a process wherein a specular area is selectively formed by applying heat and/or pressure.例文帳に追加

このような光管理フィルムに書き込みをおこなう方法であって、熱及び／又は圧力を加えて選択的に正透過領域を形成する工程を含む方法。 - 特許庁

The method comprises a process of etching and flowing out a polymer from an area in a surface layer of a substrate precursor which contains inorganic particles embedded in a polymer matrix.例文帳に追加

該方法は、重合体マトリクスに埋め込まれた無機粒子を含有する基板前駆体の表面層の領域から重合体をエッチングして流す工程を含む。 - 特許庁

The determination process portion determines whether each grid is an obstacle or not based on a percentage of reflected laser in a predetermined-direction area which reflects laser at a high percentage.例文帳に追加

判定処理部は、レーザーを反射する割合が高い所定方向範囲における反射レーザーの割合に基づいて各グリッドが障害物であるか否かを判定する。 - 特許庁

The synthesized waveform obtained from the dipole is subtracted from the actually measured waveform, the synthesized waveform is similarly subtracted with respect to a misfit part of a remaining shaded area, and this process is repeated.例文帳に追加

そして、ダイポールから得られる合成波形を実測波形から差し引き、残った斜線部分のミスフィット分について、同様に合成波形を差し引き、これを繰り返す。 - 特許庁

To process particulates in a diesel particulate filter by heating exhaust from a diesel engine in a light load area without using a heater.例文帳に追加

軽負荷域においてもヒータを用いることなくディーゼルエンジンからの排気を加熱し得るようにして、ディーゼルパティキュレートフィルタでの粒状物質の処理を行い得るようにする。 - 特許庁

To provide a treatment method for removing the concentration of boron and fluorine in a waste liquid containing boron fluoride ions to not more than a public water area control value by a simple process.例文帳に追加

ホウフッ化物イオンを含む廃液を、簡単な工程でホウ素およびフッ素濃度を公共水域放流規制値以下まで除去する処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus of manufacturing a semiconductor apparatus without using a stepper in a manufacturing process when semiconductor apparatus are produced in high volume using a substrate having a large area.例文帳に追加

大面積を有する基板を用いて半導体装置の大量生産を行う場合、ステッパを製造プロセスに用いない半導体装置の製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a planographic printing plate using a silver complex salt diffusion transfer process which improves printing resistance and causes no unevenness to an image area.例文帳に追加

本発明は、大幅に耐刷性能を向上させ、画像部にムラを生じさせない銀錯塩拡散転写法を用いた平版印刷版を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a light radiation processing device using a dielectric barrier discharge lamp which can process a whole range effectively even if it is a large-area work.例文帳に追加

大面積のワークであっても、その全域を効率よく処理することが可能な誘電体バリア放電ランプを用いた光照射処理装置を提供すること。 - 特許庁

The present configuration enables a motion peculiar to the object to be reflected by an object area unit, thereby a producing process of a highly accurate and high-resolution image can be obtained.例文帳に追加

本構成によれば、オブジェクト固有の動きをオブジェクト領域単位で反映させることが可能となり、精度の高い高解像度画像の生成処理が実現される。 - 特許庁

To process image without spoiling it by reducing an influence of correction of each correction area upon other correction areas when setting a plurality of correction areas one over another.例文帳に追加

複数の補正領域を重ねて設定した場合に、各補正領域における補正が他の補正領域に及ぼす影響を軽減し、映像に破綻のないよう処理する。 - 特許庁

To provide a non-cooling type infrared image sensor that eliminates the need for a complicated manufacturing process and can make the cross section area of a support leg as small as possible.例文帳に追加

複雑な製造工程が不要であって支持脚の断面積を可及的に小さくすることのできる非冷却型赤外線イメージセンサを提供することを可能にする。 - 特許庁

By generating a binarized image obtained by applying a binarization process to the actual image, the heating condition of the baking device is analyzed based on an area value of white pixels in the binarized image.例文帳に追加

この実画像に２値化処理を施した２値化画像を生成して、この２値化画像における白画素の面積値に基づいて、焼成装置の加熱状態を解析する。 - 特許庁

To provide the design structure of an improved heat exchanger tube bundle which can increase a heat transfer surface area of a heat exchanger having a predetermined size, and a process for the production thereof.例文帳に追加

所与の大きさの熱交換器に対して、熱伝達表面積を増加できる改良された熱交換器管束の設計構造及びその製法を提供する。 - 特許庁

To prevent the generation of a crack caused by drying shrinkage in a curing process for the concrete body in a concrete body having a region, of which the cross-sectional area becomes small in a casting direction.例文帳に追加

打設方向に向かって断面積が小さくなる部位を有するコンクリート体の養生の過程で乾燥収縮に伴うひび割れなどの発生を防ぐ。 - 特許庁