「Process Area」に関連した英語例文の一覧と使い方(23ページ目) - Weblio英語例文検索

The procurement amount is checked if the obtained procurement amount satisfies an operation restriction of a transmission line or not, and a procurement amount calculation process (S706) for each area is performed when the operation restriction is not observed.例文帳に追加

得られた調達量が送電線の運用制約を満足しているかのチェックを行い、運用制約違反の場合には、エリア別の調達量算出処理を行う（Ｓ７０６）。 - 特許庁

To provide information for supporting an operation of a manager of a dam that performs a process of a countermeasure against floods at a downstream area on the basis of prediction data of a flow-in amount to the dam with high accuracy.例文帳に追加

精度の高いダムの流入量の予測データに基づいて、下流域の洪水対策処理を行うダム管理者の操作を支援するための情報を提供する。 - 特許庁

This masking device executes a first masking process on an analog image signal from an image pickup device in the both sides of an image signal section S1 and defines the image signal of the first masking area M1 as a pedestal level L1.例文帳に追加

撮像素子からのアナログ画像信号に対して、映像信号部Ｓ１の両側に第１のマスク処理を施し、第１マスク領域Ｍ１の映像信号をペダスタルレベルＬ１とする。 - 特許庁

When the presence of the damage is evaluated in the first process, the measuring terminals are further arranged with a narrow interval in the area to detect precisely the occurrence position of the damage.例文帳に追加

第一の工程で損傷ありと評価された場合には、該領域にさらに測定用端子をより狭い間隔で追加配置し、より精度高く損傷発生の位置を検出する。 - 特許庁

The shower plate, through which both cleaning gas and reaction source gas flow, may include a hole machined surface area with a size different than conventionally used to ensure a good film thickness uniformity during a deposition process.例文帳に追加

クリーニングガス及び反応ガスの両方が通過するシャワープレートは従来と異なるサイズの孔切削表面を有し、膜堆積処理中に良好な膜厚均一性を保証する。 - 特許庁

(1) In the preparation process of an aluminate fluorescent body for luminous materials, aluminum hydroxide having a BET specific surface area of ≥100 m2/g is calcined as a raw material.例文帳に追加

（１）ＢＥＴ比表面積が１００ｍ^2／ｇ以上の水酸化アルミニウムを原料として、焼成することを特徴とする蓄光材用アルミン酸塩系蛍光体の製造方法。 - 特許庁

In that case, alignment can be performed by redetermining the position of the alignment mark 6a only once, and by using the stored position information on the position of the process area during the processing.例文帳に追加

この場合に、アライメントは、加工時にアライメントマーク６ａの位置を１回だけ再測定し、加工領域の位置に関する保存された位置情報を使用することにより行うことができる。 - 特許庁

If the program or dependent library is not updated from the time when the data are stored, then the data area stored is copied after a relocation process is executed if a load address is not the same as when the data is stored.例文帳に追加

保存した時点からプログラムや依存ライブラリに変更がなければ、ロードアドレスが保存時と異なっていれば再配置処理を行ったのち、保存したのデータ領域をコピーする。 - 特許庁

To provide a field emission type electron source whereon a cost can be reduced, an area can be enlarged, and a manufacturing process having a comparatively high temperature can be adopted.例文帳に追加

低コスト化および大面積化を図れ且つ比較的高温の製造プロセスを採用可能な電界放射型電子源およびその製造方法および表示装置を提供する。 - 特許庁

A wiring layer of this biosensor is formed in a wiring-layer depiction process (step S11) for discharging liquid drops for wiring that includes wiring material into a wiring formation area on a mother plate.例文帳に追加

バイオセンサの配線層は、配線材料を含む配線用液滴をマザープレートの配線形成領域に吐出する配線層描画工程（ステップＳ１１）によって形成される。 - 特許庁

To provide an electron-emitting element of a field emission type, achieving a small electron beam diameter, a large electron emission area, highly efficient electron emission at a low voltage, and an easy manufacturing process.例文帳に追加

電子ビーム径が小さく、電子放出面積が大きく、低電圧で高効率な電子放出が可能で、製造プロセスが容易な電界放出型の電子放出素子を提供する。 - 特許庁

A change-over signal generator 12 obtains correction area information combining coordinates of rectangular areas and the image processing circuit to process the inside for plural areas from the personal computer or the like.例文帳に追加

切替信号発生器１２は、パーソナルコンピュータ等から、矩形領域の座標と、その内部を処理すべき画像処理回路を組み合わせた補正領域情報を複数領域分取得する。 - 特許庁

To contrive low voltage by enlarging a coupling ratio value without sacrificing the increase of a chip area and the operation characteristic of an element and without increasing any manufacturing process.例文帳に追加

チップ面積の増加や素子の動作特性を犠牲にすることなく且つ製造工程を増やすことなく、カップリングレシオの値を大きくすることにより、低電圧化を図れるようにする。 - 特許庁

In an exhausting process of exhausting gas inside from an exhaust hole 5, getters are locally heated for activation sequentially from one located at an area with a larger exhaust conductance up to the exhaust hole 5.例文帳に追加

排気孔５から内部のガスを排気する排気工程において、排気孔５までの排気コンダクタンスがより大きい領域に位置するゲッタから順次局所加熱して活性化する。 - 特許庁

To provide an electroless plating apparatus for plating an article having a micro-area such as a microelectrode of 1 cm^2 or smaller in a process for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイス製造工程における１ｃｍ^２以下の微小電極のような微小面積の被めっき物へのめっきを可能とする無電解めっき装置を提供する。 - 特許庁

To provide a firm low-inductance electronic package for small-area semiconductor chip, and to provide an assembling and packaging method adaptable to a low-cost mass-producing process and apparatus.例文帳に追加

小面積半導体チップ用の強固な、低インダクタンス電子パッケージならびに、大量かつ低費用の製造プロセスおよび装置に適合する、組み立ておよびパッケージング方法が提供される。 - 特許庁

To provide the semiconductor laser device of high reliability and satisfactory temperature characteristics in the semiconductor laser device, having a window structure area using the random process of a quantum well structure.例文帳に追加

量子井戸構造の無秩序化プロセスを用いた窓構造領域を有する半導体レーザ装置であって、高い信頼性、良好な温度特性の半導体レーザ装置を得る。 - 特許庁

An air current is jetted to the filmy particulates sticking on the lifted substrate to control the rate of a drying process and the expansion direction of a dried area.例文帳に追加

引き上げられた基板に付着して膜状になった微粒子に対し気流を噴射することによって乾燥工程の速度および乾燥領域の移動方向を制御する。 - 特許庁

To shorten a manufacturing process of a TFT array substrate wherein an overlapping area is formed between a pixel electrode and a common electrode to drive liquid crystal molecules in a plane view.例文帳に追加

液晶分子を駆動するための画素電極と共通電極が、平面視上、重畳領域を有するＴＦＴアレイ基板において、製造工程の短縮化を実現する。 - 特許庁

To provide a homogeneous nanostructure having a large area and a manufacturing method for the nanostructure capable of being performed by an inexpensive and simple process.例文帳に追加

大面積で均質なナノ構造を有するナノ構造体および安価で簡便なプロセスによって行うことができるナノ構造体の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor device provided with a MIM capacitor having a large capacity and requiring a small occupation area without the provision of an additional lower electrode forming process.例文帳に追加

下部電極形成工程を別途設けることなく、少ない占有面積で大きな容量を持つＭＩＭキャパシタを備えた半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method that can stably manufacture an epitaxial cobalt side layer in a vacuum area to be normally employed in a semiconductor mass production process without aggregation and spikes.例文帳に追加

凝集及びスパイク欠陥のないエピタキシャルコバルトシリサイド層を、半導体の量産プロセスにおいて通常用いられている真空度領域において安定して形成できるようにする。 - 特許庁

In the Chile Process of 2004, the APEC Business Advisory Committee (ABAC), consisting of private business representatives of the member countries, proposed a review for the feasibility of a Free Trade Area of the Asia-Pacific (FTAAP).例文帳に追加

2004 年チリプロセスでは、参加メンバーのビジネス界の代 表 者で構 成されるAPECビジネス諮問委員会（ABAC）によって、アジア太平洋の自由貿易圏（FTAAP）の 実現可能性の検討が提 言され た。 - 経済産業省

To provide an image forming device capable of stably keeping the layer thickness of a developer to be conveyed to a developing area, and to provide a developing device and a process cartridge which are mounted on the image forming device.例文帳に追加

現像領域に搬送する現像剤の層厚を安定して維持可能な画像形成装置、及びこれに搭載される現像装置、プロセスカートリッジを提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing semiconductor crystal by which a large-area GaN crystal can be manufactured and various problems caused by ELO growth using an ordinary mask layer can be avoided, and then, the manufacturing process of the GaN crystal can be simplified.例文帳に追加

大面積のＧａＮ結晶を得ること、及び通常のマスク層を用いるＥＬＯ成長に起因する種々の問題を回避し、かつ製造工程の簡略化を図ること。 - 特許庁

Accordingly, the fixed contact 4 with the protrusion 12 has a narrow contact area with a high surface pressure, thereby contact reliability is enhanced just as roughening by a shot blast process in the prior art.例文帳に追加

因って、突出部１２を備えた固定接点１２は、接触面積が狭く面圧が高いので、従来からのショットブラスト加工による粗面化と同様に接触信頼性を高くしている。 - 特許庁

When input is performed for a touch pad by a stroke in a process for a step S34, the first locus for the stroke is displayed with a full size in an area with a first space.例文帳に追加

ステップＳ３４の処理において、タッチパッドへのストロークによる入力があった場合、第１の大きさの領域に、ストロークに対して原寸の第１の軌跡が表示される。 - 特許庁

A BCA manufacturing process can be reduced by using a pit formation method which is similar to a user data area.例文帳に追加

しかし、このような方法では、ディスク製造工程にＢＣＡ形成用に個別の工程を設けざるを得ず、ディスクの生産工数、更には製造コストの観点で、ディスク生産者の負荷が大きい。 - 特許庁

A sheet of material suitable for bending using the process also is disclosed, as are the use of coatings, shin guards and displacing the area of the sheet between bending inducing slits.例文帳に追加

かかる加工法を用いる曲げ加工に適した材料のシートも又、被膜の使用、シンガードの使用、及び曲げ加工誘導スリット相互間のシートの領域の変位と同様に、開示される。 - 特許庁

To reduce fiber microbending in insert parts of a top part and a bottom part in a crimping area during a crimping process so that attenuation of a fiber is reduced.例文帳に追加

かしめプロセスの間に、かしめ領域における頂部及び底部の挿入部分の内部におけるファイバー微小屈曲を減少させ、かくしてファイバーの減衰を少なくさせる。 - 特許庁

To provide a document management method capable of dispensing with large volumes of storage area in a server, and to allow a customer to process a document by a user's terminal even when the server has problems, without constructing a system of large scale.例文帳に追加

大規模システムを構築することなく、サーバに大容量の記憶領域を不要とし、サーバに問題があっても顧客が自己端末で文書を扱える文書管理方式。 - 特許庁

In the process for treating the scrap wood, the scrap wood is treated to increase its combustibility in terms of combustion heat and/or specific surface area and its pneumatic-transportation suitability, and charged into the blast furnace.例文帳に追加

廃木材を処理して、燃焼カロリーおよび／または比表面積によって表される燃焼性、ならびに、気送性を高め、高炉に装入する廃木材の処理方法。 - 特許庁

To provide an active matrix substrate by which any of a high pixel aperture ratio, a further larger thin-film transistor (TFT) manufacturing process margin, a small peripheral circuit layout area, and a long service life is obtained.例文帳に追加

高い画素開口率と、更に広いＴＦＴ製造プロセスマージン、小さな周辺回路レイアウト面積、長い寿命、のいずれかを実現するアクティブマトリクス基板を提供する。 - 特許庁

To provide an input protective circuit with good dielectric breakdown strength without a modification in manufacturing process while an increase in area of the input protective circuit is reduced.例文帳に追加

入力保護回路の占める面積の増加を抑え、製造工程の変更等を伴わずに製造でき、静電気破壊耐性を十分に有した入力保護回路を提供することにある。 - 特許庁

In the separating process, the part of the 1st substrate 1 where the display panel 7 is formed is cut from the laminated body 4 while avoiding the outer peripheral parts and inner area coated with the adhesives 3.例文帳に追加

分離工程は、接着剤３が塗工された外周部及び内部領域を避けて表示パネル７が形成された第一基板１の部分を積層体４から切り出す。 - 特許庁

To provide a process for easily peeling a laminated material enabling easy peeling of even an adherend having large area, scarcely leaving residual adhesive on the peeled face and enabling the reuse of the adherend.例文帳に追加

剥離時に糊残りが生じ難く、被着体の再利用が可能であり、大面積の被着体であっても容易に剥離することができる、積層接合体の剥離方法を提供する。 - 特許庁

The method of treating shredder dust is comprised of the process of classifying dust content including plastics, rubber and fibers as main components from the shredder dust, the process of heating and pressing the dust content and forming several kinds of solidified material groups, each having different means specific surface area or mean density and the process of feeding the solidified material groups in the mixed state in to a metal melting furnace.例文帳に追加

シュレッダーダストからプラスチック類、ゴム類および繊維類を主体としたダスト分を選別する工程と、当該ダスト分を加熱圧縮して、比表面積ないし密度の平均値が異なる複数種の固化物群を成形する工程と、当該固化物群を混在させて金属溶解炉に投入する工程とを有している。 - 特許庁

A colored layer applying process for applying and forming a negative photosensitive material 13 for a colored layer on a substrate 10A for forming the color filter, an exposure process for collectively exposing a colored layer forming area via the exposure mask 20 by a proximity exposure method and a processing process of developing, drying and baking treatment are performed to form the colored layer.例文帳に追加

カラーフィルタ形成用基板１０Ａに、ネガ型の感光性の着色層用材料１３を塗布形成する着色層塗布工程と、着色層形成領域をプロキシミティ露光方法により露光用マスク２０を介して一括露光する露光工程と、現像処理、乾燥、ベーキング処理のプロセス処理工程とを行い、着色層を形成する。 - 特許庁

To provide an electrostatic chuck of vacuum processing device, a vacuum processing device comprising it and a method for manufacturing the electrostatic chuck capable of easily stabilizing a manufacturing process and coping with making into extra large size area by diversifying the forms of protruding parts in compliance with the characteristics of the process and by simplifying the manufacturing process for the electrostatic chuck having the protruding part.例文帳に追加

突起部の形状を工程の特性に応じて多様化することができ、突起部を有する静電チャックの製造工程を単純化し、製造工程の安定化と超大型面積化への対応が容易な真空処理装置の静電チャック、それを有する真空処理装置、及び静電チャックの製造方法を提供する。 - 特許庁

This method of measuring the protein contained in the sample includes a process for bringing the sample, a pigment forming a product associated with the protein, and a water-soluble polymer compound into contact, a process for adding a fixed amount thereof on a porous membrane after the contact, and a process for measuring a colored area on the porous membrane.例文帳に追加

本発明は、試料、タンパク質と会合体を形成する色素、及び水溶性高分子化合物を接触させる工程；前記接触後その一定量を多孔性膜上に添加する工程；並びに前記多孔性膜上の着色域を測定する工程、を含むことを特徴とする試料中のタンパク質の測定方法である。 - 特許庁

The process employs the use of at least one population of a solid porous particle which comprises a minimized external surface area per unit volume of the particles and an internal surface area per unit volume which is not decreased by more than 25% relative to a population of a similar particle which does not have a minimized external surface area.例文帳に追加

このプロセスは、粒子の単位体積当たりの最小化された外部表面積および（最小化された外部表面積を有さない同様の粒子の集団と比較して２５％を超えて減少していない）単位体積当たりの内部表面積を含む固体多孔性粒子の少なくとも１つの集団の使用を利用する。 - 特許庁

Impurity diffusion is computed by adding to an interface a virtual film of the same material as that of a neighboring area which was taken into consideration in original computation, but excluded from a computation area because of area limitation for shortening a computation time, an impurity concentration of an original structure is updated from the computation result, and data of the virtual film is discarded in transition to a following process.例文帳に追加

元々の計算では考慮されていたが、計算時間を削減するための領域限定により計算領域から除外された隣接領域と同一材質の仮想膜を界面に付加して不純物拡散の計算を実行し、計算結果から元の構造の不純物濃度を更新し、後続のプロセスに移る際に仮想膜のデータを破棄する。 - 特許庁

The destination computer 200 is composed of a movement destination file storage area 220 for acquiring to store the file to be moved from the source computer 100; and a movement destination watching process 210 for reading the file stored in the work area 302 of the storage device 300 to write and move it into the file storage area 220.例文帳に追加

移動先コンピュータ２００は、移動元コンピュータ１００からの移動させたいファイルを取り込み格納するための移動先ファイル格納領域２２０と、記憶装置３００のファイル移動作業領域３０２にあるファイルを読み込み移動先ファイル格納領域２２０に書き込み移動するための移動先監視プロセス２１０と、から構成されている。 - 特許庁

Then a deburring process is performed by moving the cutting edge 332 to a deburring height position and horizontally moving the chuck table 52 from the workpiece carry-in/out area E1 to the workpiece processing area E2 with the cutting edge 332 being rotated in the direction opposite to that in the heading process and thereby allowing the cutting edge 332 to cut into the electrodes from the other side and cut through toward the opposite side of them.例文帳に追加

つぎに、切れ刃３３２をバリ取り高さ位置に移動させ、この切れ刃３３２を頭出し工程時と逆方向に回転させた状態でチャックテーブル５２を被加工物搬入出域Ｅ１から被加工物加工域Ｅ２へ水平移動させることにより、電極の他側面側から切れ刃３３２を切り込ませ、一側面側へ切り抜けさせるバリ取り工程を行う。 - 特許庁

A parking condition when a vehicle was parked in a traveling process where the vehicle traveled a predetermined distance and more in the past is acquired, a scheduled traveling route from a departure place of the vehicle up to a destination is acquired, an area in which the parking condition may be reproduced in the traveling process of the scheduled traveling route is estimated, and map updating information in the estimated area is acquired.例文帳に追加

過去に車両にて所定距離以上走行した場合の走行過程において前記車両が駐車された場合の駐車条件を取得し、前記車両の出発地から目的地までの走行予定経路を取得し、前記走行予定経路の走行過程において前記駐車条件が再現される領域を推定し、前記領域の地図の更新情報を取得する。 - 特許庁