「Process Area」に関連した英語例文の一覧と使い方(36ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a plate surface protecting agent for a planographic printing plate excellent in effect of preventing the flaw stain and grease stain of the planographic printing plate after plate making, excellent also in the protection of the hydrophilic property of a non-image area and exhibiting good ink receptivity in a printing process.例文帳に追加

製版後の平版印刷版の傷汚れ防止及び油脂汚れ防止の効果に優れ、一方非画像部の親水性の保護にも優れ、同時に印刷する過程でインキに対して良好な着肉性を発揮する平版印刷版用版面保護剤を提供する - 特許庁

In the method, the cutting process can be easily performed by using a knife 1 where the cut blade 7 of the intermediate area 10 of a blade body 2 is backwardly escaped, or a cutter having contact parts at its front and back ends and provided with a cut blade at such a position as to upwardly escape from the contact part.例文帳に追加

刃身２の中間領域１０の切り刃７が棟３側に回避後退した庖丁１、または前後端に当接部を有し該当接部から上方に後退回避した位置に切り刃を設けた刃物を用いると簡単に加工できる。 - 特許庁

Then, the face image list display process part 301 displays, on a face thumbnail display area, the respective face images belonging to one of the first face image group and the second face image group in such a manner that the respective face images belonging to the one group are distinguished from the respective face images belonging to the other group.例文帳に追加

そして、顔画像一覧表示処理部３０１は、第１の顔画像グループおよび第２の顔画像グループのいずれか一方のグループに属する各顔画像を、他方のグループに属する各顔画像と区別して顔サムネイル表示エリア上に表示する。 - 特許庁

To actualize a nonvolatile semiconductor memory element having a cell structure of one layer of polysilicon which is manufactured using a standard CMOS process, and to provide a nonvolatile semiconductor memory device which is reduced in mounting area by efficient arrangement and improved in reliability of storage maintenance.例文帳に追加

標準ＣＭＯＳプロセスを用いて製造できる１層ポリシリコンのセル構造の半導体メモリ素子を実現すると共に、効率的な配置により実装面積を小さくし、記憶保持の信頼性を向上させた不揮発性半導体メモリ装置を提供する。 - 特許庁

Unevenly crystallized regions are formed at locations repeatedly exposed to a laser beam in a process of laser-aided crystallization of an amorphous silicon film, and then a problem arises that such regions deteriorate picture quality when arranged in the pixel area of a liquid crystal display.例文帳に追加

レーザービームを利用して非晶質シリコン膜を結晶化する時、レーザービームが何度も照射される部分には不均一な結晶領域が生じるが、このような領域を液晶表示装置の画素領域に配置する場合画質を低下する問題がある。 - 特許庁

Using this method, the nanostructure can be easily formed on the large-area substrate in a short period of time in a highly efficient process, which can be easily applicable to existing processes by applying SPR after forming the photoresist layer out of the nanostructure that has been manufactured in advance.例文帳に追加

したがって、あらかじめ製造されたナノ構造体をフォトレジスト層に形成した後、ＳＰＲを適用することによって既存の工程に簡単に適用でき高効率の工程で短時間に大面積の基板にナノ構造を簡単に形成できる。 - 特許庁

Therefore, when the polarization process is conducted by applying a voltage between the individual electrode 2 and the common electrode 4, for example, electric field is generated not only in the thickness direction in the piezoelectric material layer 3 but also in the area between the adjacent individual electrode 2 and the relaying common electrode 6.例文帳に追加

そのため、例えば、個別電極２とコモン電極４との間に電圧を印加して分極処理を行うと、圧電体層３では、その厚さ方向だけでなく、隣り合う個別電極２と中継コモン電極６との間にも電界が生じることになる。 - 特許庁

An element area formation process in a manufacturing method of a SAW element forms a plurality of SAW element areas 10a, 10b, 10c, 10d and wiring conductors 41 for dicing provided on each periphery of the plurality of SAW device areas on a piezoelectric substrate 11.例文帳に追加

ＳＡＷ素子の製造方法における素子領域形成工程では、圧電基板１１上に、複数のＳＡＷ素子領域１０ａ，１０ｂ，１０ｃ，１０ｄと、複数のＳＡＷ素子領域のそれぞれの外周部に設けられるダイシング用の配線導体４１とを形成する。 - 特許庁

To provide a successive approximation analog-to-digital converter (SAR ADC) including only minimal capacitors to perform analog-to-digital conversion, thereby exhibiting very high resistance to process change while having reduced capacitance and circuit area.例文帳に追加

最小限のキャパシタのみを備えてアナログ-デジタル変換動作が遂行されることができるようにすることにより、減少された静電容量と回路面積を有するだけではなく、工程変化にも非常に強い特性を有するようにするＳＡＲ ＡＤＣを提供する。 - 特許庁

To provide a photolithographic process allowing reduction of an alignment error of an exposure shot formed on a wafer using a method not increasing costs, improving the accuracy of superposition between upper and lower mask patterns even when exposure devices having different shot area sizes are used together.例文帳に追加

コスト上昇を招くことのない方法によってウェーハ上に形成される露光ショットの配列誤差を低減し、ショットエリアの大きさが異なる露光装置を混用しても上下のマスクパターンの重ね合わせ精度が向上できるフォトリソ工程を提供する。 - 特許庁

The minute sample processing observation device includes a focused ion beam optical system 31 and an electron beam optical system 41 in an identical vacuum device, and a probe 72 that separates a minute sample containing a desired area of the wafer 21 by a charged particle beam type molding process and takes out the separated minute sample.例文帳に追加

同一真空装置に集束イオンビーム光学系３１と電子ビーム光学系４１を備え、ウェーハ２１の所望の領域を含む微小試料を荷電粒子線成型加工により分離し、分離した該微小試料を摘出するプローブ７２を備えた。 - 特許庁

To provide an epoxy resin composition for semiconductor sealing, which composition is suitable for an area-mounting semiconductor device having excellent reliability on soldering resistance, temperature cycling resistance and the like since it has small warpage at ambient temperature and in a soldering process, having excellent adhesive property to a gold-plated surface and a solder resist.例文帳に追加

室温及び半田付け工程での反りが小さく、金メッキやソルダーレジストとの密着性に優れるため耐半田性や耐温度サイクル性等の信頼性に優れるエリア実装型半導体装置に適した半導体封止用エポキシ樹脂組成物を得ること。 - 特許庁

The disk information concerned with the disk characteristics, and referred to in the recording and/or reproducing process is recorded in the inside of the area split into 16 sectors from a sector 0 to a sector 15 as attribute information AI together with an identification number, UID (Unique ID) which is disk unique information.例文帳に追加

セクターSector0〜セクターSector15までの16セクターに分割された領域の内側に、記録及び／又は再生処理にて参照される、ディスク特性に関わるディスク情報を、ディスク固有の情報である、識別番号ＵＩＤ（UniqueＩＤ）と共に属性情報ＡＩとして記録する。 - 特許庁

To prevent excessive polishing (dishing) of a large-area pattern from occurring at polishing of a metal film, when in a process for manufacturing a semiconductor device, the metal film formed on an insulating film comprising a groove is polished by CMP method to form a damascene wiring.例文帳に追加

半導体装置の製造工程において、溝を設けた絶縁膜上に成膜した金属膜をＣＭＰ法により研磨してダマシン配線を形成するに当たり、上記金属膜の研磨時に発生する大面積パターンの過剰研磨（ディッシング）を防止する。 - 特許庁

Further, the operation control part 40 compares a signal on the lissajous plane which is generated in a process for adhering the eddy current probe 3 closely to a body to be tested with the lift-off allowable area A to evaluate lift-off quantity generated when pressing the eddy current probe 3 to an arbitrary curved surface.例文帳に追加

さらに、演算制御部４０は、渦電流プローブを被検査体に密着させる過程で発生するリサージュ平面上の信号とリフトオフ許容領域Ａを比較して、任意曲面に渦電流プローブを押付けた際のリフトオフ量を評価する。 - 特許庁

To provide an ultrasonic diagnostic equipment capable of executing the filing with a low capacity with suppressing deterioration of data on a useful area by utilizing RF data that is data before a display process, and reproducing various kinds of information effective in diagnosis including an ultrasonic image.例文帳に追加

表示処理前のデータであるＲＦデータを利用することで、有用な領域のデータの劣化を極力抑えて低容量にてファイリングでき、超音波画像を含む診断に有効な種々の情報を再生可能な超音波診断装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an information recording apparatus releasing recording area of motion picture data before compressed by performing compression recording process about the motion picture data recorded in a storage medium from a reproduced portion until the all compression recording processes are completed about reproduced data.例文帳に追加

記録媒体に記録されている動画データを再生した部分から圧縮記録処理を行ない、再生データについて全て圧縮記録処理が完了するまでに、圧縮前の動画データの記録領域を解放し得る情報記録装置を提供する。 - 特許庁

In this device, through casting, initial drying, bone drying and sintering of a slurry in this order, the initial drying is performed after an aging process of leaving the molded body for 5 hours or more with the drying speed of 7 g/h or less per 1 m2 of the surface area.例文帳に追加

第１発明は、スラリーの鋳込み成形、初期乾燥、完全乾燥および焼結を順に経る際、表面積１ｍ^2当たりの乾燥速度を７ｇ／時間以下として５時間以上成形体を放置するエージングを行った後、該初期乾燥を行う。 - 特許庁

An exposure process for patterning for making the area of the SiO_2 film to be polished by CMP uniform and exposure for patterning for imparting step-difference to an alignment mark are covered by the same exposure, thereby reducing the number of times of exposure processing to two.例文帳に追加

あるいは、ＣＭＰで研磨するＳｉＯ_2膜の面積を揃えることを目的としたパターニングのための露光工程と、アライメントマークに段差を持たせることを目的としたパターニングのための露光を同一露光で賄うことで、露光工程の回数を２回に低減する。 - 特許庁

As defined by Section 2, a design shall be accessible to the public if the design was by the registration or in other way publicly known, exhibited, used in market or revealed through other reason, unless this could not be disclosed for a person skilled in the art, who is active in the European economic area in the normal business process before the day of the filing for registration or, when priority is claimed, before the priority date of the design. 例文帳に追加

第2条に定義される意匠は，登録その他の方法によって公表され，展示され，市場において使用されていたか，又はそれ以外の方法で開示されていた場合は，公衆の利用に供されていたとみなす。 - 特許庁

The two lateral guide means are parts of the milking parlour which not only bound the central area of the milking parlour (ie where the animal stands during the milking process) but also define two lateral spaces where the milking unit and the cleaning unit, respectively, are arranged and, thus, that these lateral areas are parts of the milking parlour. 例文帳に追加

搾乳パーラーの中央部（つまり、動物が搾乳時に立っている場所）のみに留まらず、搾乳ユニットと洗浄ユニットがそれぞれ設けられる２つの水平な空間を規定する２つの水平なガイド手段が、搾乳パーラーの一部である。 - 特許庁

This production process for sorbic acid or its salt comprises the step wherein the slurry or solution containing sorbic acid and its salt is held in the state that the oxygen concentration of the gas phase area contacting with the slurry or solution including sorbic acid or its salt is maintained at ≤4 vol.%.例文帳に追加

ソルビン酸又はその塩の製造法は、ソルビン酸又はその塩を含むスラリー又は溶液に接する気相部の酸素濃度を４容量％以下に保った状態で、ソルビン酸又はその塩を含むスラリー又は溶液を保持する工程を含む。 - 特許庁

A magnesium diboride compound sheath superconducting wire is produced by containing MgB_2 into a compound metal tube formed with at least two different metal tubes, and performing the process of a cross sectional area reduction until a processing degree exceeds 99%.例文帳に追加

少なくとも２種の異なる種類の金属管を組み合わせた複合金属管から形成される複合シース中にニホウ化マグネシウムが内包された複合シースニホウ化マグネシウム超電導線材であって、加工度９９％以上になるまで減面加工されたものである。 - 特許庁

To provide a dielectric coolant of a fuel cell eliminating any performance loss caused by shunt currents on the header area of the stack, as well as hydrogen and oxygen evolution and plate dissolution without adding a corrosion inhibitor, and evaporative cooling process using the same.例文帳に追加

スタックのヘッダー領域の分流電流、水素、酸素の放散及びプレート分解により引き起こされる性能損失を無くし、腐食防止剤の追加が不要な、燃料電池の誘電性冷却剤と、該冷却剤を使用した蒸発冷却プロセスの提供。 - 特許庁

A display control apparatus includes a display control means configured to cause a display device to display a setting screen page to which a setting information item of a predetermined process is input, and to hide the setting screen page in response to the movement of an indication position of a pointing device to the outside of a display area of the setting screen page.例文帳に追加

所定の処理の設定情報を入力させる設定画面を表示装置に表示させ、ポインティングデバイスの指示位置の前記設定画面の表示領域外への移動に応じ、前記設定画面を非表示とする表示制御手段を有する。 - 特許庁

The metallic film pattern is formed through such a process that the mold 5 is detached from the cured resin 4', a cured resin 4" remaining as residue on an area on which the metallic film is to be formed is removed, thereafter, the metallic film 11 is formed through electroforming processing and the cured resin 4' made unnecessary thereafter is removed.例文帳に追加

硬化樹脂４´よりモールド５を取り外し、金属膜を形成する領域の残渣の硬化樹脂４´´を除去後、電鋳処理を経て金属膜１１を形成し、その後不要となった硬化樹脂４´を除去する工程を経て形成される。 - 特許庁

To provide a small cleaning/drying device and device which perform cleaning in which removal of dirt and drying are performed in the same process, which are an energy saving type where cleaning time is speeded up and an area of a cleaned object is made wide and which can realize high speed cleaning/drying.例文帳に追加

汚れの除去と乾燥を同じ工程で行う洗浄であって、洗浄時間の高速化と洗浄処理物面積の広域化を可能とする省エネルギー型で、小型で高速の洗浄乾燥を可能にする、洗浄乾燥方法および装置を提供する。 - 特許庁

The device power supply area 120 is turned off on condition that the PDMAC 140 is in process of transfer, and the next DMA transfer request is transmitted to the PDMAC 140, and turned on each time the transfer by the PDMAC 140 is completed.例文帳に追加

デバイス電源領域１２０は、ＰＤＭＡＣ１４０が転送の実行中であり、かつ次のＤＭＡ転送要求がＰＤＭＡＣ１４０に送信されたことを条件に電源がオフされ、ＰＤＭＡＣ１４０による転送が完了する毎に電源がオンされる。 - 特許庁

The recessed portion 16 of the support 10 houses a cell part 20a protruded from the formation area of the cell part 20 in the production process, thereby preventing the cell part 20 from being stuck in between the support 40 and the sealing body 42 and improving the sealing performance.例文帳に追加

製造工程において、電池部２０の形成領域からはみ出した電池部２０ａは、支持体１０の凹部１６に収納されるため、電池部２０が支持体４０と封止部４２との間に入り込むことを抑制し、シール性を向上させることができる。 - 特許庁

To form a deposited film with uniform thickness and quality and few defect on a substrate with a large area at a high processing speed in a process for fabricating a semiconductor device wherein the deposited film is formed on the substrate by plasmanizing a raw material gas by high-frequency power.例文帳に追加

高周波電力によって原料ガスをプラズマ化し、基体上に堆積膜を形成する、半導体装置の製造方法において、高速な処理速度で大面積の基体上に、膜厚、膜質共に均一で欠陥の少ない堆積膜を形成する。 - 特許庁

To provide a lighting device equipped with a series connection type organic EL element capable of abbreviating a process of wiping predetermined ink in forming a light emitting layer by a coating method, having a structure with a large light emitting area, and, further having a high light extraction efficiency.例文帳に追加

発光層を塗布法によって形成する際に所定のインキを拭き取る工程が省略可能で、発光面積の大きい構成であって、さらに光の取り出し効率の高い直列接続型の有機ＥＬ素子を備える照明装置を提供する。 - 特許庁

Then, the Nafion already containing the Pt catalyst sticks on a non-carrying location of the PtCo catalyst at an overwhelming area of the surface of each carbon particle since the solvent is disappeared on the electrode formed through the process of applying-drying of the electrolyte dispersion solution.例文帳に追加

そして、この電解質分散溶液の塗布・乾燥を経て形成される電極では、溶媒は消失していることから、カーボン粒子表面における圧倒的広さのＰｔＣｏ触媒の未担持箇所に、Ｐｔ触媒を含有済みのナフィオンが付着する。 - 特許庁

To provide a reactive hot-melt adhesive composition preventing bulging by carbon dioxide generated in a curing process of a moisture-curable type reactive hot-melt adhesive, suitable for adherend having wide area, particularly door panel, desk top board, etc. and excellent in adhesiveness and appearance.例文帳に追加

湿気硬化型反応性ホットメルト接着剤の硬化過程で発生する炭酸ガスによるふくれを防止し、特にドアパネル、机の天板などの広い面積を有する被着体に好適で接着性、外観に優れた反応性ホットメルト接着剤組成物を提供する。 - 特許庁

To change a process before the entry of a game ball to a winning hole and to keep the interest of a player in a game machine provided with a winning device that the game ball flowing down a game area can enter and a start port arranged right below the winning device.例文帳に追加

遊技領域を流下する遊技球を入球可能な入賞装置と、該入賞装置の直下に配置される始動口と、を備えた遊技機において、遊技球が当り穴に入るまでの過程に変化を持たせて遊技者の興趣を持続させる。 - 特許庁

Feature image generating means 2 preceding binary-coding means 3 subject a gray image to a spatial filtering process of emphasizing peak parts (S-shaped patterns) of luminance values in an area of objects to be counted, according to the size of the objects to be counted.例文帳に追加

２値化手段３の前段に設けた特徴画像生成手段２において、濃淡画像に対し、計数対象物の大きさに基づいて、計数対象物の領域内の輝度値のピーク部（Ｓ字のパターン）を強調する空間フィルタリング処理を施す。 - 特許庁

To provide an electronic control unit capable of reducing cost and work time caused by a specification change in sensors, while improving processing efficiency in an inspection-adjustment process of the sensors, without enlarging the area of a control board.例文帳に追加

制御基板の面積を大きくすることなく、センサの検査・調整工程における処理効率を向上させることができるとともに、センサの仕様変更に伴うコスト及び作業時間を低減することができる電子制御ユニットを提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a method for producing a metal oxide film capable of forming the metal oxide film having a large surface area while taking advantage of a soft solution process which can form the metal oxide film at a low temperature.例文帳に追加

本発明は、低温で金属酸化物膜を形成することができるソフト溶液プロセスの利点を活かしつつ、表面積の大きな金属酸化物膜を形成することができる、金属酸化物膜の製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

The method for treating non-neuropathic pains includes a process of administering a composition containing a local anesthetic onto the surface near the pain area of a patient in an amount sufficient for generating analgesia without causing anesthesia.例文帳に追加

非神経障害性疼痛を処置するための方法であって、局所麻酔剤を含む組成物を、感覚脱失を引き起こさずに痛覚脱失を生じるに充分な量で、患者に対して疼痛部位付近に表面に投与する工程を包含する、方法。 - 特許庁

If multiple processes mapped the same file into their address spaces, changes to the file's portion of an address space by one process would be reflected in the area mapped by the other processes, as well as in the file itself. 例文帳に追加

複数のプロセスが同じファイルにプロセスのアドレス空間をマッピングした場合、一つのプロセスがファイルにマッピングされたアドレス空間の一部分に対して加えた変更は、通常のファイルがそうであるのと同様、同じ部分をマッピングしている他のプロセスにも反映されます。 - FreeBSD

To provide a charge transfer element to which alignment residual in patterning process at the time of formation does not lead to the variation in the photodetecting area of a photoelectric converter, and to provide its manufacturing method when configuring the image pick-up part of, for example, a solid state image sensor.例文帳に追加

例えば固体撮像素子の撮像部を構成した場合に、作製時のパターニング工程における位置合わせ誤差が光電変換部の受光領域の面積のばらつきにつながらない電荷転送素子及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

It is preferable that an average particle diameter of solid in the soymilk passing the micronizing process is ≤20 μm and a standard deviation thereof is ≤0.35, and a flow passage cross-sectional area of the narrow tube is ≤1 mm^2 and a longitudinal size thereof is ≥3 mm.例文帳に追加

微細化工程を経た豆乳中の固形分の平均粒径は２０μｍ以下であり、標準偏差は０．３５以下であることが好ましく、細管の流路断面積が１ｍｍ^２以下であり、細管の長手方向寸法が３ｍｍ以上であることが好ましい。 - 特許庁

To provide a communication device that needs less number of components even when the device has a function having provision for a plurality of optical communications, requires a mount area of the same degree in comparison with a device having one kind of a communication function without the need for increasing the number of process steps.例文帳に追加

複数の光通信に対応する機能を有していても、部品点数を抑えることができ、それにより、１種類の通信機能を有する場合と比較して同程度の実装面積で済み、工程数も増やさなくてもよい、通信装置を提供する。 - 特許庁

When data are transmitted, a cluster number and a page table origin are found by the PATH table from PATH specified by a transmission instruction and to the cluster specified by the former, the value and virtual address of the latter and data read directly out of the area of the process are transmitted.例文帳に追加

データ送信時には、送信命令で指定するＰＡＴＨから、ＰＡＴＨテーブルによりクラスタ番号とページテーブルオリジンを求め、前者で指定されるクラスタに後者の値と仮想アドレスおよびプロセスの領域から直接読みだしたデータを送信する。 - 特許庁

When a pointer is put over the area of the sub-recipe number of a process unit (washing unit, a dehydrating baking unit, coating unit, etc.), in a recipe picture, a comment ('operation is included and liquid chemicals are used') showing the contents of processing conditions specified by the sub recipe number is displayed.例文帳に追加

レシピ画面において、処理ユニット（洗浄ユニット、脱水ベークユニット、塗布ユニット等）のサブレシピ番号の領域にポインタを重ねたとき、当該サブレシピ番号により特定される処理条件の内容を表すコメント（「動作有り・薬液有り」）を表示させる。 - 特許庁

To provide an adhesive sheet capable of improving the accuracy of the stuck position of a sheet for LSI, FPC or the like, enabling an installed area to be reduced and enabling a sticking process to be reduced when installing two or more kinds of circuit boards on a substrate.例文帳に追加

基板上に複数種類の回路基板を搭載するに際し、ＬＳＩ用やＦＰＣ用等のシート貼り付け位置精度を向上させることができ、搭載エリアの縮小化を図るとともに、貼り付け工程削減を可能とする接着シートを提供する。 - 特許庁