| 意味 | 例文 |
Process Areaの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2252件
In this method of the present invention, an optical probe device is used generally in the spectrometry, and the probe device transmits a two-dimensional image of an emission light emitted from a monitoring area in the process container 1.例文帳に追加
上記方法は、分光計測内で光学プローブ装置を一般的に利用することを含み、プローブ装置はプロセス容器(1)内のモニタ領域から発せられる発光の2次元画像を伝送することが可能である。 - 特許庁
When an IG switch is turned on to start a process, it is decided whether an initial area is already set or not (S10).例文帳に追加
IGスイッチがオンされて処理が開始されると、初期エリアが設定済みか否かを判断し(S10)、初期エリアが未設定であれば(S10:NO)、位置検出器22からのデータに基づき車両の現在地(現在地座標)を特定し(S20)。 - 特許庁
To reduce an area of which a powdery mold release agent is not adhered in a cavity of a mold, to evenly adhere the powdery mold release agent on the surface of the cavity, and to prevent the molten metal from burning to the mold in casting process.例文帳に追加
金型内のキャビティ内に粉体離型剤が付着されない部分を低減し、キャビティ表面により均一に粉体離型剤を付着させ、鋳造時の溶湯金属の金型への焼付きを防止する。 - 特許庁
Based on the document area configuration, a correction factor calculating part 50 determines a blurring characteristic correction factor for correcting the location dependency of blurring characteristics resulting from the tilt scans, and sets the factor in an image correcting process part 40.例文帳に追加
補正係数算出部50は、原稿領域形状に基づいて、チルトスキャンに起因するボケ特性の場所依存性を補正するためのボケ特性補正係数を求め画像補正処理部40にセットする。 - 特許庁
To provide a manufacturing method that prevents impurities from being injected to an unintended region in a manufacturing process of a semiconductor device in which an impurity-containing region is formed in the area surrounding the bottom of a trench.例文帳に追加
トレンチの底部を囲む範囲に不純物含有領域が形成されている半導体装置の製造過程において、意図しない領域に不純物が注入されることを防止できる製造方法を提供すること。 - 特許庁
A texture setting part 142 performs necessary processing for using at least a part of an original image plotted in an image plotted area being subjected to rendering processing in the image forming process of a given frame.例文帳に追加
テクスチャ設定部142は、所与のフレームの画像生成過程においてレンダリング処理を施されて描画領域に描画された元画像の少なくとも一部をテクスチャとして利用するために必要な処理を行う。 - 特許庁
When the voice in the process of reproduction continues for the specified time or longer in the state of the specified level or lower where the voice is not perceived, the address part in this state is judged as the specific area between the sentences.例文帳に追加
再生中の音の検出レベルが音声として認識されない一定レベル以下の状態で一定時間以上続いた場合に、この状態のアドレス部分をセンテンスとセンテンスの間の所定領域と判断する。 - 特許庁
To provide a plasma process apparatus that can carry out plasma treatment to a large-area square substrate uniformly, can reduce the size of the entire apparatus in simple structure as much as possible, and further can control plasma easily.例文帳に追加
大面積の方形基板に対しても、均一なプラズマ処理が可能であり、単純な構造で装置全体のサイズを可及的に小さくでき、さらにプラズマの制御が容易なプラズマプロセス装置を提供する。 - 特許庁
When the learning process of each ECU does not normally functions, the command value to transmit to each ECU is compensated on the manager ECU side, or each command value is determined so as not to put the vehicle the a travelling area.例文帳に追加
また、各ECUの学習処理が正常に機能しないときは、マネージャECU側で各ECUに送信する指令値を補正するか、そのときの走行領域に入らないように各指令値を設定する。 - 特許庁
To improve the controllability of a lithography process of a flexible substrate and to prevent the precise scanning motion of a carriage that supports a pattern generator from being blocked even when a flexible substrate is located in the vicinity of an exposure area of the carriage.例文帳に追加
フレキシブル基板のリソグラフィプロセスの制御性を向上させ、フレキシブル基板がキャリジの露光領域の近傍にある場合にもパターンジェネレータを支持するキャリジの精密な走査運動が阻害されないようにする。 - 特許庁
To enable each content source to specify a display area (position and size) on a screen, and to enable a user to process the content in the display apparatus.例文帳に追加
各コンテンツソースが画面上の表示領域(位置・大きさ)を指定できるようにすること、ユーザによる表示装置におけるコンテンツへの変更と、コンテンツソース側でのコンテンツ変更を差分情報だけで処理できるようにする。 - 特許庁
To provide an apparatus, method and program for predicting layout-wiring-congestion, easily confirming the degree of wiring congestion without any increase in cell area, and remarkably reducing the process delay.例文帳に追加
セル面積の増大を招くことなく、配線混雑度を容易に確認することが可能で、工程遅延を大幅に短縮することが可能なレイアウト配線混雑予測装置およびその方法、並びにプログラムを提供する。 - 特許庁
To safely achieve the cleanup of a main storage area in which unauthorized data are stored due to memory leak or zombie process or the like without depending on programming language, or imposing any excessive load on one CPU.例文帳に追加
メモリリークやゾンビプロセスなどが原因で不正なデータが蓄積された主記憶領域を、プログラム言語に依存することなく、また一つのCPUに負荷を掛けすぎることなく、安全にクリーンアップすることを目的とする。 - 特許庁
To provide a divided reed capable of stably passing a weft from a weaving reed useful in beating up a weft to an auxiliary reed arranged in an area at the opposite side to yarn feeding in which no weft exists in the process of weaving.例文帳に追加
製織過程で、緯糸の打ち込みに用いられる製織用筬から、反給糸側で緯糸の存在しない領域に設けられる補助筬へ、緯糸が安定して通過可能な分割筬を提供する。 - 特許庁
Through the recognition of the currently broadcast program from current time information, display is performed, after performing a certain process to those programs; and a point that indicates the current time is displayed in an area that displays a time zone with a width.例文帳に追加
また、現在時刻情報から、現在放送中の番組を認識し、それらの番組に対して、ある加工を施して表示したり、時間帯を幅をもって表示するエリアに、現在時刻となるポイントを表示する。 - 特許庁
At least two nozzles which have a main passageway for passing a synthetic yarn so that the sectional area of the main passageway is changed between an entrance portion and an exit portion is disposed in an apparatus for treating the synthetic yarn in a drawing process.例文帳に追加
合成ヤーンを、延伸工程において取扱うための装置において、入口部と出口部の間で断面積が変化するようになっている、ヤーン通過用の主通路を有する少なくとも2つのノズルを設ける。 - 特許庁
To provide a process for fabricating a semiconductor device in which a gate electrode having the dimensions just as designed can be formed with good reproducibility, even when that gate is arranged in the vicinity of the pole of second trench having a large area.例文帳に追加
面積が大きい第2トレンチの極近傍にゲート電極を配置する場合でも、このゲート電極を設計寸法どおりに再現性良く形成できるようにした半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an armature for linear motor capable of dissipating heat of an exciting winding sufficiently by a cooling pipe in which the cooling pipe can be formed easily and occupation area thereof can be reduced, and to provide its manufacturing process.例文帳に追加
冷却管により励磁巻線の放熱を十分に行え、しかも冷却管を容易に形成でき、冷却管の占有体積を小さくできるリニアモータ用電機子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a laminated chip capacitor with which a high electrostatic capacitance is obtained by preventing breaks in inner electrode layers caused by spheronization in the process of forming the inner electrode layers, namely by suppressing reduction of the effective electrode area.例文帳に追加
内部電極層形成の際の球状化による内部電極層の途切れの防止、すなわち、電極実効面積の低下を抑制して、高い静電容量が得られる積層型チップコンデンサを提供する。 - 特許庁
When the first comparison circuit 22 judges that the CPU 2 has executed a reading process from an unused area of the ROM 3, it outputs a signal H used as a signal indicating the fact to a signal output circuit 25.例文帳に追加
第1比較回路22はCPU2がROM3の未使用領域から読み出し処理を実行したと判断したとき、その旨を示す信号としてH信号を信号出力回路25に出力する。 - 特許庁
The recess 6 is sectioned into a plurality of regions by ribs 7 not subjected to wet etching and the area of one recess 6 is increased as much as possible within a range causing no problem of strength in the production process.例文帳に追加
凹部6は、ウエットエッチングを施さず厚みの残ったリブ7によって領域が複数に区切られ、凹部6一つの面積は、製造工程において強度上問題のない範囲で出来るだけ大きく形成されている。 - 特許庁
The vinylcyclohexane production process comprises subjecting 2-cyclohexyl alcohol to a dehydration reaction in the presence of aluminum oxide having a specific surface area of 150-500 m^2/g and a pore volume of 0.5-1.5 ml/g.例文帳に追加
比表面積が150〜500m^2/gであり、かつ細孔容積が0.5〜1.5ml/gである酸化アルミニウムの存在下に、2−シクロヘキシルアルコールを脱水反応に付すことによって、ビニルシクロヘキサンを製造する方法。 - 特許庁
To provide a method for purifying brine that is of a small installation area as a whole, can also treat wider qualities of process liquids, is of a small precise filtration load at a subsequent stage, and can be preferably used as a primary purification method of the brine.例文帳に追加
全体として設置面積が小さく、処理液質も充分であり後段の精密濾過の負荷が小さく、塩水の一次精製法として好適に使用し得る塩水の精製方法を提供する。 - 特許庁
The controller 4 processes the information or the field intensity information from the base station, and sends out the process result to a controller 3 for indicating the processed contents on a specific area of a display 2.例文帳に追加
制御装置4はそれら基地局からの情報あるいは電界強度の情報を処理し、処理された内容を表示装置2の特定領域に表示する場合、処理結果を制御装置3に送出する。 - 特許庁
A determination process of an application layer of the design pattern (S3301) determines that a watermark printing or an overlap printing is used for printing of the design pattern on the basis of an area in which the design pattern overlaps an original content of the original data.例文帳に追加
地紋パターン適用レイヤー決定処理(S3301)は地紋パターンと原稿データにおける原稿内容とが重なる面積に基づき、地紋パターンの印刷を透かし印刷または重ね印刷に決定する。 - 特許庁
A stage 32-2 is additionally generated as a section area to be used for the process of a next stage and tool data are entered therein in the use order reverse to the use order of all tools set previously to a stage 32-1.例文帳に追加
ステージ32−1に予め設定した全工具の使用順に逆行した使用順の工具データの記入は次段の工程で使用する区分領域としてステージ32−2を追加作成して、そこに記入する。 - 特許庁
The bag durable for a long period of time and reduced in its unit weight is obtained with any one of processings including punching, cutting- out, cutting-by-edge or laser processing applied to the bag within 10 to 90% of unit area during the process of its manufacture.例文帳に追加
袋の製造工程において、単位面積10〜90パーセント内で打抜加工、切抜加工、切刃加工、レーザー加工を施し単位重量を減量すると同時に長寿命の袋の製造が成る。 - 特許庁
To provide an electronic medical record system that enables a terminal device connected via a wide area network such as the Internet to interactively image-process image data associated with an electronic medical record and observe the image-processed image.例文帳に追加
インターネットなどの広域ネットワークを経由して接続した端末装置において電子カルテに関連した画像データの対話的画像処理と画像処理した画像の観察を可能にした電子カルテシステムを実現する。 - 特許庁
Meanwhile, when a start lever is operated in the process of the setting mode, after erasing only the game information stored in the first storage area of the RAM, setting of a pay-out rate selected at this time is altered.例文帳に追加
他方、設定モード中にスタートレバーが操作された場合は、RAMの第1記憶領域に記憶された遊技情報のみを消去した後、この時点で選択されている設定へペイアウト率の設定を変更する。 - 特許庁
When an area ratio of a post spacer 21 is large, deformation of the post spacer 21 caused by pressure applied in baking a sealant in a panel manufacturing process and in press sealing treatment after liquid crystal injection is large.例文帳に追加
柱状スペーサー21の面積比が大きい場合は、パネルの製造工程でのシール焼成の圧力、液晶注入後の加圧封孔時の圧力に対する柱状スペーサー21の変形量が大きくなる。 - 特許庁
When there is no print indication from the user for a predetermined time, the resolution decreasing process part lowers the resolution of the print data in the storage device 11 to expand the unused area in the storage device 11.例文帳に追加
この解像度低下処理部が、予め定めた所定の時間ユーザーからの印刷指示がない場合には、記憶装置11内の印刷データの解像度を落とし、記憶装置11の未使用領域を拡大する。 - 特許庁
To achieve reduction in power consumption upon setting a random access area, reduction in scale of an image processing circuit, and a high precision noise reducing process which uses a high speed reading operation of random access and optical black information.例文帳に追加
ランダムアクセスエリアの設定時の消費電力の低減、画像処理回路の回路規模の縮小、更にはランダムアクセスの高速読み出し動作と、オプティカルブラック情報を用いた、より高精度なノイズ低減処理を実現する。 - 特許庁
Further, the metal insulating board of a large area is manufactured by forming the adhesive resin layer 3 on the metal insulating board beforehand, and a punching process for an adhesive sheet in forming the adhesive resin layer 3 is not required.例文帳に追加
更に、金属絶縁板に予め接着樹脂層3を形成して大面積の金属絶縁板を製造することとし、接着樹脂層3を形成する際の接着シートの打抜工程を不要とした。 - 特許庁
When the process cartridge is a fresh cartridge, after a toner (developer) is sufficiently fed in the entire longitudinal area of a developer carrying member, an initialization operation for depositing the toner on a contact portion between an image bearing member and a cleaning blade is carried out.例文帳に追加
プロセスカートリッジが新品の場合には、現像剤担持体の長手全域にまで十分にトナー(現像剤)が供給された後、像担持体とクリーニングブレードの接触部トナーを堆積させる初期化動作を実行する。 - 特許庁
The range of a picture display area is determined from the result of detecting the existence of image signal components in input picture signals, and an image sharpening process is controlled to be applied within the range.例文帳に追加
入力映像信号中の画像信号成分の有無を検出した結果から上記映像表示領域の範囲を決定し、その範囲内のみに画像先鋭化処理が施されるように制御を行う。 - 特許庁
To provide such a technology that can improve data writing speed and data erasing speed of a nonvolatile memory cell without increasing the area of the nonvolatile memory cell and changing the production process.例文帳に追加
不揮発性メモリセルの面積を増大することなく、かつ、製造プロセスを変更することなく、不揮発性メモリセルのデータ書き込み速度およびデータ消去速度の向上を図ることのできる技術を提供する。 - 特許庁
The recording apparatus carries out a first ejection state sensing process 7B for sensing an ejection state in which ink is ejected through a first ejection port that has the smallest opening area among the ejection ports formed in the recording head.例文帳に追加
記録装置は、記録ヘッドに形成された吐出口のうち、最も開口面積の小さい第一の吐出口に対して、吐出されるインクの吐出状態を検知する第一の吐出状態検知処理7Bを行う。 - 特許庁
To provide an electrophotographic photoreceptor showing less variation in a bright-area potential and a residual potential in repeatedly outputting images, and to provide a process cartridge and an electrophotographic device having the electrophotographic photoreceptor.例文帳に追加
繰り返し画像出力をした際の明部電位および残留電位の変化が小さい電子写真感光体、ならびに、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供する。 - 特許庁
At this time, the striped concave portion and striped convex portion are formed so that the primary opening area 11a where the through-holes are formed at a primary numerical aperture may be positioned at the groove bottom on the striped concave portion (concave and convex forming process).例文帳に追加
このとき、第一の開口率で貫通孔が形成された第一開口部11aが筋状凹部の溝底部に位置するように、筋状凹部および筋状凸部を形成する(凹凸成形工程)。 - 特許庁
A wafer data area 109 which stores information specifying a wafer and a manufacturing process is provided so that the defect information can be retrieved by only using the review data by similarly handling information on an inspection step and the information on a reviewing step.例文帳に追加
ウェハと製造工程を特定する情報を記憶するウェハデータ領域109を設け、検査工程とレビュー工程の情報を同様に扱うことでレビューデータのみで欠陥情報の検索を可能とする。 - 特許庁
Before the conductive paste layer is formed, a peeling agent such as silicone resin is applied in a specific area 6 on the base material 3 and an easy-to-break process is performed so that the metal thin film is easily broken.例文帳に追加
また、導電性ペースト層を形成する前に、予め基材3上の所定領域6にシリコーン樹脂等の離型剤を塗布しておき、金属薄膜が破壊されやすいように易破壊処理を施しておく。 - 特許庁
To provide a highly reliable nonvolatile memory cell which can be mounted in a CMOS manufacturing process, and sufficiently exhibits capabilities in writing, reading, and erasing while suppressing an increase in element area.例文帳に追加
CMOS製造プロセス工程内で実装が可能で、素子面積の拡大を抑制しながらも、書き込み、読み出し、及び消去の能力を十分に発揮できる信頼性の高い不揮発性メモリセルを提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a secondary battery of high productivity with inconvenience in soldering a collector plate avoided without the loss of the mixture or addition of a new process, by restraining the exudation of paste into a non-coated area.例文帳に追加
未塗布部へのペーストの滲み出しを抑制することにより、合剤のロスや新規工程の追加を伴わずに集電板溶接における不具合を回避した、生産性の高い二次電池の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a solar cell element having a series multilayer structure exhibiting excellent effect of increasing light scattering and excellent power generation efficiency per unit area in which fabrication cost can be reduced because of simple fabrication process.例文帳に追加
光の散乱を増加させる効果に優れ、単位面積当たりの発電効率に優れ、製造工程が簡単なため低コストでの製造が可能な、直列積層構造を有する太陽電池素子を提供する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a flash memory cell by which a phenomenon of forming a trench corner site to be thin in thickness by a side wall oxidation process and an active area of a desired critical size.例文帳に追加
側壁酸化工程によってトレンチコーナ部位が薄く形成される現象を防止するとともに、所望の臨界寸法だけの活性領域を確保することが可能なフラッシュメモリセルの製造方法を提供すること。 - 特許庁
The transmissive hard protection layer 70 is formed by treating a transparent photosensitive hard coating material applied on the top surface of the photosensor chip 50 by a photoengraving process and covers the top of the sensing area 54.例文帳に追加
その透光性硬質保護層70は、フォトセンサチップ50の頂面に塗布された透明な感光性硬質塗布材を写真製版工程によって処理することから形成され、感知エリア54上を被覆している。 - 特許庁
A zoom adjustment part 4f executes a zoom adjustment process of the camera part 4a such that the width of a license plate in a captured image is within a width target area as a predetermined zoom adjustment target value.例文帳に追加
ズーム調整処理部4fは、撮影画像におけるナンバープレートの横幅が、所定のズーム調整用目標値としての横幅目標範囲内に収まるように、カメラ部4aのズーム調整処理を実行する。 - 特許庁
In the method, the dislocation controlling seed crystal 1 having an area 15 for allowing the spiral dislocations 19 to occur in a density higher than its periphery is prepared (seed crystal preparing process).例文帳に追加
該製造方法においては、周囲よりも高密度で螺旋転位19を発生させることができる螺旋転位発生可能領域15を有する転位制御種結晶1を準備する(種結晶準備工程)。 - 特許庁
In a Viterbi decoding process in PR (1. 1) waveform equalization, same signals ('00' or '11') are always recorded for 2 bits or more continuously in a margin area between data areas.例文帳に追加
PR(1.1)波形等化におけるビタビ復号処理の場合、データ領域とデータ領域間に設けられたマージン領域の間に必ず同じ信号(“00”または”11”)が2ビット以上連続して記録されるようにする。 - 特許庁
In the process, the government placed the former Ryukyu Kingdom, the Ezo area except Sakhalin (almost all areas of Hokkaido and Kurile Islands) and Ogasawara Islands (Bonin Islands) completely into the Japanese territories, fixing the boundaries of Japan. 例文帳に追加
その過程で日本の境界領域であった旧琉球王国領域や、樺太を除く蝦夷地(北海道の大部分と千島列島)、小笠原諸島を完全に日本の領域内におき、国境を画定した。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
| 意味 | 例文 |
| 本サービスで使用している「Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス」はWikipediaの日本語文を独立行政法人情報通信研究機構が英訳したものを、Creative Comons Attribution-Share-Alike License 3.0による利用許諾のもと使用しております。詳細はhttp://creativecommons.org/licenses/by-sa/3.0/ および http://alaginrc.nict.go.jp/WikiCorpus/ をご覧下さい。 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|