「Process Area」に関連した英語例文の一覧と使い方(24ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an activated carbon having a large specific surface area and a process for producing the same which does not employ conventional complicated processes but uses an easy and cost-effective process and utilizes hitherto unutilized biomass (particularly wooden unutilized biomass of such as Japanese ceder and Japanese cypress).例文帳に追加

従来の煩雑な工程を経ずに容易な工程で、未利用バイオマス（特に、杉やひのき等の木質系未利用バイオマス）を原料として活用することができ、しかもコストパフォーマンスに優れた、高比表面積を有する活性炭及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In this process, a subordinate CPU 206 selects a specific presentation pattern corresponding to the order of operation of stop control buttons 84a-84c from an operation order corresponding pattern selection table, and executes a process of setting the selected specific presentation pattern in a prescribed area of a work RAM 210.例文帳に追加

この処理において、サブＣＰＵ２０６は、操作順序対応パターン選択テーブルから、停止操作ボタン８４ａ〜８４ｃの操作順序に対応する特定演出パターンを選択し、選択された特定演出パターンをワークＲＡＭ２１０の所定領域にセットする処理を行う。 - 特許庁

To provide a light reflecting substrate which has no troublesome manufacturing process unlike a light reflecting substrate manufactured by a conventional powder sintering process, and which has a higher light reflectance than that of the light reflecting substrate and is adaptable to the use for a large-area light reflecting substrate.例文帳に追加

従来の粉末焼成プロセスによって作製された光反射基材のように製造プロセスが煩雑ではなく、当該光反射基材より高い光反射率を有し、かつ大面積の光反射基材用途にも対応可能な光反射基材を提供する。 - 特許庁

In conducting NOx discharge process of NOx absorbing catalyst and SOx removing process, the change gear ratio of a half troidal CVT is changed to cause the transition of operating condition of an engine to a high rotation and low load area, thereby raising the exhaust emission temperature and catalyst temperature.例文帳に追加

そして、ＮＯｘ吸収触媒のＮＯｘ放出処理又はＳＯｘ除去処理を行うときには、ハーフトロイダルＣＶＴの変速比を変更してエンジンの運転状態を高回転・低負荷領域に移行させ、排気ガス温度ひいては触媒温度を上昇させる。 - 特許庁

To provide a surface hydrophobing method that not only enables a hydrophobic process on the surface of a layer easily and efficiently, but also enables it in a deeper area of the layer without losing consistency with the subsequent process, and to provide a semiconductor device and a method for manufacturing the semiconductor device.例文帳に追加

その後の加工プロセスとの整合性を有し、層の表面をより簡便にかつ効率良く疎水化することができ、かつ、層のより深い領域を疎水化することができる表面疎水化方法、ならびに半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a process system which can uniformize the flow of gas and the form of a plasma, to provide a small processing system by the occupation area of the device, to reduce the loss of high-frequency power put in a high-frequency plasma process, and to generate and maintain the plasma efficiently.例文帳に追加

ガスの流れやプラズマ形状を均一にすることが可能であり、かつ、装置の占有面積が小さなプロセス装置を提供すること、高周波プラズマプロセスで投入した高周波電力の損失を減らし、効率的にプラズマを発生、維持させることが可能なプロセス装置を提供すること。 - 特許庁

This mounting method includes a process for integrally connecting a reinforcing plate 10 in size corresponding to a mounting area of parts by a connection means to a mounting spot screw locking the parts of a thin plate material C and a process for providing a screw-in hole of a tapping screw 4 in the mounting spot through the reinforcing plate 10.例文帳に追加

薄板材の、部品類を螺止する取付箇所に、その取付面積に対応した大きさの補強板を、接合手段により一体的に接合させる工程と、補強板を通して、取付箇所にタッピンねじの螺込孔を設ける工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a separator for a fuel cell capable of saving time and labor by simplifying an assembling process and a welding process of the separator for the fuel cell with a large area molded by press molding, and capable of enhancing welding quality and a yield by reducing welding defects.例文帳に追加

プレス成形で成形した大面積の燃料電池用セパレータの組立工程と溶接工程を容易化して時間と手間を節約でき、かつ溶接品質を高め、溶接欠陥を低減し歩留まりを高めることができる燃料電池用セパレータの製作方法を提供する。 - 特許庁

Then an electrode film 10 is plated on the surface of the dielectric block in an electrode film formation process, and in a facing process, a projected part other than the electrode pattern formation programming area is removed by removing the prescribed thickness from the surface of the dielectric block to pattern the electrode film 10.例文帳に追加

その後、電極膜形成工程で誘電体ブロック表面に電極膜１０をメッキし、面出し工程で誘電体ブロック表面の所定厚み分の除去によって電極パターン形成予定領域以外の突出部を除去して電極膜１０をパターンニングする。 - 特許庁

An insertion process inhibition area 23 is set for insertion type parts 20 corresponding to the insertion machine tool for processing of the lead wire 22, and surface mounting process inhibition areas 24 and 25 are set in accordance with the height of the surface mounting type parts in relation to the operation.例文帳に追加

（ｂ）に示すような挿入型部品２０に対しては、リード線２２の処理を行う挿入機工具に対応して挿入工程禁止領域２３を設定し、動作に関連して、表面実装工程禁止領域２４，２５を表面実装型部品の高さに応じて設定する。 - 特許庁

(2) When the Minister of Land, Infrastructure, Transport and Tourism is in the process of stipulating city plans concerning the policy for the improvement, development and preservation of city planning areas or concerning area classification, or when he is in the process of granting consent to the decision on or revision of such plans, he must consult with the Minister of the Environment in advance. 例文帳に追加

２　国土交通大臣は、都市計画区域の整備、開発及び保全の方針若しくは区域区分に関する都市計画を定め、又はその決定若しくは変更に同意しようとするときは、あらかじめ、経済産業大臣及び環境大臣の意見を聴かなければならない。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

To provide a liquid crystal display device which leaves no air bubble in a display screen area where an image is displayed by controlling air bubbles produced in a process of injecting liquid crystal during a manufacturing process of the liquid crystal display device, and a method of fabricating the same.例文帳に追加

本発明は液晶表示装置であって、液晶表示装置の製造過程中に液晶を注入する過程で発生する気泡を制御して画像が表示される表示画面領域に気泡が残存しないようにする液晶表示装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plating unit where respective units (apparatuses) continuously performing plating and its supplementary process are efficiently disposed in one and the same facility, so as to reduce its occupancy area, and further, the contamination of a substrate caused by a chemical used for the plating process or the like can be prevented.例文帳に追加

めっき処理及びそれに付帯する処理を連続的に行う各ユニット（機器）を同一設備内に効率的に配置して占有面積を減少させ、しかもめっき処理等に使用する薬品による基板の汚染を防止できるようにしためっき処理ユニットを提供する。 - 特許庁

The repairing method for the concrete water-passage wall includes a foundation treatment process for removing the weakened part of the wall including an area of the surrounding normal wall part to expose a sound part inside the normal concrete, and a coating process for coating the sound part with a mortar base material including an organic fiber.例文帳に追加

本発明のコンクリート製水路壁の補修工法は、脆弱化箇所とその周囲の正常な壁部位に及ぶ範囲を除去し、正常なコンクリート内部の健全部を露出させる下地処理工程と、健全部に有機繊維を含むモルタル基材を塗工する塗工工程とよりなる。 - 特許庁

In this case, a developing process is carried out without being affected by a flow of ambient air, so that the substrate can be subjected to a developing process with uniformity through its surface, and moreover a developing solution feeding nozzle or the like and an area for installing it are not required to be provided above the substrate, so that the processing device can be reduced in size.例文帳に追加

この場合、周囲の気流の影響を受けずに現像処理を行えるので面内均一な現像処理をすることができ、かつ基板の上方側に例えば現像液供給ノズルおよびその設置領域を必要としないので装置の小型化を図ることができる。 - 特許庁

To simplify a manufacturing process by reducing an element area by allowing an electrode of a pad to be formed on a so-called back side (light incident side), and allowing structures of an alignment mark and a contact part to be manufactured in the same process by forming the structures with the same material.例文帳に追加

本発明は、パッドの電極をいわゆる裏面側（光入射側）に形成することを可能にして素子面積を縮小し、アライメントマークとコンタクト部の構成を同一材料とすることで、同一工程で製造することを可能にして、製造工程を簡略化することを可能にする。 - 特許庁

Brightness data of each pixel of a point defect or a strain defect having a smaller area than an irregular defect in the image data acquired in the inspection image acquisition process is replaced with an interpolation value based on brightness data of a peripheral pixel, to thereby repair the non-evaluation object defect species (point/strain defect repair process ST200).例文帳に追加

検査画像取得工程にて取得された画像データ中でムラ欠陥よりも面積が小さい点欠陥、シミ欠陥の各画素の輝度データを周囲の画素の輝度データに基づく補間値で置き換えてこの非評価対象欠陥種を修補する（点・シミ欠陥修補工程ＳＴ２００）。 - 特許庁

A distance A between the inside circumferential corner section and outside circumferential corner section is compared with a reference value X set in advance in an area having an plane L-shaped bending section among wall surfaces, if it is A≥X, a notch process (a) or if it is A<X, a partition process (b) is selected to execute.例文帳に追加

壁面のうち平面Ｌ字形の屈曲部を有する領域で、屈曲部の内周角部と外周角部との距離Ａと予め設定された基準値Ｘとを比較し、Ａ≧Ｘであれば切欠工程(a) 、Ａ＜Ｘであれば分割工程(b) を選択して実行する。 - 特許庁

To provide a process for preparing a platinum or platinum alloy powder for forming a metal powder having a finely and uniformly divided particle size, a large surface area and a low chlorine content and also to provide a platinum or platinum alloy powder prepared by the process.例文帳に追加

均一に微細分割された粒子サイズ、大きな表面積および低塩素含量を有する金属粉末を生成する白金または白金合金の粉末を調製するためのプロセス、ならびにこのプロセスによって調製される白金または白金合金の粉末の提供。 - 特許庁

Since the performance of a retention or the like does not depend on the thickness of the gate oxide membrane by allowing the insulating membrane side spacer of a transistor to be a charge accumulation area, a product is manufactured without changing the manufacturing process at all even in the process of a micro CMOS transistor of 100 nm or less.例文帳に追加

トランジスタの絶縁膜サイドスペーサを電荷蓄積領域とすることにより、リテンション等の性能がゲート酸化膜厚に依存しないため、１００ｎｍ以下の微細ＣＭＯＳトランジスタプロセスにおいても、製造工程を全く変更することなく製造可能となる。 - 特許庁

The method includes a process where a molded form is obtained by press-molding metal particles of a predetermined composition in a magnetic field, and a process where the molded form is sintered in a state that it is held in a sintering container whose area above 50% of an outside surface has a surface roughness Ra below 1.0 μm.例文帳に追加

所定組成の金属粉末を磁場中にて加圧成形して成形体を得る工程と、その外表面の５０％以上の領域が１．０μｍ以下の表面粗度Ｒａを有する焼結容器内に成形体を収容した状態で焼結する工程と、を備える。 - 特許庁

To provide a compound semiconductor crystal base material which is produced by an epitaxial growth process without requiring an additional process and reduces planar defects such as anti-phase area boundary planes or twins, which are formed in the epitaxially grown crystal, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

エピタキシャル成長以外の付加的な工程を必要とせず、かつエピタキシャル成長させた結晶内に生じる反位相領域境界面や双晶のような面欠陥を低減し得る化合物半導体結晶基材及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

This material for aluminum alloy foil as foil rolling, is composed of aluminum alloy having Fe of 0.70-1.70 mass % and Si of 0.03-0.30 mass %, wherein the occupied ratio of area of sub-grain structure in cell structure is 50-90% without process annealing in the course of process.例文帳に追加

箔圧延用のアルミニウム合金箔地であって、Ｆｅ：０．７０乃至１．７０質量％及びＳｉ：０．０３乃至０．３０質量％を含有するアルミニウム合金からなり、中間焼鈍を途中工程で行わず、セル組織におけるサブグレイン組織の面積占有率が５０乃至９０％である。 - 特許庁

To pre-grasp a master plan, for example, of a process and a construction period, which continue into the future in an area requiring measures against unidentified water, and approximate costs which are required for the process and the construction period; and to take the measures against the unidentified water in a planned and efficient manner, without being affected by complaints of inhabitants and the like.例文帳に追加

不明水対策を必要とする地域に対して将来にわたる工程，工期及びこれに要する概算費用等を全体計画として予め把握することを可能ならしめ、不明水対策を住民の苦情等に捉われることなく、計画的かつ効率的に対応させる。 - 特許庁

For example, the clothing manufacturing process can be subdivided into spinning, dyeing, and sewing. By concentrating multiple enterprises involved in each part of the manufacturing process, the manufacturing knowledge that has accumulated over time in the area provides, along with the securing of raw materials, a strength that is distinct from that of any other community.例文帳に追加

例えば衣料品においては紡績、染色、縫製などに工程が細分化されているが、各工程に携わる複数の企業が集積することにより、歴史的に地域内で蓄積されてきた製造ノウハウは、原材料・素材の確保と合わせて他地域にはない強みとなり得る。 - 経済産業省

In the process, a first temporary gate sidewall spacer defines a rising source/drain formation area, a second temporary spacer defines a source/drain injection and source/drain silicification area, and the temporary gate is protected from being silicified by the hard mask.例文帳に追加

その処理において、第１の一時ゲート側壁スペーサは隆起したソースおよびドレインの形成用の領域を定義し、第２の一時スペーサはソースおよびドレインの注入用ならびにソースおよびドレインの珪化用の領域を定義し、一時ゲートはハードマスクによって珪化から保護される。 - 特許庁

A workspace control unit 22 performs a process on a common work area screen for sharing information, and an information processor display transmission and reception unit 34 transmits to a display of an information processor the common work area screen processed by the workspace control unit 22.例文帳に追加

ワークスペース制御処理部２２は、情報を共有化するための共通の作業領域画面に対する処理を実行し、情報処理装置表示送受信部３４は、ワークスペース制御処理部２２で処理された共通の作業領域画面を情報処理装置の表示部に送信する。 - 特許庁

The disease type of the abnormal site of the candidate area, an anatomical structure where the candidate area is present, and the medical 11 by processing the same by using the processing program 50 according to the kind of a modality used for photographing the medical image is displayed in a process and display means 60.例文帳に追加

加工表示手段６０で、候補領域の異常部位の疾患タイプ、候補領域が存在する解剖学的構造物、および、医用画像の撮影に用いられたモダリティの種類に応じた加工処理プログラム５０を用いて医用画像１１を加工して表示する。 - 特許庁

To provide an adhesive tape for painting capable of painting with a simplified process, easily attachable to a large area and a curved area such as a corner, etc., and capable of various painting excellent in reproducibility of color, and provide a method of manufacturing the adhesive tape for painting.例文帳に追加

簡略化された工程で塗装を行うことができ、大面積部分やコーナー部等の曲面への貼付が容易であり、さらに色の再現性に優れ多種多様の塗装を可能にする塗装用粘着テープおよびかかる塗装用粘着テープの製造方法を提供する。 - 特許庁

Consequently, in a partition wall obtained after a development process, area on the side facing a second substrate of the partition wall is larger than area of the contact surface in which the opposite surface and the partition wall of the first substrate 18 are made in contact with each other and the adverse effect of the partition wall exerted on the display is reduced.例文帳に追加

したがって、現像工程後に得られる隔壁は、第一基板１８の対向面と隔壁とが接触する接触面の面積よりも隔壁の第二基板と対向する側の面の面積の方が大きく、表示に及ぼす隔壁の悪影響を低減できる。 - 特許庁

The dimensions of the electrodes 11, 21 and 12 are set so that the plasma paths for development may have a path length until a processing profile in the flowing direction of the process gas becomes a prescribed range, and so that the plasma paths for the selected area may have a path length corresponding to the prescribed part (selected area).例文帳に追加

助走用プラズマ通路部が、プロセスガスの流れ方向の処理プロファイルが所定の範囲になるまでの路長を有し、前記選択領域用プラズマ通路部が、前記所定部分（選択領域）に対応する路長を有するように、電極１１，２１，１２を寸法設定する。 - 特許庁

To provide a fuel cell which restrains abnormal overheat in process of power generation at a peripheral edge range of a fuel cell wherein a cooling medium circulation passage is not existed on a separator and effectively improves a use rate of an electrode area and has a high power generation area use rate as much as possible.例文帳に追加

セパレータにおいて冷却媒体流通路が存在しない燃料電池セルの周縁領域における発電経過時の異常過熱を抑制し、もって電極面積の利用率を効果的に向上させ、発電面積利用率の可及的に高い燃料電池を提供する。 - 特許庁

The optical disk device has such a constitution that: an light spot is positioned on a predetermined interlayer interference evaluation area on the disk to detect the tracking error signal in this area; and the quality of the tracking error signal is evaluated by a process to perform a predetermined signal processing and calculate an interlayer interference evaluation value.例文帳に追加

ディスク上の所定の層間干渉評価領域に光スポットを位置づけ、当該領域においてトラッキング誤差信号を検出し、所定の信号処理を行って層間干渉評価値を演算する手順によってトラッキング誤差信号の品質を評価する構成とする。 - 特許庁

To provide a method of preparing a lithographic printing plate which includes a simple, one-solution and one-step process, which does not require a water washing step, exhibits good developing property without leaving residues of a photosensitive layer in a non-image area and allows the lithographic printing plate to have good printing durability and excellent stainproof property in the non-image area.例文帳に追加

水洗工程を必要としない1液1工程の簡易処理が可能で、非画像部に感光層の残存がない良好な現像性を示し、しかも、良好な耐刷性を有し非画像部の汚れ防止性に優れた平版印刷版を与える平版印刷版の作製方法を提供する。 - 特許庁

In the image forming method having a transfer process in which a toner image on the first image carrier is transferred to the second image carrier in the lap area where the first image carrier and the second image carrier overlap, the lap area is vibrated parallel to the rotation axes of the carriers.例文帳に追加

第一像担持体と第二像担持体とが重なり合うラップ領域において第一像担持体上のトナー画像を第二像担持体へ転写する転写工程を有する画像形成方法であって、 当該ラップ領域に担持体の回転軸と平行方向に振動を付与する。 - 特許庁

In a document-recognizing method dividing a document image into plural area and process the same according to property thereof, a step to distinguish properties of a character string, a table, a figure, a photograph, and the like, and a step to reflexively make a determination on an area being determined as one excluding a character string are included.例文帳に追加

文書画像を複数の領域に分割し、その属性に応じた処理を行う文書認識方法において、文字列、表、図、写真などの属性に識別するステップと、文字列以外と判断された領域に対して、再帰的に判断を下すステップとを有する。 - 特許庁

To effect a periodic monitoring over presence or absence of microorganisms within an aseptic filling area by a method wherein a conventional production operating system is utilized, and a simple device only is added thereto so that a case of intrusion of microorganisms into the aseptic filling area can be treated rapidly in the aseptic filling process.例文帳に追加

無菌充填法において、無菌充填エリア内に微生物が入り込んだ場合に対して迅速に対処できるように、従来からの生産稼働システムを利用して、簡単な装置を付加するだけで、無菌充填エリア内における微生物の有無を定期的に監視できるようにする。 - 特許庁

In this shooting game device, the photographed image of the video camera photographing a shooting area where the spot beam 26 for specifying a shot position is projected is scanned at least in one direction of the horizontal direction and vertical direction to make the position detection process of the spot beam 26 projected to the shooting area.例文帳に追加

このシューティングゲーム装置は、着弾位置特定用のスポット光が投射されるシューティングエリアを撮像するビデオカメラの撮像画像を水平方向及び垂直方向の少なくとも一方向に走査し、前記シューティングエリアに投射されるスポット光２６の位置検出処理を行う。 - 特許庁

If either of the moving object detection process units 331, 332 detects a moving object, a detection result processing unit 34 determines that the moving object has been detected in the movement detection area, and the result of detection of the moving object in the movement detection area is outputted from the detection result processing unit 34.例文帳に追加

検出結果処理部３４は、動体検出処理部３３１，３３２のいずれかで動体が検出されたとき、動き検出領域で動体が検出されたとして、動き検出領域の動体検出結果が検出結果処理部３４から出力される。 - 特許庁

To integrate a transverse IGBT which has a high withstand voltage, can be driven at a large current and has high latch up resistance and low ON resistance per unit area, and a transverse MOS transistor which has high withstand voltage and low ON resistance per unit area on the same substrate by the same process.例文帳に追加

高耐圧で、大電流での駆動が可能であり、かつラッチアップ耐量が高く、単位面積あたりのオン抵抗が低い横型ＩＧＢＴと、高耐圧で、単位面積あたりのオン抵抗が低い横型ＭＯＳトランジスタを、同一のプロセスにより同一基板上に集積すること。 - 特許庁

To provide a large-area fiber plate being suitable for miniaturization and cost reduction and being superior in workability in manufacturing process and a manufacturing method therefor and to provide a radiation imager being inexpensive and giving an excellent image quality and a radiation imaging system by using the large-area fiber plate.例文帳に追加

小型化、低コスト化に適し、製造工程での作業性にもより優れた大面積のファイバープレート及びその製造方法を提供し、また、その大面積のファイバープレートを用いることにより、安価で画像品位の優れた放射線撮像装置、及び放射線撮像システムを提供する。 - 特許庁

A wiring 4 for inspection to which a ground potential level or a power source potential level can be applied at an inspection process is provided between a bonding pad 1 and an active area 3 which is the closest to the bonding pad 1, so as net to be brought into contact with any bonding pad 1 or active area 3.例文帳に追加

ボンディングパッド１とそのボンディングパッド１に最も近い能動領域３との間に、検査工程時に接地電位レベルまたは電源電位レベルを印加され得る検査用配線４を、ボンディングパッド１および能動領域３の何れとも接触しないように設ける。 - 特許庁

To form an edge of a magnified image with high accuracy by a thin line for facilitating a process for sharpening or the like, to excellently display a color area while maintaining image quality of a portion except the color area, and to more excellently sharpen an edge portion for improving image quality after image processing.例文帳に追加

拡大画像のエッジを精度よく細線で形成して鮮鋭化等の処理を容易にさせ、色領域以外の部分の画質を維持しながら色領域をより良好に表現させ、エッジ部分についてより良好に鮮鋭化させて、画像処理後の画質を向上させることを課題とする。 - 特許庁

This camera has at least a RAM area 1a in the microcomputer 1 and performs a process for rewriting the contents of the EEPROM 6 after transferring the specific instruction code or processing procedure inputted from the external controller 17 to the said RAM area 1a.例文帳に追加

そして、このカメラは、マイクロコンピュータ１内に少なくともＲＡＭエリア１ａを備えており、上記外部制御装置１７から取込んだ上記所定の命令コード若しくは処理手順を上記ＲＡＭエリア１ａに転送してから、ＥＥＰＲＯＭ６の内容を書換える書換え処理を実行する。 - 特許庁

A line space detecting unit 43 monitors data after subjected to a filtering process in every line unit by an input filter 44, and to make an output of a line space detection signal 71 to be on after detecting an area in which pixels not including character information continues more than β pixels as a line space area.例文帳に追加

行間検出部４３は、入力フィルタ４４によりフィルタリング処理された後のデータをライン単位で監視し、文字情報が含まれていない画素がβ画素以上連続している領域を行間領域として検出して行間検出信号７１の出力をオンとする。 - 特許庁