| 意味 | 例文 |
Process Areaの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2252件
This manufacturing method includes the process for drying the material, so as to cause flows of a solvent (F1, F2, F3) from an area with high content rate of the solvent and a region with high absorption rate of the solvent to a region with low content rate of the solvent.例文帳に追加
溶剤高含有率領域及び溶剤高吸収率領域から溶剤低含有率領域に向かう溶剤の流れ(F1、F2、F3)を生じさせるように乾燥させる工程を含む。 - 特許庁
A process comprises making layers in order of positive electrode layer, protecting film, luminescent layer formed of organic substance and negative electrode layer on the substrate, and the protecting film which is in the pixels area on the positive electrode layer is removed before the luminescent layer is formed in layer.例文帳に追加
基板上に陽極層と、保護膜と、有機物からなる発光層と、陰極層を順次積層する工程を備え、陽極層上の画素領域にある保護膜を、発光層の積層前に除去すること。 - 特許庁
To provide a liquid ink composition capable of improving image quality, capable of preventing the ink from being printed in a non-image forming area so as to make a printed image sharp, and capable of preventing other parts in a printer from being stained in a printing process.例文帳に追加
画像品質を向上し,非画像領域への印刷を防止して印刷された画像を鮮明にし,印刷過程中のプリンタ内の他の部分の汚れを防止可能な液体インク組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a thin film deposition apparatus for laser beam ablation to obtain a thin film of uniform film thickness and large area by adding a very simple configuration to an apparatus for depositing thin film by applying laser beam ablation process.例文帳に追加
レーザ・アブレーション用薄膜作製装置に関し、レーザ・アブレーション法を実施して薄膜を成膜する装置に極めて簡単な構成を付加することで、膜厚が均一で且つ大面積の薄膜が得られるようにする。 - 特許庁
Blast treatment is applied to the weather resistance steel by blasting process, so that mill scale is removed from the surface of the weather resistance steel, the surface is activated, further the formation of unevenness on the surface enlarges reaction area.例文帳に追加
ブラスト工程により耐候性鋼材にブラストが施され、耐候性鋼材表面のミルスケール等が除去されると共に、表面が活性にされ、さらに表面に凹凸が形成されて反応面積が増大する。 - 特許庁
In a quality determining preparatory process, the crystal D1 illuminated by the illuminator 1r or the illuminator 2r is photographed by the camera 1 and the obtained image is used to detect the placing direction of the crystal D1 or the area of the specific surface of the crystal D1.例文帳に追加
品質判定の予備工程として、照明1rや照明2rで照らした結晶体D1をカメラ1で撮影し、得られた画像を用いて結晶体D1の載置方向や特定の面の面積を検出する。 - 特許庁
To provide an array substrate capable of preventing a defect due to static electricity flowing in a manufacturing process, to provide a display device having the same and to provide a method of protecting a display area of the array substrate from static electricity.例文帳に追加
製造工程時に流れ込む静電気による不良を防止することのできるアレイ基板とこれを具備した表示装置及び静電気からアレイ基板の表示領域を保護する方法を提供する。 - 特許庁
To simplify a process at a time of the molding of a PET bottle not only to shorten a production line but also to simplify a machinery and to contract the installation area of an equipment as a result while reducing equipment cost and operation keeping cost.例文帳に追加
ペットボトルを成形する際の工程を簡略化して生産ラインを短縮すると共に機器を簡略化し、これにより設備の設置面積を縮小すると共に設備費、運転維持費の削減を図る。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a twisted tube type heat exchanger, which is capable of ensuring reliability in actual use, by promoting energy saving and low cost based on simplification of a process, while maintaining an effective heat transfer contact area.例文帳に追加
有効な伝熱接触面積を保ちつつ、工程の簡素化による省エネ・低コストを促進し、実使用時の信頼性を確保することができる捩り管形熱交換器の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a solar battery cell capable of suppressing a decrease in area at a part contributing to the power generation of the solar battery cell while suppressing complication of a manufacturing process, and suppressing heat generation.例文帳に追加
製造工程が煩雑になるのを抑制しながら、太陽電池セルの発電に寄与する部分の面積が小さくなるのを抑制し、かつ、発熱するのを抑制することが可能な太陽電池セルを提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a thin film transistor where it is not necessary to execute a plurality of photo-lithograph processes, and it realizes increase in the margin of patterning in a process for forming the gate electrode of a linewidth area whose microfabrication is progressed.例文帳に追加
微細化が進んだ線幅領域のゲート電極の形成工程において、複数回のフォトリソグラフ工程が不要であり、パターニングのマージンを拡大できる薄膜トランジスタの作製方法を提供する。 - 特許庁
To provide an optical waveguide member that is capable of restraining deterioration of an optical signal, and omitting a process of high-precision finishing of an outer surface area on which light is emitted, when a connection is made with an external optical component.例文帳に追加
光導波路部材において、外部の光学部品との接続作業に際し、光信号の劣化を抑制しつつ、光を出射する外表面領域の高精度の仕上工程を省略できるようにする。 - 特許庁
To provide an electron discharge element enabled to have high efficiency, high reliability, a high speed driving, a low consumption electric power, and a high process yield, to cope with a large area substrate and to cope with high precision, and provide an electron source and an imaging device.例文帳に追加
高効率、高信頼性、高速駆動可能、低消費電力、高プロセス歩留まり、大面積基板対応可能、高精細に対応可能な電子放出素子、電子源、及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁
Accordingly, in a plastic working process of the female thread, an abutment area between the thread of the second full thread part 32b and the female thread formed on the working object formed by the plastic information by a leading part 31 is reduced.例文帳に追加
よって、めねじの塑性加工工程において、食付き部31による塑性変形によって被加工物に形成されるめねじと第2完全山部32bのねじ山との当接面積を小さくすることができる。 - 特許庁
To provide a work management device and the like, capable of managing even related information not generating any progress, as a schedule, by a Gantt chart, while displaying a process chart and the Gantt chart simultaneously on the same display area.例文帳に追加
プロセスチャートとガントチャートを同一の表示領域に同時に表示しつつ、進捗が発生しないような関連情報であっても、ガントチャートにてスケジュールとして管理する作業管理装置等を提供する。 - 特許庁
In the progressive process of the game, an opponent character, generated items and branching of a game scenario are controlled according to the value of the base station ID code stored in the ID code storage area (steps S205-S213).例文帳に追加
そして、ゲームの進行過程において、IDコード記憶領域に格納した基地局IDコードの値に応じて対戦する敵キャラクタや発生させるアイテム、ゲームシナリオの分岐を制御する(ステップS205〜S213)。 - 特許庁
A face image list display process part 301 displays a list of face images of entire video content data in a two-dimensional face thumbnail display area in sizes corresponding to a frequency of appearance of a person in each appearance time-zone.例文帳に追加
顔画像一覧表示処理部301は、映像コンテンツデータ全体内の顔画像の一覧を2次元の顔サムネイル表示エリアに、出現時間帯毎に人物の出現頻度に応じたサイズで表示する。 - 特許庁
By detecting only the contact to the entry prevention gear 8 arranged at the upper direction and avoiding the entry to the entry inhibited area, a process leading from detection to halt is simplified, and entry prevention can be realized without fail.例文帳に追加
上方に配置された進入防止具8との接触のみを検出して、進入不可領域への進入を回避するので、検出から停止までのプロセスが単純であり、確実に進入防止を実現できる。 - 特許庁
To provide a photovoltaic element in which an area effective for photoelectric conversion can be utilized to the maximum while preventing the characteristics from deteriorating due to leakage of a gas phase material, and to provide its fabricating process.例文帳に追加
気相原料の回り込みによる特性の劣化を防止することができるとともに、光電変換に有効な面積を最大限活用することができる光起電力素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
In the preparation process of an aluminate phosphor, a metal compound which may constitute an aluminate phosphor by calcining is mixed with an aluminum hydroxide having a BET specific surface area of ≥100 m2/g and calcined.例文帳に追加
焼成することによりアルミン酸塩蛍光体を構成しうる金属化合物と、BET比表面積が100m^2/g以上の水酸化アルミニウムとを混合して焼成するアルミン酸塩蛍光体の製造方法。 - 特許庁
Before the metal thin film is formed, a peeling agent such as silicone resin is applied in a specific area 6 on the base material 3 and an easy-to-break process is performed so that the metal thin film is easily broken.例文帳に追加
また、金属薄膜を形成する前に、予め基材3上の所定領域6にシリコーン樹脂等の離型剤を塗布しておき、金属薄膜が破壊されやすいように易破壊処理を施しておく。 - 特許庁
To provide a tube-type circulation reactor or a chemical reaction process, wherein the contact area between reaction substrates immediately after unification is increased and a decrease in the yield of a reaction product due to uneven concentrations is suppressed.例文帳に追加
合流直後の反応基質間の接触面積を増やし、且つ濃度不均一による反応生成物の収率低下が抑制された管型流通式反応装置または化学反応プロセスを提供する。 - 特許庁
To reduce the influence to a glass ribbon and interfere with the thermal properties, caused by the condensation of volatilized materials generated from molten glass on surfaces within an area of a glass-forming space, in a glass making process.例文帳に追加
ガラス製造プロセスにおいて、溶融ガラスにより生成される揮発材料がガラス成形空間の領域内の表面に凝縮することにより生じる、ガラスリボンへの影響や熱的特性への干渉を軽減する。 - 特許庁
To provide a lithography system, installed in an area smaller than that in the conventional case in a semiconductor manufacturing step and suitably and easily used, when a new process is introduced.例文帳に追加
従来の装置より比較的小さい面積に設置することができ、新規工程の導入時にも容易に適用させることができる新しい形態の半導体製造のためのフォトリソグラフィ装置を提供するものである。 - 特許庁
To trace frames fast without providing a dedicated storage area for storing trace information nor making a process complicated by devising the using method of a transmitting and receiving buffer.例文帳に追加
送受信バッファの利用方法に工夫を施すことにより、トレース情報を格納するための専用の格納領域を設けることなく、且つ、処理の煩雑化を招くことなく、フレームのトレース処理を高速に行なえるようにする。 - 特許庁
On the basis of an area overlapping a copy-forgery-inhibited pattern with document contents in document data, a copy-forgery-inhibited pattern application layer determination process (S3301) determines printing of the copy-forgery-inhibited pattern to transparent-printing or overlay-printing.例文帳に追加
地紋パターン適用レイヤー決定処理(S3301)は地紋パターンと原稿データにおける原稿内容とが重なる面積に基づき、地紋パターンの印刷を透かし印刷または重ね印刷に決定する。 - 特許庁
To provide a synchronizing device of a manual transmission capable of preventing the hurting of the gear change feeling caused by the idling of a sleeve in a gear change process by allowing a gear part of a clutch hub to be engaged with a gear part of the sleeve with a larger contact area.例文帳に追加
クラッチハブのギヤ部とスリーブのギヤ部とがより大きな接触面積で噛み合うことにより、変速過程でスリーブの遊動による変速感の低下を防止する手動変速機の同期装置を提供する。 - 特許庁
Then, an enemy character to fight with, an item to be generated and the branching of a game scenario are controlled according to the value of the radio wave reception intensities stored in the storage area in the advancing process of the game (step S205 to S213).例文帳に追加
そして、ゲームの進行過程において、記憶領域に格納した電波受信強度の値に応じて対戦する敵キャラクタや発生させるアイテム、ゲームシナリオの分岐を制御する(ステップS205〜S213)。 - 特許庁
To provide a new type photolithography device for semiconductor production, which can be installed within an area comparatively smaller than a conventional device and can be easily applied when introducing a novel process.例文帳に追加
従来の装置より比較的小さい面積に設置することができ、新規工程の導入時容易に適用させることができる新しい形態の半導体製造のためのフォトリソグラフィ装置を提供するものである。 - 特許庁
Assuming that a dummy pattern prescribed by process conditions is arranged in a free space inside an instance or a free space of a chip, a pattern occupancy ratio inside a check window or a pattern area ratio of the chip is verified.例文帳に追加
チップの空き領域又はインスタンス内の空き領域に、プロセス条件により規定されるダミーパターンが配置されると仮定して、チップのパターン面積率又はチェックウィンドウ内におけるパターン占有率の検証を行なう。 - 特許庁
To provide an image forming apparatus that assures more satisfactory image formation by further improving the stability of alignment and power supply in a developer image formation area, and to provide a process cartridge and a developing cartridge.例文帳に追加
現像剤像形成領域における、アラインメント及び給電の安定性をより向上することで、より良好な画像形成を行えるようにした、画像形成装置、プロセスカートリッジ、及び現像カートリッジを提供する。 - 特許庁
To increase process margin, while reducing manufacturing cost in the formation of a trench capacitor which is increased in a capacitor area, by forming a silicon film having an uneven surface on an inner wall in the lower part of the trench.例文帳に追加
トレンチの下部内壁上に表面が凹凸状のシリコン膜を形成し、キャパシタ面積の増大を図ったトレンチキャパシタの形成方法において、プロセスマージンの増大および製造コストの削減を図ること。 - 特許庁
a print made using a stencil process in which an image or design is superimposed on a very fine mesh screen and printing ink is squeegeed onto the printing surface through the area of the screen that is not covered by the stencil 例文帳に追加
型版で補われないスクリーン部分を通じて、印刷面の上で印刷用インクがふき取られ、画像またはデザインがとても細かい網の目状のスクリーンに重ねられる型版の過程を使用して作成される印刷 - 日本語WordNet
To provide a polyimide film with improved punching property by suppressing happening of burrs and scraps in punching process and to provide a polyimide film for lead frames and a surface mounted area array packages by using the film.例文帳に追加
打ち抜き工程でのバリや切り屑の発生を抑制して打ち抜き性を改善したポリイミドフィルムおよびこのポリイミドフィルムを使用してなるリードフレーム用や表面実装型エリアアレイパッケージ用のポリイミドフィルムを提供する。 - 特許庁
To provide a large-area substrate processor using hollow cathode plasma capable of executing a process such as ashing, washing, and etching by using plasma to a substrate such as a semiconductor wafer or a glass substrate.例文帳に追加
半導体ウエハまたはガラス基板などのような基板に対して、プラズマを利用してアッシング、洗浄、エッチングなどのプロセスを実行することができるホローカソードプラズマを利用した大面積基板処理装置を提供する。 - 特許庁
A temporary labeling processing part within an area extraction process block 20 performs the labeling processing which coordinates a temporary label to a group of pixels being a local lump of two or more pixels sorted to be the same kind.例文帳に追加
領域抽出処理ブロック20内の仮ラベリング処理部は、同一種類に分類された複数の画素の局所的な塊である画素群に対して仮ラベルを対応付けるラベリング処理を実行する。 - 特許庁
To provide a dry etching method for precisely treating an area to be etched of a workpiece with the use of a reactive ion etching process using a carbon monoxide gas including a nitrogen-containing compound gas, as a reactant gas.例文帳に追加
含窒素化合物ガスが添加された一酸化炭素ガスを反応ガスとする反応性イオンエッチングを用いて被加工体のエッチング対象領域を精密に加工することができるドライエッチング方法等を提供する。 - 特許庁
As a proper handling of scattering powder on a floor of ITO, etc.,, clean the floor area periodically to prevent the secondary dusting (also, including the work places operated by remote control or changed to automated process).例文帳に追加
ITO等取扱い作業により床等に飛散した粉状のITO等については、二次発じんの防止のため定期的に清掃を行うこと(遠隔操作の導入又は工程の自動化を行った場合を含む。)。 - 厚生労働省
To provide a dispenser for a liquid crystal display panel which can deal with fabrication of the liquid crystal display panel of a large area and can make a dispensing process in-line and a dispensing method utilizing the same.例文帳に追加
大面積の液晶表示パネルの製作に対応することができ、ディスペンシング工程のインライン化を可能にした液晶表示パネルのディスペンサ及びこれを利用したディスペンシング方法を提供しようとする。 - 特許庁
To provide a developing device using a joint belt as a toner conveying means, where the joint area of the belt does not directly participate in image formation, and also, the influence at the joining process is not given to conveying electrodes, then, a high-quality image is obtained.例文帳に追加
接合ベルトからなるトナー搬送手段を用いた現像装置において、接合領域が画像形成に直接関与せず、高品質な画像を得ることができる現像装置を提供することである。 - 特許庁
In the second process the transparent substrate 100 is coated with the oxygen blocking material so that a predetermined area at the end of the transparent substrate 100 is an uncoated region D2 and the other region is a coated region.例文帳に追加
第2の工程では、透明基板100の端部における所定領域を非塗布領域D2とし、他の領域を塗布領域とするように酸素遮断材料を透明基板100上に塗布する。 - 特許庁
The information KK necessary for the process of a file is recorded in a free area on the basis of the recording positional information generated from the control information for controlling the file, so that the reproduction becomes difficult depending on this control information for controlling the file.例文帳に追加
本発明は、ファイルを管理する管理情報によっては再生困難に、この管理情報から生成した記録位置情報に基づいて空き領域にファイルの処理に必要な情報KKを記録する。 - 特許庁
To simplify the algorithms for representing a business element and a relation between the business elements, so that a complicated business process can be represented in a short time and with a small presentation medium area.例文帳に追加
業務要素の表現および業務要素間関係の表現のアルゴリズムを簡素にし、複雑な業務プロセスを、短時間に、少ない表示媒体面積で業務プロセス全体を表現できるようにすることである。 - 特許庁
To provide a semiconductor device and a method of manufacturing the same which can be easily incorporated in a CMOS process, and is provided with a diode that permits comparatively large current, even in a small area and is superior in low-leakage performance.例文帳に追加
CMOSプロセスに容易に組み込むことができ、小面積でも比較的大電流が流せると共に低リーク性能に優れるダイオードを有する半導体装置の製造方法及び半導体装置を提供する。 - 特許庁
To provide the manufacturing method of a semiconductor device, not necessitating any photolithographic process for gettering and not forming any area of CG silicon film which is unable to be used while practical and permitting mass production, and to provide the semiconductor device.例文帳に追加
ゲッタリングのためのフォトリソグラフィ工程を必要とせず、使用不可能なCGシリコン膜の領域を作らない、実用的かつ量産可能な半導体装置の製造方法および半導体装置を提供する。 - 特許庁
To provide a seamless belt which can suppress and prevent crack and rupture from being caused at an end part or the like and further can solve the problem of enlargement of a noneffective area, exfoliation of a tape by a cleaning blade and increase of process number.例文帳に追加
端部等に亀裂が生じて破断するのを抑制防止し、しかも、非有効エリアの拡大、クリーニングブレードによるテープの剥離、工程数の増加という問題を解消できるシームレスベルトを提供する。 - 特許庁
To solve the problem wherein a white ribbon of Si_3N_4 is formed on the surface of a silicon substrate to prevent a gate oxide film from being formed in the area where the white ribbon has been formed in a case wherein LOCOS is formed after a nitrogen annealing process is carried out in a semiconductor manufacturing method.例文帳に追加
半導体製造方法において、窒素アニール後にLOCOSを形成する場合、シリコン基板表面にSi_3N_4からなるホワイトリボンが生成され、その部分でゲート酸化膜の形成が阻害される。 - 特許庁
As a result, desired specification switchover for the printed board 10 is performed in a simple process wherein the connection area CA is left as it is connected to each of independent areas HA and OA or separated from them as occasion demands.例文帳に追加
このため、必要に応じて接続領域CAを各独立領域HA,OAに接続したままにするか、切離すかの簡単な作業工程によりプリント基板10に対する所望の仕様切替ができる。 - 特許庁
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