「Process Area」に関連した英語例文の一覧と使い方(32ページ目) - Weblio英語例文検索

The fiber flow F is formed in a forward extrusion process for imparting torsional force around the axis O to a raw material B at the same time when reducing the cross section area of the raw material B with the flow of the raw material in the moving direction of a punch.例文帳に追加

ファイバーフローＦは、素材をパンチの進む方向に流動させて素材Ｂの断面積を減少させると同時に、素材Ｂに対して軸線Ｏ回りの捩り力を付与する前方押出し工程で形成される。 - 特許庁

To provide a new TFT matrix panel which can utilize a conventional process technique and moreover can attain a reduction in an electrode resistance of each TFT and a reduction in an area, an image display unit using the same, and a photoelectric conversion equipment.例文帳に追加

従来のプロセス技術を利用でき、しかも、個々のＴＦＴの電極抵抗の低減と小面積化が達成できる新規なＴＦＴマトリックスパネル、および、これを用いた画像表示装置、光電変換装置を提供する。 - 特許庁

That is, only the image area having meaning on an image operation process is specified and decoded in this method.例文帳に追加

イメージに対する事前走査が完了した後、操作されるべき符号化ピクセル・イメージ領域だけに直接アクセスすることによってイメージの選択された部分に対して回転、切り取りおよび拡大縮小のようなイメージ操作が実行される。 - 特許庁

In the measurement process, based on the volume data and on a pressure drop value measured by the pressure sensor during a definite time period, it is determined which portion of a preset characteristic area is applicable, thereby determining the state of leak.例文帳に追加

そして、測定工程では、この容積データと、ゲージ圧センサで計測した一定時間での圧力低下値とを基に、予め設定しておいた特性の領域のどの部分に位置するかを判定し、リーク状態を判定する。 - 特許庁

Secondly, in a process 2, a gloss agent is printed in a wide range of areas including the partially glazed part, and/or a color substrate agent for developing a special color is printed in an area including a part to which the special color is partially imparted.例文帳に追加

次に、工程２において、部分的艶出し付与部分を含む、広範囲の領域に光沢剤を印刷し、および／または部分的特殊色付与部を含む領域に、特殊色を発現させる色下地剤を印刷する。 - 特許庁

A surface mounting process inhibition area 13 where setup of other surface mounting type parts is inhibited is set around surface mounting type parts 10 set upon the solder surface side on the basis of an external shape 11 of parts or the like.例文帳に追加

（ａ）に示すような半田面側に装着する表面実装型部品１０の周囲には、部品外形１１等に基づいて、他の表面実装型部品の装着を禁止する表面実装工程禁止領域１３を設定する。 - 特許庁

After photographing in a process P1, photographing information such as photographing date and time is acquired (P2), a part satisfying a prescribed condition nearly in the same color of a prescribed area or over within a search range is used for a display position of the photographing information (P3-P5).例文帳に追加

プロセスＰ１での撮像動作後、撮像日時等の撮像情報を取得し（Ｐ２）、サーチ範囲中で所定面積以上の略同色部分の一定条件を満たす部分を撮像情報の表示位置とする（Ｐ３〜Ｐ５）。 - 特許庁

To reduce a cost and improve a reliability of a liquid crystal display device by improving its yield in manufacturing process of the same with always securing an enough connection area between a bamp of an IC chip and a substrate-side terminal.例文帳に追加

ＩＣチップのバンプと基板側端子との間に常に十分な接続面積を確保することにより、液晶装置の製造工程における歩留まりを向上してコストダウンを図り、さらに液晶装置の信頼性を向上する。 - 特許庁

In the plating process, the bump 6 is formed in a state in which the protruding bump resist 5a has been formed at the center of the opening, so that air is prevented from spreading through all the bump 6 by the tension of a plating solution, and a non-plated area occurs only partially.例文帳に追加

めっき工程で、央部に凸状のバンプレジスト５ａを形成した状態でバンプ６を形成するため、めっき液の張力によりエアがバンプ６全体に拡がらず、未めっき部分が一部分しか発生しない。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a car electrostatic-flocking product improving adhesiveness on the surface of an olefinic resin, eliminating problems of deterioration of working circumstances and reducing lighting and heating expenses necessary for drying a solvent, and the area to be dried in the process.例文帳に追加

オレフィン系樹脂表面の密着性を改善し、作業環境の悪化の問題を払拭し、溶剤乾燥等に必要な光熱費、乾燥工程面積を低減する自動車植毛製品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a production process of a semiconductor device that assures a measuring structure without increasing the area of the semiconductor device and directly measures the capacity value of the manufactured semiconductor device as well as the structure of the semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の面積を増大させることなく、測定用の構造を確保し、かつ製造した半導体装置の容量値を直接測定できる、半導体装置の製造方法と半導体装置の構造を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a thin film transistor whereby a high-quality gate insulation film good in charge behavior in a low temperature process can be formed at a uniform film thickness over a large-area substrate at a high film forming rate.例文帳に追加

低温プロセスでありながら、電荷の挙動が良好で高品質なゲート絶縁膜を、大面積の基板上にわたって均一の膜厚に、高い成膜速度で、形成できる薄膜トランジスタの製造方法を提供する。 - 特許庁

A wiper C106 provided for the recovery process of a recording head 207 is provided in a part remote from an ink/media storing part C112B, and corresponding to an area wherein the recording head 207 is moved in a recording operation.例文帳に追加

記録ヘッド２０７の回復処理に供されるワイパーＣ１０６がインク／メディア収容部Ｃ１１２Ｂに対して離隔された部分であって記録ヘッド２０７が記録動作時、移動する領域に対応する部分に配されるもの。 - 特許庁

To provide a field-emission type electron emission element, an electron source and an image forming device wherein an electron beam diameter is small, wherein an electron emission area is large, wherein a highly efficient electron emission is possible by a low voltage and wherein a manufacturing process is easy.例文帳に追加

電子ビーム径が小さく、電子放出面積が大きく、低電圧で高効率な電子放出が可能で、製造プロセスが容易な電界放出型の電子放出素子及び電子源及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

Because of the simplicity of the manufacturing process by this method, manufacturing cost can be reduced and also excellent competitive power can be secured with respect to porosity, specific surface area, etc., as compared with that of the product manufactured by the conventional method.例文帳に追加

このような本発明の方法は、製造工程が簡単であるので、製造原価の低減のみならず、従来の方法によって製造された製品と比較して気孔率と比表面積等の面で優れた競争力を確保できる。 - 特許庁

To reduce a storage area for a log filter necessary at occurrence of abnormality; to prevent an uncertain process that will arise as the number of the log filters increases; and to achieve a fast and reliable abnormality detecting means.例文帳に追加

異常の発生時に必要なログフィルタの記憶領域を低減させること、およびログフィルタの数が増えることによって生じる不確実な処理を防ぎ、高速かつ確実な異常検知手段を実現しうることを目的とする。 - 特許庁

To provide a low speed filling die casting and an apparatus thereof, with which a runner having the sufficient cross sectional area to make the directional solidification without entrapping the air in the injecting process, is provided and the oxidizing film of molten metal is not mixed into a cavity.例文帳に追加

射出過程で空気の巻き込みが無く、指向性凝固をさせるのに充分な断面積を有するランナーをそなえ、且つキャビティ内に溶湯の酸化皮膜が混入しない低速充填ダイカスト法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which can reduce the area occupied by a memory cell and suppress the influence of variations to minimum in the manufacturing process to ensure the stable operation of the semiconductor device.例文帳に追加

本発明は、半導体記憶装置に関し、メモリセルが占有する面積を減少し、且つ、製造プロセスのばらつきの影響を最小限に抑さえて安定した半導体記憶装置の動作を保証することを目的とする。 - 特許庁

To realize a retransmission process of data loss, etc. by a simple method without deteriorating the quality of communication data, in order to suppress the communication charge in a communication utilizing the public infrastructure such as public circuits, wide area networks, portable telephone networks, etc.例文帳に追加

公衆回線や広域ネットワーク、携帯電話網などの公衆インフラを利用した通信において、通信料金を抑えるために、通信データの品質を落とすことなく簡易な方法でデータ欠落等の再送処理を実現する。 - 特許庁

To restrain thickening and gelling in the process in which glass dielectrics powder having specific surface area over 1.5m^2/g and basicity over PH8.5 is dispersed with binder resin, in manufacture of a dielectric paste for a plasma display.例文帳に追加

プラズマディスプレイ用誘電体ペーストを製造する際に、比表面積が１．５ｍ^2／ｇよりも大きく、ｐＨが８．５よりも高い塩基性を示すガラス誘電体粉をバインダ樹脂を用いて分散させる工程での増粘やゲル化を抑制する。 - 特許庁

To prevent degradation of a heat exchanging capacity caused by the presence of an area of low heat flow rate in a heat exchanger disposed in an air conditioner, in the air conditioner where a refrigerant, of which a temperature is changed in a radiating process, flows.例文帳に追加

放熱行程で温度変化をする冷媒が流れる空気調和装置において、空気調和装置に設けられた熱交換器に熱流束の低い領域が構成されることによる熱交換能力の低下を抑制する。 - 特許庁

The personal information B is recorded on a magnetic stripe 2a as is, and the code C for authentication is generated by a ciphering process of [g(A, B)→C] and recorded in an area 2a for identification in the form of electronic watermark data which can hardly be copied completely.例文帳に追加

個人情報Ｂはそのまま磁気ストライプ２ａに記録し、認証用コードＣは［ｇ（Ａ，Ｂ）→Ｃ］の暗号化処理により生成して完全コピーが困難な電子透かし化データのかたちで識別用領域２ａに記録する。 - 特許庁

The fabricating method of the large area stamp is comprised of vapor-depositing a polymer thin film on a substrate (S111), coating a resist material on the polymer thin film (S112), and performing an imprint process locally using the first small stamp on the resist (S113).例文帳に追加

本発明の大面積スタンプ製作方法は、基板の上に高分子薄膜を蒸着(S111)し、高分子薄膜上にレジスト材料をコーティング(S112)し、レジスト上に小型の第1スタンプを利用して局部的にインプリント工程を実行(S113)する。 - 特許庁

To provide a high quality electron emission element excellent in uniformity, mechanical strength, and stability, which can be driven at a low voltage and which is easy to cope with a large area by controllably providing regular fine projections with a simple process.例文帳に追加

簡単なプロセスで規則的な微小突起を制御性良く得ることによって、低電圧駆動が可能で、かつ、大面積対応が容易な、均一性、機械的強度、安定性に優れた高品質な電子放出素子を提供すること。 - 特許庁

To provide a photoelectric conversion element with which a long-life solar battery can be manufactured using a coating process capable of increasing area inexpensively and which has a mixed semiconductor film containing an organic pigment and PbSe particles, and to provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加

安価で大面積化が容易な塗布プロセスを用いて長寿命な太陽電池を製造しうる、有機顔料とＰｂＳｅ粒子とを含む混合半導体膜を有する光電変換素子、並びに、その製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vertical type insulated gate field effect transistor reduced in the number of manufacturing process compared with that of a conventional field effect transistor, without increasing the rate of an area occupied by the chip of a bidirectional Zener diode formed in the same chip by the shape of a diffusion layer as the protective diode of a power MOSFET.例文帳に追加

パワーＭＯＳＦＥＴの保護用ダイオードとして同一チップに拡散層で形成される双方向ツェナーダイオードのチップに占める面積割合を増加させずに従来より製造工程数を低減させる。 - 特許庁

To provide a laminated piezoelectric element which can prevent generation of crack at an area between an adjacent individual electrode and relaying common electrode in a piezoelectric material layer on which individual electrodes are formed, due to polarization process or the like.例文帳に追加

分極処理等を原因として、個別電極が形成された圧電体層において隣り合う個別電極と中継コモン電極との間の部分にクッラクが発生するのを防止し得る積層型圧電素子を提供する。 - 特許庁

This method for producing the alkylphenyl sulfide comprises a process of reacting thiophenol with the compound expressed by the formula: R^1OR^2 in a gas phase on an adsorbing catalyst having at least 250 m^2/g specific surface area.例文帳に追加

アルキルフェニルスルフィドの製造方法は、チオフェノールと一般式Ｒ^1ＯＲ^2で示される化合物とを、気相状態において、比表面積が少なくとも２５０ｍ^2／ｇの吸着性触媒上で反応させる工程を含んでいる。 - 特許庁

To provide a liquid having extremely high transparency and a refractive index higher than that of water in a wavelength ≤200 nm which is known as a vacuum ultraviolet area in an immersion exposure process, and a resist pattern forming method using the liquid.例文帳に追加

液浸露光プロセスにおいて、真空紫外領域として知られる200nm以下の波長で、非常に高い透明性と水よりも高い屈折率を有する液体およびそれを用いたレジストパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing carbon nanotube capable of forming a carbon nanotube by a simple process and of accomplishing mass-production and area-enlargement of the carbon nanotube, and to provide a carbon nanotube device and an electrical double layer capacitor using the same.例文帳に追加

簡単なプロセスでカーボンナノチューブを形成することができるとともに量産化および大面積化が可能なカーボンナノチューブの製造方法、それを用いたカーボンナノチューブデバイスおよび電気二重層キャパシタを提供することである。 - 特許庁

To provide a uniform, high-density, large-area carbon nanotube which can be formed through an easy process and enables mass production, its manufacturing method and a carbon nanotube device and an electrical double layer capacitor using the same.例文帳に追加

簡単なプロセスで高密度で均一に形成することができるとともに量産化および大面積化が可能なカーボンナノチューブ、その製造方法、それを用いたカーボンナノチューブデバイスおよび電気二重層キャパシタを提供することである。 - 特許庁

To provide an ultrasound system by which the insertion path of a medical needle may be set based on optical image information provided for a relatively wide area and the interventional treatment process may be observed via ultrasound images.例文帳に追加

相対的に広い領域を提供する光映像情報に基づいてカテーテル施術時に医療用針の挿入経路を設定し、施術過程を超音波映像を通じて観察することができる超音波システムを提供する。 - 特許庁

To specify a process of generating a defect, or to detect the defect, even in an area that is not formed with a repeeated pattern on a wafer surface, when detecting the defect appearing on the semiconductor wafer surface by visual inspection.例文帳に追加

外観検査により半導体ウエハの表面に現れる欠陥を検出する際に、欠陥を生じた工程を特定する、或いはウエハ表面に繰り返しパターンが成形されていない領域においても欠陥を検出する。 - 特許庁

To enhance the uniformity of the amount of processing on a wafer, especially, in the inner area and the periphery of the wafer, while keeping high processing efficiency, concerning the planalizing technique of the surface pattern of the wafer used in the manufacturing process of a semiconductor integrated circuit.例文帳に追加

半導体集積回路の製造工程で用いられるウェハの表面パターンの平坦化技術に関して、高い加工能率を維持したまま、ウェハ面内、特にウェハ周辺部での加工量の均一性を向上させる。 - 特許庁

To provide a formation method of a thin film capable of forming a thin film at a low cost without including a complicated process by using a liquid phase film formation method, and of accurately controlling a coating area; and to provide a spacer and an image display device.例文帳に追加

液相成膜法を用いローコストで、煩雑な工程を含まず成膜を行い、かつ精度よい被覆領域の制御を行うことができる薄膜の形成方法、スペーサ及び画像表示装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

Then the module E acquires a prescribed period and access time in each process, prepares a time table by executing scheduling so as not to generate the competion of memory accesses to a shared area and sets up the time table in a time management module F.例文帳に追加

そして、各プロセスに所定の周期及びアクセス時間を取得し、共有領域においてメモリアクセスが競合しないようにスケジューリングを行って、タイムテーブルを作成し、時間管理モジュールＦへ、このタイムテーブルを設定する。 - 特許庁

To provide an optical element molding die for manufacturing a substrate having irregular structure, by a wet system allowing molding even on a curved face with a wide area, not through a lithographic process, and advantageous in aspect of mass production and a facility cost.例文帳に追加

リソグラフィー工程を経ず、曲面にも大面積で形成可能であり、大量生産や設備コスト面で有利な湿式方式によって、凹凸構造を有する基板を作製するための光学素子成形用金型を提供する。 - 特許庁

A fact that cleaning sheets 36 of all the electrostatic chargers 13Y, 13M, 13C and 13K return to a save area B is confirmed by a cleaning member position switch 47 and a cleaning process of a corona discharge member 26 is terminated.例文帳に追加

クリーニング部材ポジションスイッチ４７により、全ての帯電チャージャ１３Ｙ、１３Ｍ、１３Ｃ及び１３Ｋのクリーニングシート３６が退避領域Ｂに戻ったことを確認してコロナ放電部材２６のクリーニング工程を終了する。 - 特許庁

To form a capacitor in a desired location without having restrictions of interconnect lines and the like, to take power source noise countermeasures efficiently, and to configure a large-capacity capacitor in a small area despite the advance of microfabrication in the process technology.例文帳に追加

配線等の制約を受けることなく所望の位置にキャパシタを形成して電源ノイズ対策を効率的に行うことができ、微細化の進んだプロセス技術においても、より少ない面積でより大容量のキャパシタを構成する。 - 特許庁

This method for forming a conductive pattern includes a process to apply solder paste 16 by screen printing with a part of an IC chip 12 covered with an elastic sheet 2 in which an opening 4 is formed in the formation area of solder 18, on the circuit board 11.例文帳に追加

回路基板１１上において、ハンダ１８の形成領域に開口４が形成された弾性シート２でＩＣチップ１２の少なくとも一部を覆った状態で、ハンダペースト１６をスクリーン印刷により塗布する工程を備える。 - 特許庁

Further, one of special symbol backup time command transmission tables is selected on the basis of the value or the like of a special symbol process flag stored in a RAM area where power is backed up, and the initial command is transmitted according to the selected table.例文帳に追加

また、電源バックアップされているＲＡＭエリアに格納されている特別図柄プロセスフラグの値等にもとづいて、特別図柄バックアップ時コマンド送信テーブルのいずれかを選択し、選択したテーブルに従って初期コマンドを送信する。 - 特許庁

In the first process, the object is irradiated with the high-frequency ultrasonic waves to generate and grow bubbles or a bubble group in a limited area of the liquid present at least partly in the periphery of the object.例文帳に追加

第１工程において、高周波数の超音波を対象物に向けて照射して、当該対象物の周囲の少なくとも一部に存在する液体の限定的な領域中に気泡もしくは気泡群を発生及び成長させる。 - 特許庁

To provide an XY address type solid-state image pickup device manufactured by the CMOS process that can conduct image averaging processing without increasing the chip area at a low manufacturing cost.例文帳に追加

本発明は、ＣＭＯＳプロセスで製造されるＸＹアドレス型固体撮像装置に関し、チップ面積が増大せず、且つ製造コストを抑えて画像平均化処理のできるＸＹアドレス型固体撮像装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing process and a structure that can reduce an area of a storage element by shortening a distance between TMR films as adjacent storage elements when manufacturing a storage element array comprising spin injection type magnetic storage elements.例文帳に追加

スピン注入型磁性記憶素子からなる記憶素子アレイを製造するに当たり、隣接する記憶素子であるＴＭＲ膜間の距離を縮めることで、記憶素子の面積を低減できる製造プロセスおよび構造を提供する。 - 特許庁

The image recording system which records a medical image on the reflection recording medium according to an image signal representing the medical image is equipped with an image processing means 110 which performs dynamic range compression processing for an inputted image signal and this image processing means 11 preferably performs a process of compressing the dynamic range of a high-density area and further preferably performs a frequency emphasizing process in addition to the dynamic range compressing process.例文帳に追加

医用画像を表す画像信号に基づいて反射記録媒体に医用画像を記録する画像記録システムであって、入力された画像信号に対してダイナミックレンジ圧縮処理を行う画像処理手段１１０を備え、この画像処理手段１１は、望ましくは高濃度領域のダイナミックレンジを圧縮する処理を実行し、さらに望ましくは、ダイナミックレンジ圧縮処理に加えて周波数強調処理を実行する。 - 特許庁