「Process Area」に関連した英語例文の一覧と使い方(37ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a process for producing a multilayer ceramic body in which a level difference due to a conductor pattern formed on a ceramic green sheet can be eliminated and variance in the area of the conductor pattern can be suppressed by suppressing a blur even when a low viscosity conductor paste is used.例文帳に追加

セラミックグリーンシート上に形成された導体パターンによる段差を解消できるとともに、低粘度の導体ペーストを用いてもにじみを抑制して導体パターンの面積のばらつきを抑えることのできるセラミック積層体の製法を提供する。 - 特許庁

To judge the time limit at a glance by displaying the time limit for best of perishable foods and the effective limit of medicines not only by small characters and symbols, but by change of color or change of density due to chemical change or the process of progressing reaction by distance or area.例文帳に追加

生鮮食料品の賞味期限や医薬品などの有効期限を、小さな文字や記号のみではなく、化学変化による色の変化や濃度の変化、或いは反応の進行する過程を距離や面積で表示し、期限を一目で判断できることを得る。 - 特許庁

In order to process a document including plural character areas, character areas 61 and 62, which are arranged adjacently to each other in character areas is detected and the detected character areas 61 and 62 are set as one character area 101.例文帳に追加

複数の文字領域を含む文書を処理するために、前記文字領域のうち、相互に接して配置された文字領域６１及び６２を検出し、検出された文字領域６１及び６２を、一の文字領域１０１として設定することを特徴とする。 - 特許庁

Accordingly, even when the increasing rate of the I/V value of the TFD by the annealing process at the center area of the initial circuit board 200 is small, the I/V characteristic does not fluctuate since a thick insulating film is formed to the first metal layer 222 formed in such a region.例文帳に追加

従って、元基板２００の中心領域でのアニール処理によるＴＦＤのＩ／Ｖ値のアップ度合いが小さい場合でも、このような領域に形成されている第１金属層２２２には厚い絶縁層が形成されるので、Ｉ／Ｖ特性がばらつかない。 - 特許庁

To provide a low cost image carrier which causes no deterioration of characteristics even when a gap holding member or an abutting pressure controlling member is abutted on a non-image forming area, is small-sized, and has high durability, and to provide a process cartridge and an image forming apparatus using the image carrier.例文帳に追加

非画像形成領域にギャップ保持部材や当接圧管理部材を当接する場合でも、特性の低下がなく、小型かつ低コストで、耐久性の高い像坦持体、ならびにそれを用いたプロセスカートリッジおよび画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus which can maintain the uniformity of plasma processing, even when the material of an object film to be processed on a large-area substrate or wafer is different or process conditions of processing of a laminated film formed of a plurality of materials change greatly.例文帳に追加

大面積の基板またはウェハ上の処理対象膜の材料が異なったり、複数の材料からなる積層膜を処理するようなプロセス条件が大きく変化する場合にもプラズマ処理の均一性を保つことができるプラズマプロセス装置を提供する。 - 特許庁

The process unit is structured so as to be attached/detached to/from an image forming apparatus which forms a toner image by supplying toner from a developing means to a latent image on a photoreceptor drum 14 and transfers the image to an intermediate transfer belt 4 running in a transfer area 32.例文帳に追加

プロセスユニットは、感光体ドラム１４上の潜像に対し現像手段からトナーを供給してトナー画像を形成し、該画像を転写領域３２に搬送される中間転写ベルト４に転写する画像形成装置に着脱可能に構成されている。 - 特許庁

In a vendor dependent area 108 in the header part 102, half-tone process data 112 obtained by half-tone processing data derived from the compressed image data and relevant information 110 relevant to the half-tone processing data 112 are embedded.例文帳に追加

そのうちのヘッダ部１０２内におけるベンダ依存領域１０８に、上記圧縮画像データなどから導き出されるデータをハーフトーン処理して得られたハーフトーン処理データ１１２と、そのハーフトーン処理データ１１２に関連する関連情報１１０と、が埋め込まれている。 - 特許庁

The backlight system 6 is formed by bonding the adherend 30 for emitting light, and an optical film subjected to roughening process for increasing the surface area through an adhesive layer 20 containing an adhesive polymer having a gel fraction of 35-85%.例文帳に追加

光が出射される被着体３０と、表面積が増加するように凹凸加工処理を施した光学フィルム１０とを、ゲル分率が３５〜８５％である粘着剤ポリマーを含む粘着剤層２０を介して接合していることを特徴とするバックライトシステム６。 - 特許庁

To acquire a desired adhesion area with a liquid level height which is unchanged after applying an adhesive onto an adhesion seat surface of a casing without complicating a manufacturing process, or without heightening cost thoughtlessly, and to prevent generation of peeling caused by deficiency of an adhesive strength.例文帳に追加

製造工程を複雑にしたり、コストをむやみに高騰させることなく、筐体の接着座面上に接着剤を塗布後に液面高さが変わらないようにして、所望の接着面積を得られるようにし、接着強さ不足による剥れの発生を防止する。 - 特許庁

Further, V1, S1 and T1 respectively show cooling water amount (cm3/sec) per unit time in a process until a strand is cut in the chip state, surface area (cm2/sec) of the strand brought into contact with cooling water and time (sec) in which cooling water is brought into contact with the strand.例文帳に追加

また、Ｖ１、Ｓ１、Ｔ１は各々ストランドがチップ状に切断されるまでの工程に於ける単位時間当たりの冷却水量（cm^3／ｓｅｃ）、冷却水が接触するストランドの表面積（ｃｍ^2／ｓｅｃ）、ストランドと冷却水が接触している時間(sec)を表す。 - 特許庁

In a process to assign a register to a variable, when there is no register to be assigned to the single precision variable, it is checked whether a register usable only for a double precision is allowed to be assigned in a storage area of a single precision register, if allowed, the register usable only for the double precision is assigned.例文帳に追加

変数にレジスタを割り付ける処理で、単精度変数に割り付けるレジスタがない場合に、単精度レジスタの格納領域に使える倍精度のみに利用できるレジスタが割り付け可能かどうかを調べて、割り付け可能であればそのレジスタを割り付ける。 - 特許庁

The threshold voltage of the element is prevented from varying since an impurity activating process for the source/drain area can be omitted, and no determination defect of the substrate is generated since the impurities are diffused in a solid state, so that a leak current flowing through a joint can be reduced.例文帳に追加

ソース／ドレーン領域の不純物活性化工程が省略できるので素子のスレショルド電圧変動を防止でき、固体状態で不純物を拡散させるために基板の決定欠陥が発生せず、よって接合を通じた漏れ電流を減らせる。 - 特許庁

The soft X-ray 14 emitted from a light source part 7 is focused to high energy density using an ellipsoidal mirror 15, and a workpiece 19 is irradiated with the focused light in a prescribed pattern in order to process only the area of the workpiece 19 that has been irradiated with soft X-ray 14 in the prescribed pattern.例文帳に追加

光源部７から放射される軟Ｘ線１４を、楕円ミラー１５で高エネルギー密度に集光して所定のパターンで被加工物１９に照射し、被加工物１９を所定のパターンで軟Ｘ線１４を照射した部分のみを加工する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus, an image forming method and a process cartridge capable of setting the variable extent of the line width of an output image nearly the same as that in the conventional manner without causing a change in a fog value in a non-developing area even in the case of using toner of small grain diameter.例文帳に追加

小粒径のトナーに対しても、非現像領域のカブリ値が変わることなく出力画像の線幅の可変範囲を従来の手法と同程度に設定することができる画像形成装置，画像形成方法，プロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

To provide a developing device, a printer and a process cartridge where the specified amount of developer is carried on a developing roller so as to be fed to a developing area and whose manufacture cost is reduced by making tolerance margin to the size of a doctor gap large.例文帳に追加

現像ローラ上に所定量の現像剤を担持して現像領域に搬送することができるとともに、ドクターギャップの大きさに対する公差余裕を大きくして製造コストの低減を図ることができる現像装置、プリンタ及びプロセスカートリッジを提供する。 - 特許庁

The method includes a phase 406 for defining the output noise component of a sensor and a phase 408 for comparing the output noise component with the noise signature of the history output of the sensor, based on at least either the span area of the sensor or the operating condition of a process.例文帳に追加

この方法は、センサ出力ノイズ成分を確定する段階４０６と、センサのスパン範囲及びプロセス作動条件のうちの少なくとも１つに基づいて、該出力ノイズ成分を履歴センサ出力ノイズシグネチャと比較する段階４０８とを含む。 - 特許庁

The coater for coating the large-area substrate by means of cathode sputtering has a coating chamber and, on the inner part, a cathode assembly 2 where material to be sputtered is rotated during a coating process and is arranged above a target 4 having a curved surface is disposed.例文帳に追加

大面積の基板を陰極スパッタによってコーティングするためのコーターであって、コーティングチャンバを有し、その内部に、スパッタされる材料がコーティングプロセス中に回転するとともに湾曲面を有するターゲット４上に配置されている陰極アセンブリ２を備える。 - 特許庁

During the developing process, the photoresist film 3 is irradiated with irradiation light (infrared) having the wavelength area that makes soluble parts dissolving into the developing solution 7 absorb the irradiation light selectively in comparison with insoluble parts not dissolving into the solution 7 on the exposed photoresist film 3.例文帳に追加

現像処理工程中に、露光処理後のレジスト膜３において現像液７に溶解する可溶部分が現像液７に溶解しない不溶部分に比べ選択的に吸収を起こす波長域の照射光（赤外線）を、レジスト膜３に照射する。 - 特許庁

To provide a process for producing a synthetic resin molding having a more excellent photocatalysis by increasing the area of contact of photocatalyst particles with the external organic substances by subjecting a synthetic resin article to an operation of exposing the photocatalyst particles to the surface of the article.例文帳に追加

合成樹脂物品表面に光触媒粒子を露出せしめる操作を施すことにより、光触媒粒子と外部有機物との接触面積を増大させて、より優れた光触媒作用を有する合成樹脂成形品の製造方法を提供する。 - 特許庁

When a macroblock at the left end or right end of respective regions is processed, the image encoding processing part in charge of the next area is waited for to complete necessary processing of the macroblock, data of adjacent macroblock data are used to process a target macroblock.例文帳に追加

それぞれの領域の左端あるいは右端のマクロブロックを処理する場合には、隣の領域を担当する画像符号化処理部が必要なマクロブロックの処理を終えるのを待って、隣接するマクロブロックのデータを使用して、目的のマクロブロックを処理する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor light element capable of preventing the reduction of contact area between a semiconductor layer in a waveguide ridge top and an electrode by a simple process, and preventing the semiconductor layer in the waveguide ridge top from being damaged by etching.例文帳に追加

簡単な工程により導波路リッジ頂部の半導体層と電極の接触面積の減少を防ぎ、導波路リッジ頂部の半導体層がエッチングによって損傷を受けるのを防ぐことができる半導体光素子の製造方法を得る。 - 特許庁

In the laser sintering process where measured powder is conveyed to a target area from a single-sided bidirectional powder feeding system of the selective laser sintering system, fresh powder is preheated in advance of melting with a laser beam.例文帳に追加

選択的レーザー焼結システムの片側双方向粉体供給システムから計量済み粉体を標的領域に搬送するレーザー焼結プロセスにおいて、レーザー・ビームで熔解する前に新たな粉体を予熱することができる装置および装置の使用方法を提供する。 - 特許庁

A synthesis restriction generation part 32 analyzes the behavior level optimized in the language level and classifies processes included in the behavior level description by attributes and obtains appearance frequencies of processes in the behavior level description for each category and stores them in a process appearance frequency storage area 26.例文帳に追加

そして、合成制約生成部３２は、言語レベル最適化した動作レベルを解析して、動作レベル記述に含まれる処理を属性で分類し、分類毎に動作レベル記述内での出現数を求め、処理出現数記憶領域２６に記憶する。 - 特許庁

To provide a cleaning system with which image quality deterioration caused by the passage of a toner left after transfer through a latent image forming area in the midst of a latent image forming operation can be suppressed, and to provide a process cartridge and an image forming apparatus both equipped with the cleaning system.例文帳に追加

転写残トナーが潜像画像形成中に潜像形成領域を通過することによって生じる画質劣化を抑制することができるクリーニングシステムおよび該クリーニングシステムを備えたプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To improve productivity by automatically tracking the action of each worker in a work field, grasping the work contents of each worker from the stay area of the worker and calculating the number of workers engaging in specific work and the process time of the specific work.例文帳に追加

作業現場内で作業員個々の行動を自動的に追跡しつつ、個々の作業従事者の滞在エリアから作業内容を把握し、もって特定の作業に従事している作業者の人数や工程時間を割り出して生産性を向上する。 - 特許庁

The method for producing the glycidyl ether comprises the following process: A specified halohydrin ether as a compound of the general formula(I) and an alkali-containing aqueous solution are made to flow through a flow path with a cross-section area of 300-50,000μm^2 to carry out a reaction under the mutual contact of the compound and the alkali with each other.例文帳に追加

流路断面積が３００〜５０，０００μｍ^2の流路に、所定のハロヒドリンエーテルとアルカリを含有する水溶液とを流通させ、一般式（Ｉ）で示される化合物とアルカリとを接触させて反応を行うグリシジルエーテルの製造方法。 - 特許庁

Light (for example, the light indicated by an arrow b in a Figure) which is not directly propagated to an output port group 22 among light beams introduced in the slab waveguide 20 is propagated in an attenuation area 20b of the slab waveguide 20 and attenuates in a process of propagation.例文帳に追加

スラブ導波路２０内に導入された光のうち、出力ポート群２２に直接に伝播しなかった光（例えば、図１中の矢印ｂで示される光）は、スラブ導波路２０の減衰領域２０ｂ中を伝播し、この伝播の課程で減衰する。 - 特許庁

Since the data in the past is read out from the area 100 to process a wake signal, the accurate are stored in both of the memory areas 100, 200, and the accurate wakes is displayed in the every display mode by a user.例文帳に追加

記憶エリア１００から過去データを読み出して航跡信号処理を行っているため、記憶エリア１００及び２００のいずれにも正確な航跡が蓄えられることになり、使用者がいずれの表示モードをしても正確な航跡を表示させることができる。 - 特許庁

To provide a method for producing an amorphous silicon which method, like a vapor-phase freezing method such as a plasma CVD method, can easily mass-produce a large-area amorphous silicon with a low energy consumption without using a silane gas toxic to a human body, by utilizing a nonequilibrium process belonging to a solid phase method.例文帳に追加

固相法に属する非平衡プロセスを利用することによって、プラズマＣＶＤ法等の気相凍結法と同様にエネルギー消費が少なく、大面積化・量産化が容易であるが、人体に有毒なシランガスを使用せずに、アモルファスシリコンを製造する。 - 特許庁

Article 23 (1) When the Minister of Land, Infrastructure, Transport and Tourism is in the process of stipulating city plans concerning the policy for the improvement, development and preservation of city planning areas (limited to those items listed in item (ii), paragraph (2), Article 6-2; the same shall apply below in this Article and in paragraph (3), Article 24) or concerning area classification, or when he is in the process of giving consent to the decision on or revision of such plans, or when the Prefectures are in the process of stipulating plans concerning the policy for the improvement, development and preservation of city planning areas or concerning area classification (excluding those areas that require the consent of the Minister of Land, Infrastructure, Transport and Tourism), the Minister of Land, Infrastructure, Transport and Tourism or the Prefectures must consult with the Minister of Agriculture, Forestry and Fisheries in advance . 例文帳に追加

第二十三条　国土交通大臣が都市計画区域の整備、開発及び保全の方針（第六条の二第二項第二号に掲げる事項に限る。以下この条及び第二十四条第三項において同じ。）若しくは区域区分に関する都市計画を定め、若しくはその決定若しくは変更に同意しようとするとき、又は都道府県が都市計画区域の整備、開発及び保全の方針若しくは区域区分に関する都市計画を定めようとするとき（国土交通大臣の同意を要するときを除く。）は、国土交通大臣又は都道府県は、あらかじめ、農林水産大臣に協議しなければならない。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

In the regeneration process for the photoresist developing waste solution including a process for bringing the photoresist developing waste solution contacted with a cation exchange resin, the process for bringing the photoresist developing waste solution contacted with the cation exchange resin mainly contains the pohtoresist and TAAH contacted with a TAA type acidic cation exchange resin with a specific surface area of 10 m^2/g or more to remove alkali metal ions such as Na^+ or K^+.例文帳に追加

フォトレジスト現像廃液を陽イオン交換樹脂と接触させる工程を含むフォトレジスト現像廃液の再生処理過程において、該フォトレジスト現像廃液を陽イオン交換樹脂と接触させる工程がフォトレジスト及びＴＡＡＨを主として含むフォトレジスト現像廃液を比表面積が１０ｍ^２／ｇ以上のＴＡＡ形強酸性陽イオン交換樹脂と接触させ、Ｎａ^+、Ｋ^+等の不純物アルカリ金属イオンを除去することを特徴とするフォトレジスト現像廃液の再生処理方法。 - 特許庁

This semiconductor manufacturing method comprises a step for distributing nonmetallic elements to a surface-adjacent area on a semiconductor layer, a process for stacking a metal film on the semiconductor layer and a process that epitaxially grows a semiconductor metal compound layer through interactions between the semiconductor layer elements and the metal film metals by thermal metal film treatment.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、半導体層における表面近傍の領域に非金属元素を分布させる工程と、半導体層の上に金属膜を堆積する工程と、金属膜に熱処理を施して半導体層を構成する元素と金属膜を構成する金属とを反応させることにより、半導体層の表面に半導体金属間化合物層をエピタキシャル成長させる工程とを備える。 - 特許庁

In obtaining a micro three-dimensional convex shape object such as the microlens array, a workpiece part other than a convex shape machining predetermined part is machined for elimination by a machining method of high elimination speed and large elimination area to form a primary workpiece with rough convex shape parts as a first process, and three-dimensional machining is performed to the individual convex shape parts of the primary workpiece as a second process.例文帳に追加

マイクロレンズアレーなどの微細３次元凸形状体を得るにあたり、第１工程として除去速度および除去面積の大きな加工法にて凸形状加工予定箇所以外の被加工材部分を除去加工して粗凸形状部を有する一次加工品を作り、第２工程として、一次加工品の個々の粗凸形状部に対してビーム加工法により３次元加工を行う。 - 特許庁

To provide a light modulator of an arrayed EA modulator module which presents a favorable high frequency characteristic in a wide-band area, and does not make its package process complex with increase in the number of channels, and further eliminates the need for an optical circulator causing cost increase.例文帳に追加

アレイ化されたＥＡ変調器モジュールにおいて、広帯域な領域で良好な高周波特性を示し、かつチャンネル数の増加に伴い実装工程が煩雑化することなく、さらに、コスト増加を招く光サーキュレータを必要としない光変調装置を提供する。 - 特許庁

The aligning process includes steps of (a) irradiating light at first and second substrates 10 and 30 and measuring the luminance of reflecting light of the luminance measuring area 100, and (b) moving the second substrate 30 in parallel with the Y axis and specifying the position where the luminance becomes smallest.例文帳に追加

位置合わせ工程は、（ａ）第１及び第２の基板１０，３０に光を照射して、輝度測定エリア１００の反射光の輝度を測定すること、及び、（ｂ）第２の基板３０をＹ軸と平行に移動させて、輝度が最も小さくなる位置を特定することを含む。 - 特許庁

The image processing device performs labeling process for the reduced binarized image and changes the pixel value of the image into a pixel value of a background pixel with using an image with maximum area as a subject image and an image in other region as an image including an image reflected by a fluorescent lamp.例文帳に追加

さらに画像処理装置は、縮小二値化画像にラベリング処理を行い、面積が最大の領域の画像を撮影対象の画像とし、それ以外の領域の画像を、蛍光灯の反射画像の写り込みによる画像として、その画素値を背景画素の画素値に変更する。 - 特許庁

In the process of manufacturing a reel tape 110 to be wound around a reel 101 of the slot machine 1, a shrinkage printing area 140 is formed on a tape base material 111 with hard material ink whose quantity of application is adjusted so that the the weight is regularly distributed in the circumferential direction.例文帳に追加

スロットマシン（１）のリール（１０１）に巻回されるリールテープ（１１０）の製造工程において、その周方向における重量分布を一様にすべく塗量を調整した硬化材インクを用いてテープ基材（１１１）の内側面にチヂミ印刷領域（１４０）を形成する。 - 特許庁

To charge particles for display medium in an easy process, to easily control an area to be filled with the particles for display medium and the amount of particles for display medium filled in a cell, and to sufficiently charge the particles for display medium.例文帳に追加

簡単な工程で表示媒体用粒子を充填し、しかも、表示媒体用粒子を充填すべきエリアのコントロール、および、表示媒体用粒子のセル内への充填量のコントロールを容易に達成するとともに、表示媒体用粒子の十分な帯電を可能にする。 - 特許庁

Therefore, a linear shape processing is made in a direction parallel with a cross section for making, and a processing position is corrected with a linear position limited to a vertical direction to the line as a measurement value for the drift correction in reference to the linear shape processing area during the process.例文帳に追加

そのため作成する断面と平行な方向に直線形状加工を行い、加工中にこの直線形状加工領域を参照して直線に対して垂直方向に限定した直線位置をドリフト補正のための計測値として加工位置を補正する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor having excellent durability, free of adverse effects on electrophotographic characteristics, suppressing a change of light-area potential due to repetitive use and having superior surface lubricity and to provide a process cartridge having the electrophotographic photoreceptor and an electrophotographic apparatus.例文帳に追加

耐久性能にすぐれ、電子写真特性に弊害が生じず、かつ繰り返し使用による明部電位の変動を抑えられ、さらに、優れた表面潤滑性を有する電子写真感光体、該電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供することである。 - 特許庁

This device is provided with a focused ion beam optical system and an electronic optical system in the same vacuum device, and also provided with a probe for separating a minute sample including a desired area of a sample by a charged particle beam forming process, and for extracting the separated minute sample.例文帳に追加

上記課題を解決するために本発明装置では、同一真空装置に集束イオンビーム光学系と電子光学系を備え、試料の所望の領域を含む微小試料を荷電粒子線成型加工により分離し、分離した該微小試料を摘出するプローブを備えた。 - 特許庁

To provide a board electric potential detecting circuit and a board electric potential generating circuit where, with no process-dependency, a board electric potential is detected and controlled at high precision, a response speed is high, latch-up is prevented, the occupation area of element is suppressed from increasing, and a leak current is suppressed.例文帳に追加

プロセス依存性を有することなく基板電位を高精度で検知し制御することができ、応答速度が速く、ラッチアップを防止できると共に、素子の占有面積の増大を抑制し、リーク電流を抑制することができる基板電位検知回路及び基板電位発生回路を提供する。 - 特許庁

To provide an n type diffusion layer formation composition, a manufacturing method of an n type diffusion layer, and a manufacturing method of solar cells which form the n type diffusion layer at a specific area without forming unnecessary n type diffusion layers in a manufacturing process of the solar cells using silicon substrates.例文帳に追加

シリコン基板を用いた太陽電池セルの製造工程において、不要なｎ型拡散層を形成させることなく特定の部分にｎ型拡散層を形成するｎ型拡散層形成組成物、ｎ型拡散層の製造方法、及び太陽電池セルの製造方法の提供。 - 特許庁

At a first process of the method for working the catheter, parts where a first group of wires W_a crosses with a second group of wires W_b above and below, that is a mesh cross part, in the metal mesh 34 in an area E to be welded which is set at the distal end of the catheter 30 are irradiated with a pulse laser beam for welding.例文帳に追加

第１工程では、カテーテル３０の先端部に設定された溶接領域Ｅ内の金属メッシュ３４において第１組のワイヤＷ_aと第２組のワイヤＷ_bとが上下に交差する部分つまりメッシュ交差部に、溶接用のパルスレーザ光を照射してスポット溶接を施す。 - 特許庁