「Process Area」に関連した英語例文の一覧と使い方(39ページ目) - Weblio英語例文検索

In this process, holes which are minor carriers for the source area (SBL1) are injected into the charge storage film 12 from the source side, and the amount of the charges in the source side parts 12s of the charge storage film 12 is relatively shifted to the positive polarity side 12d for other parts of the charge storage film.例文帳に追加

このとき、ソース領域（ＳＢＬ１）の少数キャリアであるホールを電荷蓄積膜１２にソース側から注入し、電荷蓄積膜１２のソース側部分１２ｓの電荷量を、電荷蓄積膜の他の部分１２ｄに対し相対的に正極性側にシフトさせる。 - 特許庁

To provide a light guide plate which can make a plane light source device which can be manufactured by a simple manufacturing process and has a sufficient luminance of emitted light and has a sufficient color reproducing area and a sufficient and uniform luminance of the emitted light when used in a plane light source device of a side light system.例文帳に追加

簡易な生産プロセスで製作可能であって、サイドライト方式の面光源装置に用いられた場合に、出射光の輝度が十分であり、色の再現範囲が十分であり、出射光の輝度の均一化が十分になされる面光源装置が得られる導光板を提供すること。 - 特許庁

To provide manufacturing equipment for and a manufacturing method of a molded body which can provide the molded body that is ultrafinely processed, has high dimensional accuracy, low residual stress, low birefringence, high light transmittance and excellent mechanical strength in a three-dimensional, is thin, and has a large-area shape by a super-low-pressure molding process.例文帳に追加

超微細加工、高い寸法精度、低残留応力、低複屈折、高光透過性、優れた機械的強度を有する成形体を、超低圧の成形プロセスで、三次元、薄肉、かつ大面積の形状でもって提供可能な、成形体の製造装置および方法を提供する。 - 特許庁

In each partial machining area RD, if machining is carried out by means of the closed curved line CL' close to the optimum length, there is no need for restricting a process for making relative moving speed small, under control, and the amount of cutting per hour can be made great, so that a cutting machining can thereby be efficiently carried out.例文帳に追加

部分加工領域ＲD 各々において、最適長さ近傍の閉曲線ＣＬ′によって加工されれば、相対移動速度を小さく制限する必要がなくなり、時間当たりの切削量を大きくすることができ、能率よく切削加工を行うことができる。 - 特許庁

To provide a dye-sensitive solar cell module by which a manufacturing process can be simplified, a manufacturing unit price can be restrained, an active area of the dye-sensitive solar cell module can be increased, the deterioration of properties caused by a tape can be prevented, and excellent photoelectric transducing efficiency can be exhibited.例文帳に追加

単純な製造工程で製造できて製造単価が抑えられ、染料感応太陽電池モジュールの活性面積を増加させることができ、テープによる特性低下問題がないために光電変換効率に優れた染料感応太陽電池モジュールを提供する。 - 特許庁

In an implantation process for manufacturing CMOS structure provided with an ESD (ESD HVnMOS), an (n) well area is covered with a mask, P-well is implanted to form a p-well.例文帳に追加

静電気放電（ＥＳＤ）による劣化に対処する保護装置としての応用のための横型ｎｐｎトランジスタの大電流能力は、アバランシェを起こしているｐｎ接合からウエハの裏面コンタクト（１０）へ流れるコレクタ電流が通る材料の電気抵抗値を調節することによって改善される。 - 特許庁

To provide a planographic printing plate applying a silver complex salt diffusion transfer process, excellent in various printing characteristics, excellent particularly in resistance to the stain of the non-image area and scratch stain (the stain of a scratched part of the plate surface) and having enhanced handleability.例文帳に追加

本発明は銀錯塩拡散転写法を応用した平版印刷版は印刷諸特性に優れ特に非画像部分の汚れ及びスクラッチ汚れ（版面の引っ掻き傷部分の汚れ）に優れ取り扱い性の向上した平版印刷版を提供する事を目的とする。 - 特許庁

The device is equipped with a focused ion-beam optical system and an electro-optical system in the same vacuum device, as well as a probe for separating a minute sample including a desired area of the sample by a charged particle beam forming process, and for extracting the separated minute sample.例文帳に追加

上記課題を解決するために本発明装置では、同一真空装置に集束イオンビーム光学系と電子光学系を備え、試料の所望の領域を含む微小試料を荷電粒子線成型加工により分離し、分離した該微小試料を摘出するプローブを備えた。 - 特許庁

To provide a processing system which can uniformalize flow of gas and the form of a plasma, provide a small processing system by the occupation area of the device, reduce the loss of high-frequency power put in a high-frequency plasma process, and generate and maintain the plasma efficiently.例文帳に追加

ガスの流れやプラズマ形状を均一にすることが可能であり、かつ、装置の占有面積が小さなプロセス装置を提供すること、高周波プラズマプロセスで投入した高周波電力の損失を減らし、効率的にプラズマを発生、維持させることが可能なプロセス装置を提供すること。 - 特許庁

This invented image processor generates a result image 117 which has an object extracted nearly automatically from a slice image by a ROI segmentation part 106, a threshold process part 108, a connection/ disconnection part 110, an area narrowing-down part 112, and a shape feature quantity calculation part 114.例文帳に追加

本発明にかかる画像処理装置においては、ＲＯＩ切出し部１０６、閾値処理部１０８、連結切断部１１０、領域絞り込み部１１２及び形状特徴量算出部１１４により、スライス画像から、ほぼ自動的に対象物が抽出された結果画像１１７が作成される。 - 特許庁

To provide a polymeric light-emitting material from which lights having various colors, from green to red can be obtained with high luminous efficiency; and to provide an organic EL element and a display device which can be manufactured by a simplified process and also can achieve a display having a large area and being excellent in durability.例文帳に追加

緑色から赤色に至る様々な色の発光が高い発光効率で得られる高分子発光材料を提供することと、製造工程が簡略化され、大面積化が実現できるとともに、耐久性に優れた有機ＥＬ素子および表示装置を提供することとにある。 - 特許庁

To record and/or reproduce additional information related to main information together with the main information containing various contents such as music and videos without reducing a recording area for the main information, and to apply proper process to the main information in accordance with the additional information.例文帳に追加

メイン情報用の記録領域を削減することなく、音楽や映像等の各種コンテンツからなるメイン情報とともにメイン情報に関連する付加情報を記録及び／又は再生し、上記付加情報に応じて上記メイン情報に適応的な処理を施すことができるようにする。 - 特許庁

To provide a method for fabricating a heat-radiation substrate inexpensive in material costs and process costs, capable of achieving light, thin, short, and small dimensions, and excellent in reliability and processability, capable of enlarging its area, by introducing a plastic substrate excellent in thermal conductivity to improve heat-radiating characteristics.例文帳に追加

放熱特性を向上させるために、熱伝導に優れたプラスチック基板を導入することにより、材料費と工程費が低廉であり、軽薄短小の実現が可能であり、信頼性および加工性に優れるうえ、大面積化が可能な放熱基板の製作方法を提供する。 - 特許庁

The Ti-V alloy target material for vapor deposition is a Ti-V alloy target material used for dry process vapor deposition and having a part where Ti and V are allowed to enter into solid solution, in an amount of ≥5% by surface area ratio of a mirror polished specimen, and also having 95-100% relative density.例文帳に追加

ドライプロセス蒸着用として用いられるＴｉ−Ｖ合金製ターゲット材であって、ＴｉとＶが固溶した部分を鏡面研磨試料の表面面積率で５％以上有し、且つ相対密度が９５〜１００％である蒸着用Ｔｉ−Ｖ合金製ターゲット材。 - 特許庁

If there exists the updating map data that belong to the area of "map data used for route calculation" that have been read at S10 (S30:YES), the updating map data are used to perform updating process with "map data used for route calculation" that have been read at S10 on an RAM (S40).例文帳に追加

Ｓ１０にて読み込んだ「経路計算に用いる地図データ」のエリアに属する更新用地図データがあれば（Ｓ３０：ＹＥＳ）、その更新用地図データを用いて、Ｓ１０にて読み込んだ「経路計算に用いる地図データ」に対する更新処理を、ＲＡＭ上にて実行する（Ｓ４０）。 - 特許庁

In the patterning process of the gate, a polycrystalline silicon film 16a which constitutes the floating gate 6 is left in the element formation area 12, and besides in condition that the element isolation film 14 is exposed, the etching is stopped once, and a groove is made in the surface of the element isolating and insulating film 14.例文帳に追加

ゲート部のパターニング工程では、浮遊ゲート６を構成する多結晶シリコン膜１６ａが素子形成領域１２に残され、且つ素子分離絶縁膜１４が露出した状態で一旦エッチングを止めて、素子分離絶縁膜１４の表面に溝２３を加工する。 - 特許庁

To lower the manufacture cost of an electrode substrate for a liquid crystal device, which is used for a p-Si type TFT-LCD by performing high- precision OS inspection, without causing increase in the area of a row electrode driving circuit or the facility investment amount and decreasing defective substrates moving into cell process.例文帳に追加

ｐ−Ｓｉ型ＴＦＴ−ＬＣＤに用いられる表示装置用電極基板において、行電極駆動回路の面積増や設備投資額の増加を招くことなしに高精度なＯＳ検査を可能とし、不良基板のセル工程への流れ込みを低減して、製造コストを削減する。 - 特許庁

A 3D-LUT with a lower upper limit value in the image data, after the color conversion process is selected (step S6), when an area in which the number of pixels with total of pixel value (total of YMCK) that are threshold value T1 or more is a threshold H1 or more is present among the plurality of ranges (YES in step S5).例文帳に追加

複数の領域の中で、画素値の合計（ＹＭＣＫの合計）が閾値Ｔ１以上の画素の数が閾値Ｈ１以上である領域が存在する場合には（ステップＳ５；ＹＥＳ）、色変換処理後の画像データの上限値がより低い３Ｄ−ＬＵＴを選択する（ステップＳ６）。 - 特許庁

To realize reduction of an electric wiring area in a PLC (Planar Lightwave Circuit) substrate, reduction of a module size by dispensing with IC mounting substrate, reduction of the number of wire bonding lines between the PLC substrate and an electronic circuit board and simplification of an inspection process in an optical module for controlling output characteristics with electricity.例文帳に追加

電気で出力特性を制御する光モジュールにおいて、ＰＬＣ基板内の電気配線の面積の低減、ＩＣ実装基板が不要になることによる、モジュールサイズの低減、ＰＬＣ基板と電子回路基板との間のワイヤボンディング本数の低減、検査工程の簡略化を実現する。 - 特許庁

In the processing method of the optical storage medium the high power process to repeatedly plural times irradiate with a light beam having the power stronger than the power for the recording or erasing is applied on the power adjusting area of optical storage medium for adjusting the power of the light beam.例文帳に追加

本発明は、光学的記憶媒体の処理方法において、光ビームのパワー調整を行う光学的記憶媒体のパワー調整領域に対して、記録又は消去を行うパワーより高いパワーの光ビームを複数回繰り返し照射する高パワー処理を行うことを特徴とする。 - 特許庁

When an application program for controlling the operation in process is forcedly terminated during the data processing and the control returns to the operation menu, the data file stored in the backup file is restored to the data file area as a data file corresponding to an operation using the data file.例文帳に追加

データ処理の途中で実行中の業務を制御するアプリケーションプログラムが強制終了され、制御が業務メニューに戻ると、バックアップファイルに記憶されているデータファイルを、当該データファイルを使用する業務に対応したデータファイルとしてデータファイル領域に復元する。 - 特許庁

To easily and reliably planarize steps formed on a semiconductor substrate without using the COM method, and obtain a superior flatness over a wide area of the semiconductor substrate surface without bringing about the process increase or cost up, thereby realizing a high speed operation with a little wiring delay.例文帳に追加

ＣＭＰ法を用いずに半導体基板上に生じた段差を容易且つ確実に平坦化し、工程増やコスト高を招来することなく半導体基板表面の広範囲で優れた平坦性を得ることにより、配線遅延の少ない高速動作化を実現する。 - 特許庁

The metallic powder or the alloy powder having ≤5 μm particle diameter and ≤5 m2/g specific surface area is economically also obtained by using metallic compound powder in place of the metallic powder or the metal alloy and adding a reducing process at the time of heating.例文帳に追加

原料として用いる金属粉もしくは合金粉の代わりに金属化合物粉を用いても、加熱時に還元工程を追加することで、同様に粒径が５μm以下で比表面積が５平方メートル／ｇ以下である金属粉あるいは合金粉を経済的に得ることができる。 - 特許庁

In each of a scanner correcting unit 304 and a printer correcting unit 305, improvement in image quality of an output image is to be realized by performing an image process different from the other area relating to an extracted characteristic portion after extracting the characteristic portion from the image data.例文帳に追加

スキャナ補正部３０４及びプリンタ補正部３０５のそれぞれにおいて、画像データから特徴的な部分を抽出し、抽出された特徴的な部分に対して他の領域と異なる画像処理を施すことにより出力画像の画質の向上を実現している。 - 特許庁

A face identifying means identifies a human face included in image data obtained by the picking up of an image, and if the image data includes a human face, a face transforming and correcting means performs a face correcting process to narrow the width of the area of the image data corresponding to the human face.例文帳に追加

人顔判別手段が、撮像によって得られた画像データに人顔が含まれているかを判別し、前記画像データに人顔が含まれる場合に、顔変形補正手段が、該画像データの人顔に対応する領域に対して幅を狭くする顔補正処理を行なう。 - 特許庁

To obtain an image forming method by which the image of a high quality is stably recorded in a simple image recording process by using water- color ink by which the sticking of ink to a liquid non-sticking area is solved and an environmental problem is eliminated, and to provide the water-color ink and a recording body therefor.例文帳に追加

非液体付着性領域へのインキの付着を解決すると共に環境上問題のない水系インクを用い、簡単な画像記録プロセスで、安定して高画質な画像を記録することが可能な画像形成方法、そのための水性インキ及び記録体を得る。 - 特許庁

To provide a semiconductor device using a fully silicided gate process in which the width of a gate interconnection is narrow, wherein a contact area between the gate interconnection and a contact can be easily secured and the wire resistance of the gate interconnection can be made small without changing the designing rules of the gate interconnection.例文帳に追加

ゲート配線の幅が狭いフルシリサイド化ゲートプロセスを用いた半導体装置において、ゲート配線の設計ルールを変更することなく、ゲート配線とコンタクトとの接触面積を確保することが容易で且つゲート配線の配線抵抗が小さい半導体装置を実現できるようにする。 - 特許庁

To provide an endoscopic image processor capable of giving a warning and indicating shape information, an inserting process, and operating instructions of an insertion part in accordance with its inserting motion if an insertion part forms a loop in a subject's body or a test area of the subject's body extends on an endoscopy.例文帳に追加

内視鏡検査時に、被検体内で挿入部がループ形成したり、また被検体の観察部位が伸展した際に、警告を発すると共に、挿入動作に応じた形状情報と挿入方法や操作指示情報を共に表示される内視鏡画像処理装置が望まれている。 - 特許庁

To manufacture a semiconductor device by a process simpler than that for a conventional lateral trench power MOSFET having a withstand voltage of 80 V at a device pitch shorter than that of a conventional lateral power MOSFET having a withstand voltage lower than 80 V while decreasing on-resistance per unit area.例文帳に追加

従来の耐圧８０Ｖ用の横型トレンチパワーＭＯＳＦＥＴよりも簡素なプロセス工程で製造可能であり、かつ従来の８０Ｖよりも低い耐圧用の横型パワーＭＯＳＦＥＴよりもデバイスピッチが小さくて単位面積当たりのオン抵抗が小さいこと。 - 特許庁

To provide a high frequency plasma CVD process and a high frequency plasma CVD system stably depositing a deposition film of high quality in which film thickness is extremely uniform and film quality is homogeneous on a substrate of a larger area with an optional shape at a high speed and capable of efficiently depositing a deposition film.例文帳に追加

任意形状の大面積の基体上に、膜厚が極めて均一で且つ均質膜質である高品質な堆積膜を高速度で安定に形成し、効率よく堆積膜を形成し得る高周波プラズマＣＶＤ法および高周波プラズマＣＶＤ装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a slot machine using game balls capable of preventing a fraudulent program from being resident in an unused area of a storage means of a microcomputer controlling a game and, when erroneously detecting a power cut, preventing the erroneous execution of the power recovery process.例文帳に追加

遊技の制御を行うマイクロコンピュータの記憶手段の未使用領域に不正プログラムが常駐することを防止できるとともに、電断を誤って検出した際に、誤って停電処理が行われてしまうことを防止できる遊技球を用いたスロットマシンを提供すること。 - 特許庁

A setting of the exposure parameter in every exposure process is adjusted according to deviations in optical proximity effects of respective areas in a semiconductor substrate, whereby a deviation in the optical proximity effect of an exposure area is compensated for, resulting in a fixed and uniform optical proximity effect.例文帳に追加

半導体基板におけるそれぞれの露光エリアの光学近接効果の偏差に応じて、毎度の露光プロセスの露光パラメータ設定を調整することによって、露光エリアの光学近接効果の偏差を補償し、固定で均一な光学近接効果の結果を得られる。 - 特許庁

To provide a wrinkle holding mechanism which has a simple structure, can vary a wrinkle holding force of a flange part in a blank independently of drawing with a punch and can achieve dynamic control of the wrinkle holding force depending on a change (reduction) in area of the flange part of the blank in a drawing process.例文帳に追加

構造がシンプルで、ポンチによる絞り加工とは独立にブランクのフランジ部分のしわ押さえ力を変化させ得るとともに、絞り加工工程におけるブランクのフランジ部分の面積の変化（減少）に応じてしわ押さえ力のダイナミック制御が可能なしわ押さえ機構を提供すること。 - 特許庁

To provide a water-tight normal temperature thermo-shrink insulation cylinder and a cable connector using the same that assures excellent water-tight characteristic and efficiency for connection and water-tight processes in order to realize easier cable connection and water-tight process even in the area where use of heat source is restricted.例文帳に追加

遮水性能が優れ、接続、遮水処理の作業性が良好であり、さらに熱源の使用が制限等されているところでも、ケーブル接続、遮水処理作業を容易に行うことができる遮水型常温収縮性補強絶縁筒及びこれを用いたケーブル接続部を提供する。 - 特許庁

To provide a low cost area sensor (an optical sensor apparatus) incorporating a sensor driver circuit or the like and in which a highly-sensitive optical sensor element and a switching element such as a sensor driver circuit or the like are formed on the same insulating film substrate using an LTPS planar process, or to provide an image display apparatus incorporating the optical sensor element.例文帳に追加

高感度の光センサ素子とセンサドライバ回路等のスイッチ素子とを、同一の絶縁膜基板上に、LTPSプレナプロセスを用いて形成し、センサドライバ回路等を内蔵した低コストのエリアセンサ（光センサ装置）、または、この光センサ素子を内蔵した画像表示装置を提供する。 - 特許庁

To secure machining accuracy by determining a proper value of an electric discharge gap affecting discharge machining area and a state of machining fluid within a reference in a machining process for every electrode to be machined and performing machining by the proper electric discharge gap and to improve working efficiency by automatically performing the processes.例文帳に追加

放電加工の面積と加工液の状態に影響する放電ギャップの適性値を、加工する電極毎に加工過程中の基準内で求め、その適正な放電ギャップで加工することで、加工精度を確保でき、上記工程を自動で行い作業効率の向上を図る。 - 特許庁

In the backlight system 6, the adherend 30 to which the light is emitted, and an optical film 10 having undergone a roughening process in order to increase its surface area are bonded via the adhesive layer 20 containing adhesive polymer with a gel fraction of 35-85%.例文帳に追加

光が出射される被着体３０と、表面積が増加するように凹凸加工処理を施した光学フィルム１０とを、ゲル分率が３５〜８５％である粘着剤ポリマーを含む粘着剤層２０を介して接合していることを特徴とするバックライトシステム６。 - 特許庁

In the case that the print process starts ("Y" at a step 6), character interval for printing an delivery form 13 is calculated from the setting information and resolution of a printing device 5 (a step S7), and character string is printed in a respective cell area 14 with the character interval (steps S8, S9).例文帳に追加

印刷処理が開始されると（ステップＳ６で「Ｙ」）、上記設定情報と印字装置５の解像度とから納付書１３上での印字用の文字間隔が算出され（ステップＳ７）、その文字間隔で文字列がそれぞれの升目領域１４に印字される（ステップＳ８，Ｓ９）。 - 特許庁

To deal with a situation in which evacuation takes place across a wide area, prefectures outside the affected prefectures were informed of: 1) the concrete process for claiming compensation in prefectures and municipalities receiving refugees; and 2) MHLW's decision to make a provisional, preliminary payment of 30.1 billion yen for Iwate Prefecture, Miyagi Prefecture, and Fukushima Prefecture. Thus, unaffected prefectures were requested that they actively take part in the rescue efforts.例文帳に追加

広域避難の取扱いに関し、①受入れ都道府県市町村での具体的な求償の流れ、②岩手県、宮城県及び福島県に対する当面の予備費３０１億円の使用の決定を周知し、他自治体の積極的な救助を要請（平成23年3月29日） - 厚生労働省

To solve the problems that the number of sensors is increased in the case of constituting various focus detecting area arrangement of one kind of image sensor, and that the cost is increased and the manufacturing process is complicated in the case of using several kinds of image sensors in order to reduce the number of sensors.例文帳に追加

多彩な焦点検出エリア配置を一種類のイメージセンサで構成する場合に生じるセンサの数が増加するという問題や、センサの数を少なくするために複数種類のイメージセンサを用いた場合に生じるコスト増、製造工程の複雑化といった問題を解決する。 - 特許庁

The decoding device comprises a padding unit for determining whether or not decoded data to be outputted includes boundary pixels when the decoded data is to be outputted to a frame memory, and for performing a padding process to an extended area by using the data of the boundary pixels when the boundary pixels are determined to be included.例文帳に追加

復号化装置は、復号された復号データをフレームメモリへ出力する際に、出力する復号データに境界画素が含まれるか否かを判断し、境界画素が含まれると判断する場合には、境界画素のデータを用いて、拡張領域へパディング処理を行うパディング部を備える。 - 特許庁

To obtain a high drive current by forming a fine channel and shallow source and drain of nm order size by utilizing a heavily doped silicon layer of a source and drain junction without separate lithographic process as a diffusion source and increasing an effective width of the channel in the same area.例文帳に追加

別途のリソグラフィ工程なしにソース及びドレイン接合部の高不純物濃度のシリコン層を拡散源として利用してｎｍ大きさの微細チャネルと浅いソース及びドレインを形成すること、また同じ面積内でチャネルの実効幅を増加させることによって高い駆動電流を得ること。 - 特許庁

The method for producing flash memory cell is provided with steps such as step for sequentially forming a pad oxide film 22 and a pad nitride film 23 on a wafer 21, and step for performing a source ion implantation process after the pad nitride film in the area planned to form a source S is removed.例文帳に追加

本発明に係るフラッシュメモリ素子の製造方法は、半導体基板２１上にパッド酸化膜２２及びパッド窒化膜２３を順次形成し、ソースＳ形成予定領域の前記パッド窒化膜を除去した後、ソースイオン注入工程を行う段階等の段階を含んでなることを特徴とする。 - 特許庁

The aligning process includes steps of (a) irradiating first and second substrates 10 and 20 with light and measuring the luminance of the reflecting light of the luminance measurement area 100, and (b) moving the second substrate 20 in parallel with an X axis and specifying a position where luminance becomes smallest.例文帳に追加

位置合わせ工程は、（ａ）第１及び第２の基板１０，２０に光を照射して、輝度測定エリア１００の反射光の輝度を測定すること、及び、（ｂ）第２の基板２０をＸ軸と平行に移動させて、輝度が最も小さくなる位置を特定することを含む。 - 特許庁

To provide a varnish coater which utilizes a stencil process printer of conventional common digital plate making-type and enables simple/convenient applying of a uniform varnish film to a specified area of the surface or cover of printed matter by any user.例文帳に追加

一般的な従来のデジタル製版式の孔版印刷装置を利用・活用して、誰でもが簡単手軽に、印刷物の表面や表紙等の所定エリアに均一皮膜のニス塗布を行うことを可能にするための孔版印刷装置を利用したニスコーティング装置を実現し提供する。 - 特許庁