「Process Area」に関連した英語例文の一覧と使い方(26ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a structure capable of forming an SRAM of a high-resistance element type on an SOI wafer, without causing the area to increase by a process having affinity with conventional CMOS processes, and to provide a manufacturing method therefor.例文帳に追加

ＳＯＩウエハ上に、従来のＣＭＯＳプロセスと親和性のよいプロセスで、面積を増大させることなく、高抵抗素子タイプのＳＲＡＭの構造及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

After all the instructions within the storage area 6 have been executed, the process is interrupted into a CPU11, and the CPU11 can write a next DMA-start instruction into the CPU peripheral device.例文帳に追加

また、自動書込み命令格納エリア６内の命令が全て終了したとき、ＣＰＵ１１に割込み、ＣＰＵ１１は、次のＤＭＡ開始の命令をＣＰＵ周辺デバイスに書き込み可能である。 - 特許庁

On the basis of estimated weight of load of each process, the system control part 3100 determines a split position in a horizontal scanning direction so that the load of processing in each divided area becomes even.例文帳に追加

システム制御部３１００は、見積もった各処理の負荷の軽重に基づき、区切られた各領域における処理の負荷が均等となるように主走査方向の分割位置を決定する。 - 特許庁

A recessed hole is formed on the bottom face of the tool, and the substantial area in which the bottom face of the tool contacts a material to be treated when joining the material or in the surface treatment is reduced in response to a process condition.例文帳に追加

ツールの底面に凹み穴を形成して、被処理材の接合時または表面処理時にツール底面が被処理材と接触する実質面積をプロセス条件に応じて減少させる。 - 特許庁

To discriminate the start timing of an automatic regeneration process of a DPF, and to calculate of fuel consumption by arranging a measuring tool capable of measuring a worked area in a farm working vehicle.例文帳に追加

農作業車において、作業済み面積を計測可能な計測具を装備してＤＰＦの自動再生処理の開始時期の判別と燃料消費量を算出しようとするものである。 - 特許庁

To provide a defect inspection device capable of suitably and rapidly detecting a defect even when the manufacturing process is varied or the periodicity of images of an area to be inspected on a sample is low.例文帳に追加

製造プロセスが変動しても、また、試料から検査対象領域を撮像した撮像画像に周期性が少なくても、良好かつ迅速に欠陥検出できる欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

When it is decided that the in-access flag is set in the flag area, the CPU 51 does not perform a writing process and reads data out of the database 55, thereby sending the data to an external request source.例文帳に追加

一方、フラグ領域にアクセス中フラグがセットされていると判定した場合、ＣＰＵ５１は、書き込み処理は実施せずに、データベース５５からデータを読み出して外部の要求元へ送信する。 - 特許庁

A sequential manufacturing method is also provided, and this method has such an advantage that an active area in an active semiconductor layer is not exposed to an unprotected solvent and/or solvent vapor at a given point in a manufacturing process.例文帳に追加

連続的な製造方法は、活性半導体層の活性領域が、製造プロセスの任意の時点にて未保護の溶媒、及び／又は溶媒蒸気に露出されない利点を有している。 - 特許庁

When the restoration button 15 is pressed after closing of a passage, the determination processing part 25 carries out the restoration leakage confirming process and information showing its progressing state is displayed in the bar display area.例文帳に追加

流路の閉鎖の後に復帰ボタン１５が押されると、判定処理部２５は、復帰漏洩確認処理を行うと共に、その進行状況を表す情報をバー表示領域に表示させる。 - 特許庁

To provide a game machine preventing an easy specification of a timing when a game medium flows in each area of a rotary body and arousing an interest by providing the rolling process of the game medium with characteristics.例文帳に追加

回転体の各領域に遊技媒体が流入するタイミングの特定を困難にするとともに、遊技媒体の転動過程に特徴を持たせて興趣を盛り上げることが可能な遊技機の提供。 - 特許庁

Dummy patterns used in a CMP process are arranged in a field dummy area, separated by a separation insulating film in a p- well 23 which is potential-fixed by a ground electrode.例文帳に追加

接地電極により電位固定されているｐ^-ウェル２３領域内の分離絶縁膜によって分離されたフィールドダミー領域には、ＣＭＰ工程において利用されるダミーパターンが配置されている。 - 特許庁

To provide a grease composition for electric contact that has excellent broad temperature area actuation force properties and shows excellent contact stability even after it is exposed to high-temperature conditions, for example, the lead free-flow soldering process.例文帳に追加

広温度域作動力特性に優れ、かつ鉛フリーリフローはんだ付け等の高温度にさらされても、その後の接触安定性が良好な電気接点用グリース組成物を提供すること。 - 特許庁

An information mark pattern 102 for showing previously prepared predetermined information is formed in the non-image forming area of the circumferential surface end portion of a photoreceptor drum 1 provided in a process cartridge being the unit.例文帳に追加

ユニットたるプロセスカートリッジに備えられた感光体ドラム１の周面端部の非画像形成領域にあらかじめ用意された所定の情報を表わす情報マークパターン１０２を形成する。 - 特許庁

To provide a process for fabricating a semiconductor device in which the capacitor area of a cross point type FeRAM can be increased while enhancing the product performance and work efficiency, and to provide a semiconductor device.例文帳に追加

クロスポイント型ＦｅＲＡＭのキャパシタ面積を増大できるとともに、製品性能及び作業効率を向上できる半導体装置の製造方法及び半導体装置を提供する。 - 特許庁

The heat of a container 13 is absorbed in a process for allowing the liquefied working fluid to flow over the whole area of the evaporation pipe 14 even when the comparatively small amount of the working fluid is used, and the heat absorbing efficiency is improved.例文帳に追加

比較的少量の作動流体であっても、液化した作動流体が蒸発管14の全域に渡って流下する過程で容器13の熱が吸熱され、吸熱効率を向上させることができる。 - 特許庁

To provide an amplifier circuit comprising switched capacitor amplifier circuits each of which is capable of carrying out highly accurate logarithmic amplification by suppressing dispersion in a manufacture process with an increased range of gains and achieved in low power consumption and a small area.例文帳に追加

ゲインの範囲を大きくしながらも、製造プロセスのバラツキを抑えた高精度な対数増幅が行え、且つ、低消費電力、小面積で実現可能なスイッチトキャパシタ増幅回路を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and a high-frequency amplifier provided with the same, by which a manufacturing process is simplified, a high-frequency gain is improved and an increase in a chip area is blocked.例文帳に追加

製造工程を簡単にすることができると共に、高周波利得を向上させるできて、しかもチップ面積の増大を阻止できる半導体装置およびそれを備えた高周波増幅器を提供する。 - 特許庁

In this case, to the information of the number of the prize balls stored in the prize ball number storage area 374, a masking process is executed when adding the information of the number of the prize balls and while putting out game balls.例文帳に追加

この場合に、賞球数記憶エリア３７４に記憶されている賞球数の情報に対しては、賞球数の情報の加算時や遊技球の払出中にマスク処理が実行される。 - 特許庁

To provide a substrate for a liquid crystal device and a method for manufacturing the substrate for preventing chips generated during a rubbing process from entering a display area, and to provide an electro-optic apparatus and electronic equipment using the substrate.例文帳に追加

ラビング時の削り滓が表示領域内に進入することを防止できる液晶装置用基板及びその製造方法、これを用いた電気光学装置並びに電子機器を提供すること。 - 特許庁

To determine whether there is non-completion of an input/output process within a set period due to competition in plural processing processes on a network monitoring device or there is a steady failure in a data storage area.例文帳に追加

網監視装置における複数の処理プロセスでの処理競合による設定時間内の入出力処理未完了か、定常的なデータ格納領域の不具合かを判別すること。 - 特許庁

To provide a device and a method for dripping a liquid member which can adequately drip a predetermined amount of a liquid member in a predetermined area and improve the product quality while preventing reduction of through-put in a dripping process.例文帳に追加

本発明は、相対移動しつつ容器から基板に向けて滴下される液晶等の液状部材が、予め設定された所定領域外に飛散しないように滴下制御を行う。 - 特許庁

To reduce an error of digital/analog conversion due to fluctuation in a output signal voltage and ambient temperature in operation and dispersion of process dependent elements on the case of manufacture and to realize a high-speed operation with a small area.例文帳に追加

動作時の電源電圧や周囲温度、又製造時のプロセス依存要素のばらつきによるＤ／Ａ変換の誤差を低減し、かつ、小面積で高速な動作を実現することができる。 - 特許庁

To solve problem that the warp of a tape or the distortion of a wafer, which increase in proportion to the enlargement of thinning of the area of a wafer, causes collision of chips, in the process of pre-dicing the chips.例文帳に追加

チップの先ダイシング工程において、ウエハ面積の拡大や薄膜化に比例して増大するテープのたわみやウエハの歪みが、チップの衝突をもたらすという課題を解決することを目的とする。 - 特許庁

Control output obtained by the operation is fed back to the model execution part 12 of the PC 10, and the simulation data that is a process value of timing thereof is calculated, and stored in the time series memory area 11a.例文帳に追加

この演算結果である制御出力はＰＣ１０のモデル実行部１２にフィードバックされ、このタイミングのプロセス値である模擬データを演算し、時系列メモリ領域１１ａに格納する。 - 特許庁

Thus, the surface to be plated in each process is limited to an area on which the plating liquid flow and the current density are more uniform, by plating the surface of the substrate part by part.例文帳に追加

被処理基板面を一部ずつメッキすることにより、各工程でメッキを施す面はメッキ液の流れおよび電流密度がより均一になる範囲に限定されたものとすることができる。 - 特許庁

To form crystal in defect-free area in good yield by changing pulling velocity V and temperature gradient G of a single crystal grown by the Czochralski process according to dopant concentration and keeping V/G value in crystal interface within a prescribed range in the radial direction of the crystal.例文帳に追加

ＣＺ法によるシリコン単結晶の育成において、結晶中のドーパント濃度が変化した場合でも、無欠陥領域の結晶を、歩留良く製造する方法を提供する。 - 特許庁

To dispose a supporting member so as to abut on almost the entire length near each side on a bottom surface of a substrate, and to prevent a large warp of the substrate without degrading a process pattern area.例文帳に追加

基板の底面における各辺の近傍の略全長に渡って当接するように支持部材を配置し、プロセスパターン領域に劣化を生じることなく基板の大きな撓みを防止する。 - 特許庁

To provide a silicon-based substrate surface-roughening process method as well as its device, capable of forming a texture across a wide area of a silicon-based substrate surface for a solar battery, using hydrogen which poses no environmental load.例文帳に追加

環境負荷のない水素を用いて、太陽電池用のシリコン系基板表面にテクスチャーを広い面積に形成できるシリコン系基板表面粗面化処理方法およびその装置を提供する。 - 特許庁

In the notch process (a), an original plate of the ceramic plate manufactured in a rectangular shape in advance is notched, and a notched plate 10a having a plane L-shaped bending section is made to stick it on the bending area.例文帳に追加

切欠工程(a) ：予め矩形板状に製造されたセラミック板の原板を切り欠き、平面Ｌ字形の屈曲部を有する切り欠き板１０ａを作製して屈曲領域に貼り付ける。 - 特許庁

An overwrite process part 20 takes out a corresponding partial image (partial image not coded) from a compression page memory 60, overwrites the input partial image to the partial image and stores in a small area buffer 30.例文帳に追加

上書き処理部２０は、圧縮ページメモリ６０から対応する部分画像（符号化されていない部分画像）を取出して、入力部分画像をこれに上書きして小領域バッファ３０にストアする。 - 特許庁

A lighting ratio of two halogen heaters is varied in accordance with a process speed to heat an area which is most suitable with respect to heat efficiency, of the fixing belt, thereby both on-demand heating and satisfactory fixability are achieved.例文帳に追加

プロセス速度に応じて、２本のハロゲンヒータの点灯比率を変更することで、定着ベルトの熱効率的に最適な領域を加熱し、オンデマンド化と良好な定着性を両立する。 - 特許庁

To provide a process in which a superconducting material of a large area with improved properties is efficiently produced through pyrolysis of a metallic organic compound and thermal treatment formation of a superconducting substance.例文帳に追加

金属有機化合物の熱分解および超電導物質の熱処理形成を行うに際して、効率よく、性能が改善された大面積の超電導材料の製造方法を提供する。 - 特許庁

Since the reflective pixel electrode 34 reflects (cuts off) ambient light, a black mask to protect the TFT 54 from the light becomes unnecessary, and a display area is expanded and a black mask forming process can be reduced.例文帳に追加

反射画素電極３４が周囲光を反射（遮断）するので光からＴＦＴ５４を保護するためのブラックマスクが不要になり、表示領域の拡大と、ブラックマスクの形成工程を削減できる。 - 特許庁

The resin film 30a is formed by the organic binder 30 remelted by heat generated in the milling process, and prevents the soft magnetic powder 31 from dropping out, by covering the soft magnetic powder facing to the processing cross-sectional area.例文帳に追加

この樹脂膜３０ａは、フライス加工時に発生する熱で再溶融した有機結合剤３０で形成され、加工断面領域に臨む軟磁性粉末３１を被覆しその脱落を阻止する。 - 特許庁

To provide a glass forming die with which a fine glass forming process can be repeatedly performed, and glass forming can be applied over a large area at a time and to provide a glass forming method using the same.例文帳に追加

繰り返し微細なガラス成形工程が可能であり、しかも一度に大面積にわたりガラス成形を施すことが可能なガラス成形型およびそれを用いたガラス成形方法をを提供する。 - 特許庁

To provide a coin laminated shape nanocarbon material composite having diamond particles as nuclei, and having a high resistance, a wide surface area and an excellent process fitness, to provide its manufacturing method and to provide an electronic device using the composite.例文帳に追加

ダイヤモンド粒子を核に持ち、高耐性で表面積が広くプロセス適性に優れたコイン積層状ナノ炭素材料複合体と製造方法並びにそれを用いた電子デバイスを提供する。 - 特許庁

The automatic conveyance distance correction unit 14 runs a process that collectively or decentrally inserts a non-printing area d of a length corresponding to the slippage L to one or a plurality of specific positions in the original print image D.例文帳に追加

搬送量自動補正部１４は、滑り量Ｌに応じた長さの非印刷領域ｄを、元の印刷イメージＤの所定位置に一括してもしくは分散させて挿入する処理を行う。 - 特許庁

To provide a method for fabricating a semiconductor element in which the process yield and the operational reliability of element can be enhanced by reducing the cell area and preventing short circuit between adjacent conductive layers.例文帳に追加

セルの面積を減少させ、隣接する導電層間の短絡を防止して工程収率及び素子動作の信頼性を向上させることができる半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a data managing device capable of recording and reproducing data at high speed and seamlessly and provided with a restoring function and a faulty area detecting function, its data managing method and furthermore, a recording medium recording a process to realize the method.例文帳に追加

オペレーティングシステムがサポートしているファイルシステムと異なるファイルシステムを採用したとき、何らかの原因で対象のファイルのファイル管理情報が損傷したときの復旧処理が問題となる。 - 特許庁

The execution unit executes a first prefetch start instruction inserted before prescribed process in a program, and outputs a second prefetch start instruction including prefetch object area information to the multiblock prefetch control part.例文帳に追加

そして、実行ユニットは、プログラム内の所定の処理の前に挿入された第1prefetch開始命令を実行し、プリフェッチ対象領域情報を含む第2prefetch開始命令をマルチブロックプリフェッチ制御部に出力する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor apparatus capable of selectively turning a prescribed region on a resistance layer to silicide by a simple process and reducing the occupation area of resistance.例文帳に追加

簡易なプロセスで抵抗層上の所定領域を選択的にサリサイド化することができ、かつ、抵抗の占有面積を小さくすることができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor integrated circuit design capable of suppressing increase in the number of lines and the total area of cells while avoiding a wiring congestion in a layout process.例文帳に追加

半導体集積回路の設計において、配線混雑が予想されるセルを使用禁止にして配線混雑を回避する方法では、レイアウトの総配線数と総セル面積が必要以上に増えてしまう。 - 特許庁

Based on two-way interactive communication with the portable telephone set 9, the image tracking device 8 first photographs the shape of the skier in a form photographing area and registers shape data (first process).例文帳に追加

画像追跡装置８は、携帯電話機９との対話形式の双方向通信に基づいて、まず、形状撮影エリアにてスキーヤーの形状を撮影し、形状データを登録する（第１の行程）。 - 特許庁

To provide an electrode for plasma CVD apparatus and a plasma CVD apparatus which can form a uniform and high quality semiconductor film by controlling the deformation of a large area substrate at the time of film manufacturing process.例文帳に追加

製膜処理時に大面積の基板の変形を抑制し、均一で良質な半導体膜を製膜することができるプラズマＣＶＤ装置用電極、およびプラズマＣＶＤ装置を提供する。 - 特許庁

To provide polyamide porous spherical particles having a specified particle diameter and a specified pore diameter and also a narrow particle diameter distribution, a large specific surface area and a high degree of crystallization and to provide a preparing process therefore.例文帳に追加

特定の粒子径と細孔径を有し、狭い粒子径分布をもち、比表面積の大きく結晶化度の高いポリアミド多孔質球状粒子とその製造方法を提供することにある。 - 特許庁