| 意味 | 例文 |
Process Areaの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2252件
To form an excellent reproduced image by suppressing color slurring caused depending upon a magnification/reduction rate by performing a filter process corresponding to the magnification/reduction rate for image data as a reference source at the time of image area decision making.例文帳に追加
像域判定する際の参照元になる画像データに対して、変倍率に応じたフィルタ処理することで、変倍率に依存して現れる色ずれの発生を抑制し、良好な再生画像を形成する。 - 特許庁
The wiring formation method includes: a process for forming a coating layer 3 having a dispersed solution including conductive fine particles, on a resin substrate 1; a process for forming a conductive fine wiring 4 by consecutively irradiating a specific area of the coating layer 3 with a laser beam 6; and a process for removing material in the area other than the conductive fine wiring 4.例文帳に追加
樹脂基板1上に、導電性微粒子を含有する分散溶液の塗布層3を形成する工程と、レーザ光6を塗布層3の特定領域に連続的に照射していくことで、導電性微細配線4を形成する工程と、導電性微細配線4以外の領域の材料を除去する工程とを備え、塗布層3の厚さをd、塗布層3の光吸収係数をα、レーザ光6の入射光強度をI_0、樹脂基板1上に到達するレーザ光6の透過光強度をI_1とするとき、以下の関係式から成り立つことを特徴とする。 - 特許庁
The manufacturing method of the display device comprises an organic electroluminescent material fixing process of coating a solution containing an organic electroluminescent material in a display pixel forming area, drying the solution, and fixing the organic electroluminescent material in a thin-film shape, and a barrier rib forming process of forming barrier ribs for partitioning the display pixels on an insulating film after the treatment of the organic electroluminescent material fixing process.例文帳に追加
表示画素の形成領域に有機エレクトロルミネッセンス材料を含有する含有液を塗布し、該含有液を乾燥させて前記有機エレクトロルミネッセンス材料を薄膜状に定着する有機エレクトロルミネッセンス材料定着工程と、前記有機エレクトロルミネッセンス材料定着工程の処理後に、絶縁膜上に前記表示画素を仕切る隔壁を形成する隔壁形成工程と、を備える。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a ceria-zirconia based powder which keeps a sufficient specific surface area even under conditions in a hot atmosphere as a promoter of a ternary catalyst by adopting a wet reaction process capable of manufacturing at an industrially minimum cost as a basic process and by drying and firing a hydroxide obtained by the wet reaction process, and to provide a ceria-zirconia based powder obtained by the method.例文帳に追加
基本プロセスとして工業的にもっとも安価に製造できる湿式反応プロセスを採用し、それによって得られる水酸化物を乾燥・焼成して三元触媒の助触媒として必要な高温雰囲気の条件下においても十分な比表面積を保持するセリア−ジルコニア系粉末を製造する方法及びそれによって得られるセリア−ジルコニア系粉末を提供する。 - 特許庁
A biosparging method using a fine bubble-containing liquid-containing water for purifying the volatile organic compounds in situ includes a process for forming a tubular injection well 12 in the contaminated soil 6, a process for supplying the fine bubble-containing liquid W to a wide area in the contaminated soil 6, and a process for sending air A into the contaminated soil 6 through the injection well 12 by an air sparging method.例文帳に追加
揮発性有機化合物を原位置で浄化する微細気泡液含有水によるバイオスパージング法であり、汚染土壌6に管状の注入井戸12を形成する工程と、微細気泡を含む液体Wを汚染土壌6中の広範囲に供給する工程と、エアースパージング法によって空気Aを汚染土壌6中に注入井戸12を介して送り込む工程とを含むようにする。 - 特許庁
This process consists of a decomposition process to decompose organic toxic substances such as dioxins by superheated steam at a temperature that most of soil components can be kept their original forms in the contaminated area contaminated with the organic toxic substances such as dioxins and an activation process to activate soil by adding soil conditioner containing soil microbes to arise favorable growth and development of plants.例文帳に追加
ダイオキシン類等の有機有害物質で汚染された土壌等を、土壌成分の大部分が元の形態を保持できる温度の過熱水蒸気によりダイオキシン類等の有機有害物質を分解する分解工程と、しかる後に少なくとも植物の良好な生育に関与する土壌微生物を含有するする土壌改良材を添加して土壌を活性化する活性化工程と、を含む。 - 特許庁
A conveyance area X of a series of conveying apparatuses 1-X is provided with an interference area Xi wherein adjacent work receiving tables 1a possibly interfere to collide with each other and a non-interference area Xf wherein no interference is caused in adjacent areas under specified process conditions and a conveyance controller for the respective conveying apparatuses can be brought under the centralized control of a centralized controller 50.例文帳に追加
一連の複数の搬送装置1−X の搬送領域X には,所定の工程条件下の隣接する領域内で, 隣接するワーク受台1aが干渉し, 衝突する恐れのある干渉領域Xiと, 干渉する恐れのない不干渉領域Xfとを予め設け, 各搬送装置の搬送制御装置は,集中制御装置50で集中制御可能としている。 - 特許庁
The image subtractive color processing device, which outputs an input digital image data with the subtracted number of gradations, includes a dividing section 602 which divides the input image into small areas with a predetermined process, and adaptive subtractive color processing sections 616-620 which sets the number of gradations for each small area to appropriately subtract colors of each small area based on image data included in the small area.例文帳に追加
入力されたデジタル画像データの階調数を減少させて出力する画像減色装置は、入力画像を予め定められた手法により小領域に分割するための分割部602と、各小領域ごとに、当該小領域に含まれる画像データに基づいて、当該小領域を適切に減色するための階調数を設定するための適応的減色部616〜620とを含む。 - 特許庁
When a spiral inductor is provided at MMIC, a multi-layer wiring in a manufacturing process of MMIC is used, and the outer surface of wire included in the spiral wiring part of the spiral inductor has an uneven shape to increase the surface area of the wire.例文帳に追加
MMICにスパイラルインダクタを設ける場合に、MMIC製造過程で用いられる多層配線を利用し、スパイラルインダクタのスパイラル配線部を構成する導線の外表面に凹凸を形成し、導線の表面積を増加させる。 - 特許庁
Continuous paper is guided and conveyed to a guide course leading to a paper discharge port 110 which is formed in a part area of an opening 108 formed at the top face of a housing 104, and in a process of performing the printing of the continuous paper by the printing part.例文帳に追加
ハウジング104の上面に形成された開口部108の一部領域に形成される排紙口110に至る案内経路に連続用紙を案内搬送し、その過程で印字部によって連続用紙に印字を行なう。 - 特許庁
To provide a clock phase shift circuit which can adjust a phase shift of an input clock without depending upon fluctuations of a process condition, a power supply voltage, a temperature or the like and has an occupancy area smaller than that when using a conventional DLL circuit.例文帳に追加
プロセス条件、電源電圧、温度等の変動によらず、入力クロックの位相シフトの調整ができ、かつ、従来のDLL回路を用いた場合と比較して占有面積の小さいクロック位相シフト回路を提供する。 - 特許庁
In each process, in the area which is not occupied by a holding means, the material is always protected from the contact with the air in the gas atmosphere whose relative density is larger than that of the air, causing to always eliminate the fear of contamination and oxidation.例文帳に追加
各工程中、収容手段により占有されていない領域において、相対密度が空気よりも大きく且つ汚染および酸化のおそれから保護するガスの雰囲気により、材料が常に空気接触から保護される。 - 特許庁
When one of six FET 31 fails in short-circuit, a controllable area identifying part 41 stops the driving an electric motor 18, and then performs a process for identifying the FET which fails in short-circuit.例文帳に追加
6つのFET31のうちの1つが短絡故障した場合には、制御可能領域特定部41は、電動モータ18の駆動を停止させた後、短絡故障が発生しているFETを特定するための処理を行なう。 - 特許庁
The surface of the bank 10 is processed so as to have a liquid- repellent property taking a dynamic contact angle θ as an indicator, prior to the process of forming a film 12 to the area separated by the bank 10 by applying liquid material.例文帳に追加
バンク10によって区画された領域に液体材料を配置して膜12を形成する工程の前に、液体材料に対する動的接触角θを指標として、バンク10の表面を撥液性に加工する。 - 特許庁
To provide a nanocarbon material composite with a silicon oxide particle as a nucleus, having high resistance properties, a large surface area and excellent process aptitude, a method for producing the same, and an electron emission element and an electronic device, such as a surface-emitting element, using the same.例文帳に追加
酸化シリコン粒子を核に持ち、高耐性で表面積が広く、プロセス適性に優れたナノ炭素材料複合体とその製造方法並びにそれを用いた電子放出素子と面発光素子等の電子デバイスを提供する。 - 特許庁
Also, inside the blind hole 56, the RFID tag 60 is fixed to an area where the distal end face 53c of a one-way screw 53 passes through in the process that a locking mechanism 50 changes the state from a constraint state to a release state.例文帳に追加
また、有底穴56内において、RFIDタグ60は、ロック機構50が拘束状態から解放状態へと状態変更する過程でワンウェイねじ53の先端面53cが通過する領域に固設されている。 - 特許庁
As the result of the actual measurement, when variations of the film thickness are large, a layout of a circuit pattern, an area rate or layout of a dummy pattern, and a layout, a film forming amount and a polishing amount of a reverse pattern are optimized to materialize the flatness after the CMP process.例文帳に追加
実測の結果、膜厚のばらつきが大きい場合は、回路パターンの配置、ダミーパターンの面積率や配置、リバースパターンの配置及び成膜量、研磨量を最適化して、CMP加工後の平坦化を実現する。 - 特許庁
If an area ratio of copper is arranged within such ranges, both desirable mechanical characteristics and electric characteristics can be obtained, and also, an additional process can be easily given to the compound wire.例文帳に追加
銅の面積比をそのような範囲内にすると、好ましい機械的特性と電気的特性の両方を達成することが可能になりかつまた上述したように本複合線にさらなる加工を受けさせることも容易になり得る。 - 特許庁
To provide a semiconductor device in which an input terminal (bonding pad) can be adjusted to have a specified capacitance without needing a large area, increasing manufacturing process, and enlarging delay in an input signal.例文帳に追加
大きな面積を必要とせずに、製造工程を増加させることなく、さらに入力信号の遅延を大きくしないで、所定の容量値に入力端子(ボンディングパッド)を調整することができる半導体装置を提供する。 - 特許庁
Since pressing time per the unit area of the inner periphery of the paper cup can be set to be long, the bottom crimping process is certainly performed and consequently, the incidence of paper cup leakage trouble attributed to the bottom crimping failure can be diminished.例文帳に追加
紙カップ内周の単位面積当たりの加圧時間を長く設定できることから、底締め加工をより確実に行うことが可能となり、底締め不良に起因する紙カップの洩れ不良の発生を削減することができる。 - 特許庁
A binarized image BIt is subsequently obtained by binarizing the calculated composite image SIt by using a prescribed threshold during repeating the same process, and when a region being larger than a prescribed area is detected from the video of the binarized image, the region is reported.例文帳に追加
その後も同じ工程を繰り返す間に、求めた合成画像SI_tを所定の閾値を用いて2値化して2値化画像BI_tを得、2値化画像の映像から所定の面積より大きい領域を検出したときに報知する。 - 特許庁
To provide an arithmetic processing unit and a cache memory control device which can arbitrarily divide a cache memory area in blocks according to a process ID so as to improve the effective performance of a processor.例文帳に追加
キャッシュメモリを実装した演算処理装置およびキャッシュメモリ制御装置において、プロセスIDに対応してキャッシュメモリ領域をブロック単位で任意に分割可能として、プロセッサの実効性能を向上することを可能とする。 - 特許庁
To provide a laminated ceramic electronic component for simplifying a lamination process, and for reducing change in the total area of the overlapped areas of a connection electrode and an intermediate electrode, with respect to a lamination deviation between the connection electrode and the intermediate electrode.例文帳に追加
積層工程を簡素化しかつ接続電極と中間電極の積層ずれに対し接続電極と中間電極との重なり合う面積の合計面積の変化を小さくできる積層セラミック電子部品を提供する。 - 特許庁
To avoid drawing corruption due to an ROP process on a memory-saving rendering system by avoiding drawing corruption due to the generation of MSK during CMYK rendering, for an area where predetermined ROP is determined and DST remains.例文帳に追加
CMYKレンダリングにおいて、所定のROPを判定しDSTのままになる領域についてMSKを生成することによる描画不正を回避し、省メモリなレンダリングシステムでのROP処理による描画不正を回避すること。 - 特許庁
To attain a control apparatus enabling to develop software at ease with insuring acceptable delay time of a process with a high priority, to respond design change with flexibility and also to widely use a program area to achieve machine functions.例文帳に追加
優先度の高い処理の許容遅延時間を保証しつつ、ソフト開発を容易にし、設計変更に柔軟に対応でき、かつ機器機能実現のためのプログラム領域を大きく使うことができる制御装置を実現する。 - 特許庁
To provide a developing device, a process cartridge and an image forming apparatus capable of preventing a 1st light transmitting window from being covered with toner dispersed near the area of the 1st light transmitting window and accurately detecting the residual amount of the toner.例文帳に追加
第1の光透過窓領域近傍で分散したトナーが、第1の光透過窓を覆うのを防ぐことでき、正確なトナー残量検知を行うことができる現像装置、プロセスカートリッジおよび画像形成装置を提供する。 - 特許庁
When the process cartridge 60 is attached to or detached from the main body of the image forming apparatus, the undercover 81 comes into contact with the frame plate 91 such that the undercover 81 and the cleaning roll 80 are deformed and compressed and the apparent cross sectional area is reduced.例文帳に追加
画像形成装置の本体に対してプロセスカートリッジ60を着脱する際、フレーム板91にアンダーカバー81が当接し、アンダーカバー81およびクリーニングロール80が変形して潰れ、見かけ上の断面積が小さくなる。 - 特許庁
To provide a raw-material coal composition to form an electric double-layer capacitor which simultaneously attain high level electrostatic capacitance and internal resistance by sufficiently increasing a specific area of an electrode material after the activation process.例文帳に追加
賦活処理後の電極材の比表面積を十分に増加せしめ、高水準の静電容量と内部抵抗とが同時に達成された電気二重層キャパシタを製造することが可能な原料炭組成物を提供すること。 - 特許庁
To provide the structure of a semiconductor chip which is excellent in pressure balance upon mounting of the semiconductor chip and which reduces the area of the semiconductor chip without any additional process in the structure of the semiconductor chip.例文帳に追加
半導体チップの構造において、プロセスの追加を行うことなく当該半導体チップの小面積化を実現し、かつ半導体チップの実装時の圧力バランスに優れた半導体チップの構造を提供することにある。 - 特許庁
The calcium carbonate for sealing filler is characterized in that BET specific surface area by nitrogen adsorption process is 15m2/g or less, mean diameter is 1 to 70 μm, purity is 95% or higher and water content is 3.0% or less.例文帳に追加
窒素吸着法によるBET比表面積が15m^2/g以下で、平均粒径が1〜70μmで、純度が95%以上で、且つ含水率が3.0%以下であることを特徴とする封止フィラー用炭酸カルシウム。 - 特許庁
To provide a substrate for mounting batch-process electronic component capable of easily and accurately dividing a substrate area for mounting individual electronic component without producing burr and cracks and highly reliably airtightly sealing the electronic component.例文帳に追加
個々の電子部品搭載用基板領域をバリや割れを発生させることなく容易かつ正確に分割することができ、電子部品を信頼性高く気密封止できる多数個取り電子部品搭載用基板を提供すること。 - 特許庁
In addition, a dried recording sheet is conveyed to a waiting area 9 and stopped (step 7), the time T after stoppage is clocked, and measurement processing of next process is waited until the time T reaches the waiting time Ts.例文帳に追加
これとともに、乾燥後の記録用紙を待機エリア9まで搬送して停止させ(ステップ7)、停止させてからの時間Tを計時し、この時間Tが待機時間Tsに達するまで次の工程の測定処理を待機する。 - 特許庁
When the UV cut-off film 7 is formed by a film forming process, for example, by sputtering, the back face 1b of the glass substrate 1 is directly in a releasable state adhered to a supporting face 18 of a support glass substrate 17 that covers the whole area of the back face 1b.例文帳に追加
成膜処理、例えばスパッタリングによって紫外線遮断膜7を形成する際、ガラス基板1の裏面1bを、該裏面1b全域を覆う支持ガラス基板17の支持面18に対して剥離可能に直接接着させる。 - 特許庁
Since perfectly circular scrap half blanking 31 is performed in a scrap half blanking process, a wide section does not exist in a scrap 45, so a break with a large area due to the action of a tensile force is not caused at the inner circumference Cis of the stator.例文帳に追加
スクラップ半抜工程において真円状のスクラップ半抜き31が施されているため、スクラップ45に幅の広い部分が存在せず、ステータ内周Cisには引張力の作用による面積の大きな破断が生じなくなる。 - 特許庁
The recognition and decoding process may additionally provide for transforming the captured visual elements to accommodate the allocated display area of small sized display, such as the display associated with a handheld image capturing device.例文帳に追加
認識及び復号化処理は、更に、可搬式画像取り込み装置に付随するディスプレイのような小さなサイズのディスプレイの割り当てられた表示区域に収めるための取り込まれた視覚要素の変換を提供することができる。 - 特許庁
A sufficiently big area gas path is formed between each periphery of the substrate holders 11 and the internal periphery of a reaction tube 1, and the device is configured so as to allow the required amount of a raw material gas to be sent to the substrate holders 11 downstream in the process.例文帳に追加
基板ホルダ11の各外周と反応管1内周との間には、充分大きな面積のガス通路が形成されており、下流側の基板ホルダ11に必要な量の原料ガスが送られるように構成されている。 - 特許庁
To provide a separator for a cell which has intensity, loading property and filling property needed at manufacturing process without reducing an effective electrode area of a separator and is excellent in air permeability, liquid absorbing speed, liquid maintaining property, stable productivity or the like.例文帳に追加
セパレーターの有効電極面積を減少させることなく、製造工程時に必要な強度および装着性、充填性を有し、かつ通気性、吸液速度、保液性、安定生産性などに優れた電池用セパレーターを提供する。 - 特許庁
To produce an oxygen-containing hydrocarbon reforming catalyst which contains copper and has excellent heat resistance and remarkably improved activity per unit surface area and to provide a process for producing hydrogen or a synthesis gas, and an excellent fuel cell system provided with a reformer having the excellent reforming catalyst and a fuel cell in which the hydrogen to be produced by the reformer is used as fuel.例文帳に追加
銅を含有し、かつ耐熱性に優れ、単位表面積当たりの活性が大きく向上した酸素含有炭化水素の改質触媒、及び水素又は合成ガスの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a semiconductor device by which a manufacturing process can be simplified to form a semiconductor device that has a structure to relieve the concentration of an electric field adjacent to an end of a drain area.例文帳に追加
ドレイン領域の端部近傍における電界集中を緩和する構造を有する半導体装置を形成する場合における製造プロセスを簡略化することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a very useful IC card capable of reliably performing the maintenance and position fixing of an electronic part mounting module base material without bringing about the reduction of an electronic part mounting area, the complication of a manufacturing process, a cost increase, etc.例文帳に追加
電子部品実装領域の減少、製造工程の複雑化、コストアップ等を招くことなく、電子部品実装モジュール基板の保持・位置固定を確実に行うことができる、極めて有用なICカードを提供すること。 - 特許庁
To provide a semiconductor device and its manufacturing method capable of being packaged by a chip area without using a semiconductor manufacturing process, enhancing mounting reliability, and improving a degree of freedom of re-wiring.例文帳に追加
半導体製造プロセスを用いることなくチップ面積でパッケージ化することができると共に、実装信頼性を高め、再配線自由度をも向上させることができる半導体装置及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁
Next, the skier is photographed based on position information detected with an arbitrary position inside the photographing enable area as a photographing starting point and the shape data in photographed image data are locked based on image recognition(second process).例文帳に追加
次に、撮影可能エリア内の任意の位置を撮影開始地点として検出される位置情報に基づいてスキーヤーを撮影し、撮影された画像データ内の形状データを画像認識に基づいてロックする(第2の行程)。 - 特許庁
To simplify a process of a semiconductor device packaging a DRAM and a logic part on the same semiconductor substrate, to secure the degree of freedom in design, and to reduce the layout area of a circuit.例文帳に追加
同一の半導体基板上にDRAM部とロジック部とが混載されている半導体装置において、工程の簡略化や設計の自由度を確保することができるとともに、回路のレイアウト面積の縮小化を図ることができるようにする。 - 特許庁
To provide a process for operating a rotary stirrer in compost fermentation equipment wherein the compost is prevented from being splashed out of a fermentation tank when a stirring rotor begins stirring, by decreasing area required for discharging the compost.例文帳に追加
堆肥発酵設備において、堆肥搬出側の必要エリアを小さくし、攪拌ローターの攪拌開始時に、堆肥が発酵槽外部に掻き飛ばされることを防止するロータリー攪拌機の運転方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To obtain an epoxy resin composition for sealing a semiconductor which relates to a semiconductor package for mounting an area, gives little warp in a soldering process at a room temperature, is excellent in reliability on soldering resistance or temperature-cycling resistance, and has excellent moldability.例文帳に追加
エリア実装用半導体パッケージに関し、室温及び半田付け工程での反りが少なく、耐半田性や耐温度サイクル性等の信頼性に優れ、かつ成形性にも優れた半導体封止用エポキシ樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁
To take a countermeasure against power supply noise efficiently by forming a capacitor at a desired position with no restriction of interconnection and to fabricate a capacitor of large capacity with a smaller area even in a finer pattern process technology.例文帳に追加
配線等の制約を受けることなく所望の位置にキャパシタを形成して電源ノイズ対策を効率的に行うことができ、微細化の進んだプロセス技術においても、より少ない面積でより大容量のキャパシタを構成する。 - 特許庁
In the latter process, a transmission still image response identifier with respect to identifier mismatch is transmitted to the identifier transmission section, reception of a still image from a still image reception section 21 is waited, and a received still image is stored into a still image hold area 31.例文帳に追加
他方の処理は、識別子不一致に対する送信静止画応答識別子を識別子送信部へ渡し、静止画受信部21からの静止画受信を待ち、受信した静止画を静止画保持エリア31へ格納する。 - 特許庁
An exposed part 9 of the ITO left outside the sealing area 6 is covered with an insulating member 21, which acts so as to avoid troubles of receiving static charge or the like in an assembly process or the like.例文帳に追加
前記封止領域6の外側に残されたITOの露出部9には、これを絶縁部材21で覆った構成になされ、これにより、アッセンブリ工程等において、静電気を受けるなどのトラブルの発生を防止するように作用する。 - 特許庁
At the time of reproducing this optical disk, the linking sector in the ECC block is obtained based on the linking space of the control data area, and various kinds of the responsiveness for the signal process are adaptibly controlled in the signal section of the linking sector.例文帳に追加
この光ディスクの再生時には管理データ領域のリンキング間隔に基づいて、ECCブロック内のリンキングセクタを求め、そのリンキングセクタの信号区間では信号処理のための各種応答特性を適応的に制御する。 - 特許庁
To permit printing operation to be effected easily to a print medium out of the specification of the printing device without forcing a user to do any complicated process and prevent inconvenience that printing is effected on an area out of the printing medium.例文帳に追加
ユーザに煩雑な処理を強いることなく、プリント装置の規格外のプリント媒体に対しても容易にプリント動作を行ない得るようにするとともに、プリント媒体から外れた領域にプリントがなされる不都合を防止する。 - 特許庁
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