「Process Area」に関連した英語例文の一覧と使い方(20ページ目) - Weblio英語例文検索

The original chip design was done in a 0.8 micron CMOS process, and with the geometries available today, it is possible to fit four instances of the original design into the same silicon area. 例文帳に追加

もとのチップ設計は0.8 ミクロン CMOS プロセスで行われており、現在使える密度からいえば、同じシリコン面積にかつての設計を4個分つめこむことが可能になる。 - Electronic Frontier Foundation『DESのクラック：暗号研究と盗聴政策、チップ設計の秘密』

When the thing exits from the facilities in the C-process area 15, the data acquisition terminal 32 generates process data by relating IN time and OUT time acquired so far to previously set setting information (for example, a thing grade etc.).例文帳に追加

ものがＣ工程エリア１５内の設備を出たときに、データ取得端末３２は、それまでに取得したＩＮ時刻及びＯＵＴ時刻と予め設定された設定情報（例えばもの品種など）とを関連付けて工程データを作成する。 - 特許庁

The method is provided with a process, in which images of pixels included in the image of the display panel being photographed are detected, respectively; and a process, in which pixel properties (pixel area, luminance and dispersion in luminance) are detected, and the pixels are evaluated based on the pixel properties.例文帳に追加

撮像された表示パネルの画像に含まれる各画素の画像をそれぞれ検出する工程と、各画素の画像から画素特性（画素面積、輝度、輝度バラツキ）を検出し、その画素特性に基づいて画素を評価する工程とを有する。 - 特許庁

To provide an on-vehicle display device for performing a process for a touched button even if a touch is mistakenly released at a position deviated from a release area of the touched button when the process defined for the button is performed on the basis of the position at which the touch is released.例文帳に追加

タッチをリリースした位置に基づいてボタンに定義された処理が実行される場合に、誤ってタッチしたボタンのリリースエリアから外れた位置でタッチをリリースしても、タッチしたボタンの処理が実行される車載用表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a fabrication process of an organic semiconductor structure comprising an organic semiconductor layer having uniform charge transport characteristics in a large area, and to provide an organic semiconductor structure fabricated by that fabrication process and an organic semiconductor device.例文帳に追加

大きな面積において均一な電荷輸送特性を持つ有機半導体層を形成してなる有機半導体構造物の製造方法、その製造方法により製造された有機半導体構造物及び有機半導体装置を提供する。 - 特許庁

A process control board 84 outputs a pre-alarm signal and the information corresponding to its processing contents to a process computer 82 when the processing condition by the web processing device 88 performing various processing to an aluminum web comes to the pre-alarm area.例文帳に追加

工程制御盤８４は、アルミウエブに対して各種処理を行うウエブ処理装置８８による処理条件がプレアラーム領域に入ると、プレアラーム信号及びその処理内容に対応する情報をプロセスコンピュータ８２に出力する。 - 特許庁

To prevent the occurrence of the peeling, warping, crack, etc. of thin films due to a temperature change such as heating and cooling in a process of manufacturing a solar panel with a large area having high efficiency in photoelectric conversion and excellent economical properties, and eliminate the occurrence of failure in a production process.例文帳に追加

光電気変換効率が高く経済性に優れ、大面積の太陽電池パネルを製作工程における加熱、冷却などの温度変化による薄膜のはがれ、反り、クラックの発生などを防止し、生産工程での不良の発生を無くす。 - 特許庁

The air bleeding judgement method is composed of a process for continuously carrying out the coating action for the glue, a process for carrying out 2 shots of coating action after the coating action of the glue is stopped and comparing the coating area of the glue between 2 shots.例文帳に追加

さらに、連続してグルーの塗布動作を行う工程と、一旦グルーの塗布動作を停止した後に塗布動作を２点連続して実施し、前記２点のグルーの塗布面積を比較する工程などからなるエアー抜き判定方法などとする。 - 特許庁

The alumina particles are manufactured by Bayer process (wet alkaline process) and they are spheric, making an crystal (corundum structure) and having 1 to 2 m^2/g specific surface area, ≤2.5 μm average volume particle diameter, ≤0.05% sodium content and 0.99 environmental change rate.例文帳に追加

アルミナ粒子はバイヤー法（湿式アルカリ法）で製造され、丸い形状で、α結晶（コランダム構造）をなし、比表面積が１〜２ｍ^2／ｇ、平均体積粒径が２．５μｍ以下、ナトリウム含有量が０．０５％以下、環境変動率が０．９９である。 - 特許庁

The mouse monitoring process C1 is started (1) by moving a mouse cursor to the area a1, erases the mouse cursor from a CRT1 (2), also instructs the driver B1 to perform mouse lock (3) and issues transition notification to the mouse monitoring process C2 of the host 2 (4).例文帳に追加

マウス監視プロセスＣ１はマウスカーソルをエリアａ１に移動させることにより起動され(1)、ＣＲＴ１からマウスカーソルを消去する(2)と共にドライバＢ１に対しマウスロックを指示し(3)、ホスト２のマウス監視プロセスＣ２に対し、遷移通知を発行する(4)。 - 特許庁

To manufacture a varicap which reduces a parasitic resistance between a cathode and an anode, suppresses the increase of the two-dimensional area of a device to the minimum limit, also suppresses an additional process in an LSI process to the minimum limit, and has a high accuracy and little variation.例文帳に追加

カソード−アノード間の寄生抵抗を低減し、デバイスの２次元的な面積の増大を最小限に抑え、ＬＳＩ工程における追加工程を最小限に抑えることができ、ばらつきの少ない高精度なバリキャップを製造する。 - 特許庁

During a system power-off process, a save area for storing the data required to start a system is created within an OS managing area on a RAM rendered nonvolatile by a battery backup or the like, and after the data required on a ROM is saved, the system power is turned off.例文帳に追加

システム電源ＯＦＦ処理時、バッテリーバックアップなどで不揮発化したＲＡＭ上のＯＳ管理領域内に、システム起動に必要となるデータを格納する退避領域を作成し、ＲＯＭ上の必要なデータを退避した後、システム電源をＯＦＦする。 - 特許庁

To provide a method and apparatus of plasma surface treatment which can execute large area/equalizing processing by effectively solving a standing wave problem in application of VHF plasma and UHF plasma to a large area/equalization process.例文帳に追加

ＶＨＦプラズマ及びＵＨＦプラズマの大面積・均一化プロセスへの応用において、定在波問題を効果的に解決することにより、大面積・均一化処理が可能なプラズマ表面処理方法及び表面処理装置を提供すること。 - 特許庁

For the next and subsequent subject images, if face image detection is carried out in an area corresponding to an area around the face image detected, a face image detection process is performed using a second threshold value that is lower than the first threshold value.例文帳に追加

次以降の被写体像においては，検出された顔画像の周囲のエリアに対応するエリアの顔画像検出が行われる場合には，第１のしきい値よりも低い第２のしきい値を用いて顔画像検出処理が行われる。 - 特許庁

A logical addition of outputs of the comparators 64 and 65 is calculated with an OR circuit 68, and a signal which is generated by extending the result of the calculation with a dot area extending process part 69 is outputted as a dot area signal (AMI).例文帳に追加

そして、比較器６４と６５との出力の論理和をＯＲ回路６８で算出し、その算出結果に対し網点領域拡張処理部６９による拡張処理を施した信号を網点領域信号（＿ＡＭＩ）として出力する。 - 特許庁

In the gas phase synthesis process, since an oxide powder having a structure in which a primary particle with a nanosize is normally aggregated in a chain-shape is provided, a contact area between primary particles is small, the growth of a particle is suppressed, and a decrease in specific surface area is suppressed.例文帳に追加

気相合成法によれば、一般にナノサイズの一次粒子が鎖状に凝集した構造の酸化物粉末となるので、一次粒子どうしの接触面積が小さく粒成長が抑制され、比表面積の低下が抑制される。 - 特許庁

A face area detection unit 21 analyzes a target image TI, input to the printer 1, to be an object for face correction process, and detects a face area FA including a face image where a face part of a person on the target image TI is photographed.例文帳に追加

顔領域検出部２１は、プリンタ１に入力された、顔補正処理の対象となる対象画像ＴＩを解析し、対象画像ＴＩ上の人物の顔部分が写っている顔の画像を含む顔領域ＦＡを検出する。 - 特許庁

In this process, work and the pseudo RAM area are allocated to a continuous area containing a head address of the RAM 116 while a stack is so allocated as to get a sequential data accumulated on the side where the address is lessened with a final end address as a starting point.例文帳に追加

この時、ＲＡＭ１１６の先頭アドレスを含む連続領域にワークおよび疑似ＲＡＭ領域を割り当てるとともに、終端アドレスを開始点としてアドレスが小さくなる側に順次データが蓄積されるようにスタックを割り当てる。 - 特許庁

(4) Prefectural governors shall engage in the consultation provided for in the preceding paragraph from the stance of a wider area beyond the area of one municipality, or from the stance of compliance with city plans that the Prefecture has stipulated or is in the process of stipulating. 例文帳に追加

４　都道府県知事は、一の市町村の区域を超える広域の見地からの調整を図る観点又は都道府県が定め、若しくは定めようとする都市計画との適合を図る観点から、前項の協議を行うものとする。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

To provide a pipe-cleaning mechanism for an MOCVD apparatus to keep an effective cross-sectional area of exhaust piping constant at all times, by transferring a product produced in the exhaust piping to an area which is not affected by a process, without the need for removing the exhaust piping.例文帳に追加

ＭＯＣＶＤ装置において、排気配管を取り外すことなく、排気配管の生成物をプロセスの影響のない領域まで移動させ、排気配管の有効な断面積を常に一定に保持する配管清掃機構を提供する。 - 特許庁

In the case of performing the regeneration process (enriching of an air-fuel ratio) of a NO_x adsorbing catalyst provided in an exhaust system, the post injection is executed when an engine operating condition is in a predetermined low load area and in a predetermined high load area.例文帳に追加

排気系に設けられたＮＯｘ吸着触媒の再生処理（空燃比リッチ化）を行う場合において、エンジン運転状態が所定低負荷領域にあるとき、及び所定高負荷領域にあるとき、ポスト噴射が実行される。 - 特許庁

To provide a finishing solution for a planographic printing plate using an aluminum plate which imparts high ink receptivity to the image area while improving the ink stain of the non-image area as the substrate and utilizing a silver complex salt diffusion transfer process.例文帳に追加

本発明の目的は、非画像部のインキ汚れを改善しつつ、同時に画像部に高いインキ受理性を持たせるアルミニウム板を支持体とする銀錯塩拡散転写法を利用した平版印刷版の仕上げ液を提供することである。 - 特許庁

In the producing process of a wiring board for a semiconductor package, a circuit pattern forming area is imprinted on an insulating substrate 100 by etching and then a circuit pattern 110 is formed by filling the circuit pattern forming area with a metallic material.例文帳に追加

絶縁基板１００に陰刻形態にインプリントされた回路パターン形成領域を先に作った後、前記回路パターン形成領域を埋め込む金属材質の回路パターン１１０を形成する半導体パッケージ用の配線基板の製造方法。 - 特許庁

A suspension trigger process function 10 which is periodically triggered records the in-connection AP in the scanned AP storage unit 24 if it is within an AP area, but records the home AP in the scanned AP storage unit 24 if it is outside the AP area.例文帳に追加

周期的に起動されるサスペンド起動処理機能１０は、ＡＰ圏内であれば、前記接続中ＡＰをスキャン対象ＡＰ記憶部２４に記録し、ＡＰ圏外であれば、前記ホームＡＰをスキャン対象ＡＰ記憶部２４に記録する。 - 特許庁

An insertion process inhibition area 14 is so set that the operation of an insertion machine tool for processing of a lead wire of inserted parts does not interfere with the surface mounting type parts 10, and its area is changed in accordance with the height of the surface mounting type parts 10.例文帳に追加

挿入工程禁止領域１４は、挿入部品のリード線の処理を行う挿入機工具の動作が表面実装型部品１０と干渉しないように設定し、表面実装型部品１０の高さに応じて広さを変える。 - 特許庁

To protect carbon from separation from the exposed surface of a recess area due to the plasma used for the ashing when such ashing of a resist film at the upper part of a SiOCH film is conducted to a wafer having the SiOCH film to which the recess area is formed by the etching process.例文帳に追加

エッチングによって凹部の形成されたＳｉＯＣＨ膜を有するウェハに対してＳｉＯＣＨ膜の上方のレジスト膜のアッシングを行うにあたり、アッシングに用いられるプラズマによって前記凹部の露出面から炭素を脱離させないこと。 - 特許庁

The printer controller calculates a drawing area for each of the groups obtained in the grouping process, and distributes the groups into a number of parallel processes to be executed by a plurality of processing units based on the calculated drawing area of each group (S104).例文帳に追加

そして、プリンタコントローラは、グループ分けで得られた複数のグループの各々について描画面積を算出し、算出された各グループの描画面積に基づいて、複数のグループを複数の処理部による並列処理数に振り分ける（Ｓ１０４）。 - 特許庁

To provide a filter element of which the cross-sectional area of each of an inlet side fluid passage and an outlet side fluid passage is adjusted to an optimum area corresponding to the liquid to be filtered, and also to provide a production process by which this filter element can be produced with a simple sealing stage.例文帳に追加

ろ過すべき流体に応じて、入口側と出口側の流体通路を最適の断面積とすることのできるフィルターエレメント、および、そのフィルターエレメントを簡単な目封止工程で製造することのできる製造方法を提供する。 - 特許庁

Next, the wiring protecting metal film 9 in other than the area under the columnar electrode 10 is removed by the etching process with the columnar electrode 10 as a mask to expose the upper surface of the wiring 8 in other than the area under the columnar electrode 10.例文帳に追加

次に、柱状電極１０をマスクとして、柱状電極１０下以外の領域における配線保護金属膜９をエッチングして除去し、柱状電極１０下以外の領域における配線８の上面を露出させる。 - 特許庁

To provide a printing process of photoprinter sheet in which a non-image print area provided at the circumferential edge part of an image print area can not only be cut off but also be utilized effectively, and to provide a printed matter.例文帳に追加

画像印刷領域の周縁部に設けられた非画像印刷領域を画像印刷後に切り取るだけでなく、この非画像印刷領域を有効利用することのできるフォトプリンタ用紙の印刷方法および印刷物を提供すること。 - 特許庁

The logic area and the memory cell area are commonly polished so that the gate electrodes of the logic transistor and the access transistor are exposed in the manufacturing method, which includes a process for polishing the laminated insulation film on the source and the drain of the access transistor.例文帳に追加

製造方法においては、ロジックトランジスタとアクセストランジスタのゲート電極が露出するようにロジック領域とメモリセル領域を共通に研磨し、併せてアクセストランジスタのソース、ドレイン上の積層絶縁膜をも研磨する工程を含む。 - 特許庁

In jointing an adherend 1 and an adherent object 2 with an energy-curable adhesive 3, air bubbles 4 are charged in the adhesion area in a predetermined density gradient and the progress of the hardening process is varied by stages in the adhesion area.例文帳に追加

被接着物１と接着物２をエネルギー硬化型接着剤３によって接合するときに、所定の密度勾配を持たせて気泡４を接着領域内に充填し、硬化プロセスの進度を接着領域内で段階的に変化させた。 - 特許庁

By the game machine constituted in such a manner, since the rotating body is adopted, a player can watch the situation that a game ball is guided to an advantageous area or a disadvantageous area by the rotating body and the process of reaching the big winning is enriched.例文帳に追加

このように構成された遊技機によれば、回転体を採用しているため、遊技者は、遊技球が回転体により有利領域または不利領域へと誘導される様子を見ることができ、大当りに至るプロセスが豊かになる。 - 特許庁

In the cold drawing method having at least three steps of the cold drawing process, only when a reduction of area in the former step of the cold drawing is approximately two times larger or more than the reduction of area in the following step of the cold drawing process, a heat treatment to remove internal distortions of the materials to be processed is executed among these cold drawing processes.例文帳に追加

少なくとも３段の冷間引抜き工程を有する冷間引抜き方法において、前段の冷間引抜き工程の減面率が次段の冷間引抜き工程の減面率より約２倍以上大きいときにのみ、これら冷間引抜き工程の間で、被加工材の内部ひずみを除去するための熱処理を行う。 - 特許庁

The phosphor-powder application process of the light-emitting diode comprises the steps of providing a chip, forming a photoresist layer so as to cover the chip, exposing a phosphor powder application area on the chip by patterning the photoresist by the optical lithography process, and filling phosphor powder containing resin to the area.例文帳に追加

チップを提供するステップと、前記チップを覆うようにフォトレジストの層を形成するステップと、光リソグラフ処理によって、前記フォトレジストをパターン化して、前記チップ上に蛍光粉を塗布する区域を露出させるステップと、蛍光粉入り樹脂を前記区域に充填するステップと、を備える発光ダイオードの蛍光粉塗布工程を提供する。 - 特許庁

A process for storing color information 83, 85 relating to an arbitrary area designated via a pointer within an editing image area, and a process for clearly displaying a mark for specifying a color coordinate responding to the color information onto a position on a hue circle or a hue bar chart prepared for color adjustment are to be executed as a color adjustment technology.例文帳に追加

色調整技術として、編集画像領域内でポインタを通じて指定された任意の領域に関する色情報を保存する処理と、色情報に対応する色座標を特定する印を、色調整用に用意された色相環又は色相バーチャート上の該当位置に明示的に表示する処理とを実行するものを提案する。 - 特許庁

Information related with a programming/re-programming process is read according to each programming/re-programming process of a programmable memory device, and stored in the independent memory area of the memory device capable of being only programmed, and the contents of the independent memory area are read and compared with prescribed information so that the operation can be confirmed.例文帳に追加

プログラミング可能なメモリ装置の各プログラミング／再プログラミングに伴って，プログラミング／再プログラミングプロセスに関する情報が，読み出され，かつプログラミングされることのみが可能な，メモリ装置の独立したメモリ領域に格納され，前記独立メモリ領域の内容が読み出されて，所定情報と比較されることにより操作が確認される。 - 特許庁

The calculation step 3 comprises processes which repeat the process calculating contact condition at least between a bead bottom surface and the rim from the tire model expanded and deformed by the internal pressure condition, and a process renewing the internal pressure operation area so that the internal pressure acting on a non-contacting area with a rim of a bead bottom surface till the contact condition becomes constant.例文帳に追加

計算ステップＳ３は、内圧条件により膨張変形したタイヤモデルから、少なくともビード底面とリムとの間の接触状態を計算する処理と、ビード底面のリムとの非接触域に内圧が作用するように前記内圧作用領域を更新する処理とを前記接触状態が一定になるまで繰り返す工程を含む。 - 特許庁

The disclosed method subjects each of the frames in the input image to image composition including conversion, cutout, and expansion, by use of the conversion matrix of each frame generated by the generation process of the conversion matrix, the cutout area identified by the identification process of the cutout area, and the resolution of the input image.例文帳に追加

また、開示の方法は、変換行列を生成する処理により生成されたフレームごとの変換行列と、切り出し領域を特定する処理により特定された切り出し領域と、入力映像の解像度とを利用して、入力映像におけるフレームのそれぞれに対して変換、切り出し及び拡大を含む画像合成を行う。 - 特許庁

(1) A person may, without infringing a patent, do an act that exploits a product, method or process and would infringe the patent apart from this subsection, if immediately before the priority date of the relevant claim the person: (a) was exploiting the product, method or process in the patent area; or (b) had taken definite steps (contractually or otherwise) to exploit the product, method or process in the patent area. 例文帳に追加

(1) 何人も，関連するクレームの優先日直前に，その者が， (a) 当該特許分野において製品，方法又は工程を実施していた，又は (b) 当該特許分野においてその製品，方法又は工程を実施するために，(契約又はその他の方法によって)一定の準備をしていた場合は， 当該特許を侵害することなく，その製品，方法又は工程を実施し，本項とは別に当該特許の侵害となるような行為をすることができる。 - 特許庁

To provide a masking magnet jig in which small magnet pieces embedded in a pattern before a cleaning process need not be removed in a cleaning process after the vapor deposition, the pattern forming area is not limited, and a plurality of plate masks are excellent in adhesion.例文帳に追加

マスキング磁石治具において、蒸着後の洗浄工程においても洗浄工程の前にパターン中に埋め込まれた磁石小片を取り除く必要もなく、しかもパターン作成面積が制約されることもなく、複数板マスクが密着性を良好にする。 - 特許庁

To provide a method and device for washing a substrate capable of performing high-quality washing treatment by performing an etching process and a rinsing process respectively in the state of covering the whole area of the surface of the substrate with etching reagent or pure water.例文帳に追加

基板表面の全域をエッチング液または純水で覆った状態でエッチング工程およびリンス工程をそれぞれ行うことができ、これにより高品質な洗浄処理を行えるようにした基板洗浄方法および基板洗浄装置を提供する。 - 特許庁

The film pattern forming method, which forms a film pattern by locating a functional liquid on a substrate, includes a process which forms a bank B on the substrate P and a process which locate the functional liquid L in an area sectioned by the bank B.例文帳に追加

本発明の膜パターンの形成方法は、基体上に機能液を配置することにより膜パターンを形成する方法であって、基体Ｐ上にバンクＢを形成する工程と、バンクＢによって区画された領域に機能液Ｌを配置する工程とを有する。 - 特許庁

The method has a process for selecting the 3-dimensional tool model which is equivalent to a geometry prototype for being pressed on the 3-dimensional targeted model, and a process for deforming the targeted model according to a face deformation procedure which is to smoothen the tool model within an area of the targeted model.例文帳に追加

３次元ターゲットモデル上に押し当てるための形状原型に相当する３次元のツールモデルを選択する工程と、ターゲットモデルの領域内にあるツールモデルを平滑化する表面変形手順に従ってターゲットモデルを変形する工程とを有している。 - 特許庁

For a local SDRAM 100 where a memory area is divided into a plurality of banks, if there are consecutive access requirements to the same bank, an SDRAM controller 50 holds off the process thereof and preferentially processes the access requirements of the other process of the highest priority.例文帳に追加

ＳＤＲＡＭコントローラ５０は、メモリ領域が複数のバンクに区分されたローカルＳＤＲＡＭ１００に対して、同一バンクに連続したアクセス要求があった場合には、その処理を後回しにして、優先順位の最も高い他の処理のアクセス要求を先に処理する。 - 特許庁