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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > Process Areaの意味・解説 > Process Areaに関連した英語例文

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Process Areaの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 2252



例文

Also, by arranging the main seal pattern 2 by bending it in the corrugated shape in the line width of a conventional straight pattern, the peeling load of the main seal pattern 2 per unit area of glass is improved and the serious defect of seal peeling is hardly induced in the process of cutting stuck glass into a panel individual piece size.例文帳に追加

また、本シールパターン2を従来の直線パターンの線幅で波状に曲げて配置することにより、ガラスの単位面積当たりの本シールパターン2の剥離荷重が向上し、貼り合わせガラスをパネル個片サイズに切断する工程において、シール剥離という重大欠陥を誘発しにくくなる。 - 特許庁

To provide a heat developing apparatus in which a film entering into a heat development section is capable of maintaining adhesion to a heating drum in a process in which the film attains to a development temperature and development proceeds, and in which heat supply history is so uniform over the whole area of the film as to cause no density unevenness.例文帳に追加

熱現像部ヘ進入してきたフィルムが現像温度に到達して現像が進行する過程で加熱ドラムとの密着性を維持でき、熱供給履歴がフィルム全面にわたって一定で濃度むらを生じないようにした熱現像装置を提供する。 - 特許庁

A step area of the man conveyor is extracted from an image obtained in idle operation, the distances between the front edges (demarcation line) of steps are detected respectively through a histogram process, and camera parameters (elevation angle and installation height of the television camera) are found by making good use of the relation that the front-edge distances of the actual machine are constant.例文帳に追加

空運転時の画像から、マンコンベアのステップ領域を抽出し、ヒストグラム処理によりステップの前縁(デマケーションライン)間の距離をそれぞれ検出し、実機の前縁間距離が一定値となる関係を利用してカメラパラメータ(テレビカメラの俯角や設置高さ)を求める。 - 特許庁

To provide an engineering process for introducing tree seedlings capable of easily introducing tree seedlings in a short time even in a case where it covers a wide area, further needing no aftertreatment of seedling pots and also excellent in the point of rootage when tree seedlings are introduced on to an inclined face or the like.例文帳に追加

法面等への樹木苗の導入に際して、それが広範囲にわたるものであっても、樹木苗の導入作業を短時間で簡単かつ楽に行える上に、苗ポットの後始末も不要で、活着性の面でも優れた樹木苗の導入工法を提供する。 - 特許庁

例文

In the following process of creating a second impervious structure extending from a second top end height H2 at a position higher than the water level at the high tide in the construction water area to the intra-dike bottom surface part, the influence of the uplift pressure from the outside of the dike is eliminated by the first impervious structure 24.例文帳に追加

以後の、施工水域の満潮時の水位よりも高位置の第2の天端高H2から堤内底面部に至る第2の遮水構造体を造成する工程では、第1の遮水構造体24により、堤外からの揚圧力の影響を排除する。 - 特許庁


例文

To provide tantalum powder in which the sintering rate is suppressed, and the sintering process is easily and suitably controllable by uniformly incorporating nitrogen into fine tantalum powder having a large surface area, to produce a porous sintered body uniform in size and distribution of circular openings and to provide a high CV capacitor.例文帳に追加

微細で表面積の大きなタンタル粉末に窒素を均一に含有させて、焼結速度が抑制され、焼結工程を適切に制御しやすいタンタル粉末を提供し、空孔の大きさや分布が均一な多孔質焼結体を製造し、高CVコンデンサを提供する。 - 特許庁

A throttle section 17 adjusts an area or a position of the opening so as to allow the edge of the junction between the element 12 and the sheet 11 to agree with the edge of a contact region between a lower surface of the sheet 11 and the sheet 16a in the exfoliation process of the element 12.例文帳に追加

絞り部17は、半導体素子12の剥離過程において、半導体素子12と粘着シート11との接合部の縁部が、粘着シート11の下面と突き上げシート16aとの接触領域の縁部とが一致するようにその開口部の面積又は位置を調整する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus adjusting dot gain at a print by a relatively simple process, hardly emphasizing tone jump, and also adjusting dot gain according to properties of color materials by using a binary area gradation image used in common in production of the print in production of a proof.例文帳に追加

印刷物の作成に用いる2値面積階調画像をプルーフの作成でも共通に用いて、印刷物におけるドットゲインを比較的簡単な処理で調整でき、トーンジャンプが強調されにくく、色材の特性に応じたドットゲイン調整も可能な画像形成装置等を提供する。 - 特許庁

To charge a display medium (particles for display medium) in an easy process, to easily control an area to be filled with the particles for display medium and the amount of particles for display medium filled in a cell, and to sufficiently charge the particles for display medium.例文帳に追加

簡単な工程で表示媒体(表示媒体用粒子)を充填し、しかも、表示媒体用粒子を充填すべきエリアのコントロール、および、表示媒体用粒子のセル内への充填量のコントロールを容易に達成するとともに、表示媒体用粒子の十分な帯電を可能にする。 - 特許庁

例文

To obtain an epoxy resin composition which is used for sealing semiconductors, doses not flow gold wires, is scarcely curved at a room temperature and in a soldering process, has excellent adhesive property to organic substrates, therefore has excellent reliability on soldering resistance, temperature cycling resistance, and so on, and is suitable for area-mounting type semiconductor devices.例文帳に追加

金線流れがなく、室温及び半田付け工程での反りが小さく、更に有機基板との密着性に優れるため耐半田性や耐温度サイクル性等の信頼性に優れる、エリア実装型半導体装置に適した半導体封止用エポキシ樹脂組成物を得ること。 - 特許庁

例文

To provide a system for continuously conveying concrete, which continuously supplies the concrete in large quantities to a desired placing area in a dam from supply equipment for the concrete by making a concrete supply path ascend while following an increase in height of a dam body in the process of dam construction.例文帳に追加

コンクリートの供給設備から、ダム堤内の所望の打設領域に、ダム建設過程に伴う提体高さの上昇に追随して、コンクリート供給経路を上昇させ大容量のコンクリートを連続的に供給するコンクリート連続搬送システムを提供する。 - 特許庁

To manufacture in a process simpler than that for a conventional horizontal trench power MOSFET breakdown voltage of up to 80 V, while a device pitch is smaller and on resistance per unit area is smaller compared with the conventional horizontal trench power MOSFET having the breakdown voltage lower than 80 V.例文帳に追加

従来の耐圧80V用の横型トレンチパワーMOSFETよりも簡素なプロセス工程で製造可能であり、かつ従来の80Vよりも低い耐圧用の横型パワーMOSFETよりもデバイスピッチが小さくて単位面積当たりのオン抵抗が小さいこと。 - 特許庁

To provide a miniaturizable wet blasting device by a rotor with a simple structure capable of blasting a wide area, carrying out even soft machining, saving energy without using a compressor, and carrying out cleaning work along with a blasting process.例文帳に追加

本発明は広い範囲のブラストができ、ソフトな加工も行え、コンプレッサーを用いずに省エネルギー化出来ると共に構造が簡単で小型化も可能となり、更にブラスト加工を行うと共に洗浄作業も一緒に行うことが可能となるローターによる湿式ブラスト装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a diffusion transfer process planographic printing plate with an aluminum substrate as the base having both good printing resistance and stain suppressing performance, capable of preventing the whitening of the non-image area and capable of also suppressing the occurrence of undissolved matter, that is, sludge in a developing solution and in a solution used for removing the emulsion layer.例文帳に追加

耐刷性能と汚れ抑止性能の両性能が共に良好で、かつ非画像部の白色化の防止、現像液や乳剤層除去液中の不溶解物すなわちヘドロの発生も抑制できるアルミニウム基板を支持体とした拡散転写法平版印刷版を提供すること。 - 特許庁

In this heating process, (1) water in the plating 38 is vaporized and coefficient of friction of the connector female screw 27 and the main body side male screw 29 is increased, (2) the plating 38 creeps to increase contact area of the connector female screw 27 and the main body side male screw 29, and (3) the plating 38 is diffused and adheres.例文帳に追加

この加熱工程により、(1)メッキ38中の水分が蒸発してコネクタ雌ネジ27と本体側雄ネジ29の摩擦係数がアップし、(2)メッキ38がクリープしてコネクタ雌ネジ27と本体側雄ネジ29の接触面積が増大し、(3)メッキ38が拡散して凝着する。 - 特許庁

Establishment of EPA/FTA with ASEAN as core Development of wide-area economic integration is expected to improve the international competitiveness of industries in the region through the promotion of process sharing in the region, the centralization and best-allocation of production site and the improvement of efficiency through economy of scale.例文帳に追加

ASEANを中心に拡がる EPA/FTA網の構築広域経済統合の進展は、域内の工程間分業の促進、生産拠点の集約・最適配置、規模の経済を通じた経済全体の効率性を上昇させるなど、域内産業の国際競争力強化が期待される。 - 経済産業省

During the generation of the robustness map, a set of different tuning parameters in a stable process control loop area is determined and stored and a robustness characteristic corresponding to a loop having a controller tuned in accordance with these tuning parameters is also determined and stored.例文帳に追加

ローバスト性マップの生成の間、プロセス制御ループが安定な領域に対するチューニングパラメータの異なるセットが決定されて格納され、これらのチューニングパラメータに従ってチューニングされたコントローラを有するループの対応するローバスト性特性も決定されて格納される。 - 特許庁

This method for preliminarily sulfurizing the hydrogenation treatment catalyst which is specified with a reduction profile obtained by a temperature program reduction method (TPR method) and has a reduction area of5% based on the total reduction area at ≤380°C is characterized by involving a process for performing a reduction treatment up to a sulfurization degree of50% in a range of 120 to 230°C.例文帳に追加

昇温プログラム還元法(TPR法)により得られる還元プロファイルで特定される、380℃以下の還元面積が全還元面積の5%以上である水素化処理触媒を予備硫化する方法であって、(A)120℃〜230℃の範囲で硫化度が50%以上になるまで硫化処理を行う工程を含むことを特徴とする水素化処理触媒の予備硫化方法である。 - 特許庁

The smoke detector is provided to process an image taken by a camera and detecting the smoke generated in a taken area: a detection region setting means for setting a predetermined detection region within the taken area; and a calculation means for calculating two or more elements for determining a detection of the smoke in the detection region, and detects the smoke generated in the detection region.例文帳に追加

煙検出装置は、カメラで撮影される画像を画像処理することにより撮影された範囲内での煙の発生を検出する煙検出装置において、撮影された範囲内に、所定の検出領域を設定する検出領域設定手段を設け、該検出領域内における、煙検出判定要素の2つ以上を演算する演算手段を設けて、該検出領域内の煙の発生を検出する。 - 特許庁

The exposure method includes a process that a liquid immersion area is locally formed between an upper surface of a movable moving body holding a substrate and the projection optical system, and exposing light is irradiated on the substrate through the projection optical system and the liquid forming the liquid immersion area, and by moving the substrate for the exposing light, each of a plurality of shot areas on the substrate is exposed by scanning.例文帳に追加

この露光方法は、基板を保持して移動可能な移動体の上面と投影光学系との間に局所的に液浸領域を形成し、投影光学系と液浸領域を形成する液体とを介して基板上に露光光を照射するとともに、露光光に対して基板を移動することによって、基板上の複数のショット領域のそれぞれを走査露光する露光方法である。 - 特許庁

The hydroxyphenyl (meth)acrylate (co)polymer used in a semiconductor lithography process is produced by radical polymerization which is performed by controlling a reaction liquid temperature in a reactor to 70-100°C, wherein the peak area of a high molecular weight component whose molecular weight is5 times a weight-average molecular weight (Mw) measured by gel permeation chromatography (GPC) is <0.2% relative to a total peak area.例文帳に追加

反応器内の反応液温を70〜100℃にて制御したラジカル重合により製造した半導体リソグラフィー工程において使用される(共)重合体であって、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定される重量平均分子量(Mw)の5倍以上の高分子量成分のピーク面積が、全体のピーク面積に対して0.2%未満であるヒドロキシフェニル(メタ)アクリレート(共)重合体。 - 特許庁

An apparatus has a discrimination expressing function including an object selecting means for selecting an optional object comprising characters and diagrams in an image area, a color property setting means for setting an optional color property for a selected object, a color information display process for displaying color information corresponding to the color property in the periphery of the object in the image area.例文帳に追加

画像領域内の文字や図形からなる任意のオブジェクトを選択するオブジェクト選択手段と、この選択されたオブジェクトに対して、任意の色属性を設定する色属性設定手段と、この色属性を設定されたオブジェクトに対して、該色属性に対応する色情報を画像領域内の該オブジェクトの周囲に表示する色情報表示工程と、を含む識別表現機能を有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a shift device of a carrier in an in-process conveyance system, capable of taking little time for rejection of the carrier to be subjected to maintenance, eliminating need of increasing a factory space and making the most use of a manufacturing apparatus area without occupying an effective space in a manufacturing apparatus area by disposing the shift device at a corner of a conveyance line with no manufacturing apparatuses.例文帳に追加

製造装置を配置していない搬送ラインのコーナ部にシフト装置を配置することで、メンテナンス対象の搬送車のリジェクトに時間がかからず、かつ工場スペースを大きくすることもなく、また製造装置エリアの有効スペースを占有することなく製造装置エリアを最大限に活用することができるようにした工程間搬送システムにおける搬送車のシフト装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor manufacturing equipment which can secure the uniformity of plasma density over the entire wafer to be processed by including a device which is provided in a chamber, wherein a process of manufacturing a semiconductor element by using plasma is carried out and converges the plasma by narrowing down a plasma area formed more adjacently to the processed object than the plasma area formed at the upper stage of the chamber.例文帳に追加

プラズマを用いる半導体素子の製造工程が行われるチャンバ内に設けられて、チャンバの上段に形成されるプラズマ領域よりも工程処理対象の隣接部分に形成されるプラズマ領域を狭めることによりプラズマを集束させる装置を含んで、処理対象となるウェーハの全体に亘ってプラズマ密度の均一性を確保できる半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

A band search method searching a frequency of a transmission radio wave of a base station has a process of measuring power of a reception radio wave per a plurality of frequency bands obtained by dividing a frequency area to be searched, and a process of calculating a frequency corresponding to a maximum value of the power by interpolating measured power for a plurality of frequency bands and detecting the frequency of the base station based on the calculated frequency.例文帳に追加

基地局の送信電波の周波数を探索するバンドサーチ方法において,探索すべき周波数範囲を分割した複数の周波数帯域毎に,受信電波の電力を計測する工程と,複数の周波数帯域に対する計測電力を補間して電力の極大値に対応する周波数を算出し,当該算出された周波数に基づいて前記基地局の周波数を検出する工程とを有する。 - 特許庁

(3) When municipalities are in the process of deciding on city plans for city planning areas (including matters concerning out-of-area facilities stipulated for city planning areas, but of those items in the process of being stipulated in said city plan regarding district plans, limited to the location and scale of zone facilities and other matters stipulated by Cabinet Order), they shall consult with the Prefectural governor in advance and must obtain his consent. 例文帳に追加

3 市町村は、都市計画区域又は準都市計画区域について都市計画(都市計画区域について定めるものにあつては区域外都市施設に関するものを含み、地区計画等にあつては当該都市計画に定めようとする事項のうち政令で定める地区施設の配置及び規模その他の事項に限る。)を決定しようとするときは、あらかじめ、都道府県知事に協議し、その同意を得なければならない。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

The method for manufacturing the plated substrate 100 is based on an electroless plating method and includes a process for forming a catalyst layer on a substrate by dipping the substrate into a catalyst solution containing palladium, hydrogen peroxide and hydrochloric acid and a process for forming a metal layer by depositing a metal on an area, where the catalyst layer is not formed, by dipping the substrate in an electroless plating solution.例文帳に追加

本発明にかかるめっき基板100の製造方法は、無電解めっき法によりめっき基板を製造する方法であって、パラジウム、過酸化水素および塩酸を含む触媒溶液に基板を浸漬することにより、当該基板上に触媒層を設ける工程と、無電解めっき液に前記基板を浸漬することにより、前記触媒層の形成されていない領域に金属を析出させて金属層を設ける工程と、を含む。 - 特許庁

To provide a preparation process of polyamide porous particles having a relatively uniform particle diameter and a large specific surface area from a crystalline aliphatic polyamide such as nylon 11 or nylon 12 with a melting point of 200°C or less or a crystalline aliphatic polyamide with a low hygroscopicity of a water absorption of 4% or less by a precipitation process of a polymer without heating a polymer solution.例文帳に追加

本発明は、ナイロン11やナイロン12などの融点200℃より低い結晶性脂肪族ポリアミド又は、ナイロン11やナイロン12などの吸水率が4%以下の低吸湿性の結晶性脂肪族ポリアミドから、比較的均一な粒子径を有し、比表面積が大きいポリアミド多孔質粒子を、ポリマー溶液を加熱することなく、ポリマーの析出法により、容易に安定して製造できる方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A vehicle development system 1 includes, as a database 10a for recording data formed in an adaptation process in vehicle system development, a recording area for recording an adaptation data table (specification data) showing an outline of vehicle control and a recording area for recording design information (detailed setting data) showing a detailed setting corresponding to each item of a plurality of preset items in the adaptation data table.例文帳に追加

車両開発システム1において、車両システム開発における適合工程にて作成されたデータが記録されるデータベース10aとしては、車両制御の概要を表す適合データ表(仕様データ)が記録される記録領域と、適合データ表における予め設定された複数の項目の各項目に対応する詳細設定を表す設計情報(詳細設定データ)が記録される記録領域と、を備えている。 - 特許庁

To obtain a uniform seal area by adjusting pressure distribution between an upper processing tool and a lower processing tool in a seal process by a simple method at a seal station to seal a cover sheet on a carrier sheet to close hermetically, in particular, one fixed in a thermoforming machine.例文帳に追加

カバーシートをキャリアシート上に密封をなすように接合(シール)するシールステーションにおいて、特には熱成形機械中に取り付けられるものにおいて、シンプルな方式により、シール工程における上部加工具と下部加工具との間の圧力の分布を調節して、均一なシール領域を得ることができるようにする。 - 特許庁

To provide a polymer composition having a function of molecular recognition/capturing and a wide area of applications from which a once difficult-to-mold molecular imprint polymer is manufactured in moldings of various shapes and a manufacturing process by which a polymer molding having a function of molecular recognition/capturing is easily manufactured from the polymer composition.例文帳に追加

成形が困難であった分子インプリントポリマーを種々の形状の成形体として製造することができ、幅広い分野で応用可能とする分子認識・捕捉機能を有するポリマー組成物、及び該ポリマー組成物から分子認識・捕捉機能を有するポリマー成形体を簡単に製造する方法を提供する。 - 特許庁

A display character 31 is moveably displayed in the image display area 312 of a varying display device 310, and a possibility of leading out of the ready-to-win display mode or the special display mode in the process of varying display is notified in accordance with the extent of approach of the display character 31 to a decorative character of the same description.例文帳に追加

変動表示装置310の画像表示領域312に表示キャラクタ31を移動表示し、その表示キャラクタ31が同一内容の装飾キャラクタに接近する程度に応じて、変動表示過程におけるリーチ表示態様または特別表示態様の導出可能性を報知するようにした。 - 特許庁

The light guide plate can increase a uniformity of incident lights without increasing the size and number of the light source, and can reduce a mixing area by distributing the incident lights at a wider angle, and can reduce a manufacturing cost due to simplicity of the manufacturing process.例文帳に追加

本発明における導光板は、光源の大きさや個数を増大させること無く入射される光の均一度を向上させることができ、入射される光をより広い角に分布させることによりミキシング区域を減少させることができ、製造工程が簡単で生産原価を低減させることが出来るという長所がある。 - 特許庁

The treatment method of the conductive substrate to be made into the electrophotographic photoreceptor by being formed with a photosensitive layer is provided with a process of bringing an aqueous treating liquid containing air bubbles of 0.1 to 100 μm in area average diameter into contact with the surface of the conductive substrate.例文帳に追加

上記課題を解決する導電性基体の処理方法は、感光層が形成されて電子写真感光体となるべき導電性基体の処理方法であって、面積平均直径が0.1μm〜100μmの気泡を含む水系処理液を、導電性基体の表面に接触させる工程を備えることを特徴とする。 - 特許庁

A time-series position information management section 12 of the position information integrating management system 10 manages a history of mobile terminal 80 position information, containing position registering area information obtained by a position registering process in a mobile communication network, and GPS position information obtained by a GPS function built in the mobile terminal 80.例文帳に追加

位置情報統合管理装置10の時系列位置情報管理部12は、移動通信網における位置登録処理により取得された位置登録エリア情報と、移動端末80が備えるGPS機能により取得されたGPS位置情報と、を含む移動端末80の位置情報の履歴を管理する。 - 特許庁

A DA converter 20 is used in place of the conventional variable resistor as a means for setting (regulating) the DC potential of the VCOM potential (a counter electrode voltage) and is formed on a same glass substrate 11 as that of a display area section 12 employing a same process and thereby the miniaturization of the liquid crystal display device is made possible.例文帳に追加

VCOM電位(対向電極電圧)のDC電位を設定(調整)する手段として、従来の可変抵抗器に代えてDAコンバータ20を用い、これを表示エリア部12と同一のガラス基板11上に同一プロセスを用いて形成することにより、液晶表示装置の小型化を図る。 - 特許庁

When the development of the print data stored in the storage means is started after the start of the storing of it in the storage means but before the completion of it, and in addition, the development reaches input process and the storage means stores no more print data, a storage area for the received print data is switched to the reception buffer.例文帳に追加

記憶手段への保存開始後その完了前に記憶手段に記憶されている印刷データの展開を開始した場合において該展開が入力処理に追いついて記憶手段に印刷データが存在しなくなったときは、受信する印刷データの保存先を受信バッファに切り替える。 - 特許庁

When the result of a lottery process by the entry of a game ball in an operation-start hole 96 is a big win, this game machine executes a special game and, when the game ball entering in a first game area 37 through the opening/closing operation of a first movable piece 456 is received in a specific ball entry hole 93, also executes the special game.例文帳に追加

始動口96への遊技球の入球による抽選処理の結果が大当たりであるときに特別遊技が行われるが、第1の可動片456の開閉動作を通じて第1の遊技領域内37aに進入した遊技球が特定入球口93に受け入れられたときも特別遊技が行われる。 - 特許庁

The second product sensor 17 having the detection sensor 17a on the upper face side is attached to the second product falling area in the shaking separator 4 to which the second products are reduced by throwing them from the second reduction cylinder thereto on the process of the threshing operation and the detection signals are informed on the basis of the detection information of the second product accumulating on the upper face of the sensor.例文帳に追加

脱穀作業の過程で二番還元筒14から搖動選別体4上に投擲還元される二番物の落下域に、感知部17aを上面に設けた二番物検知センサ17を装着し、その上面に堆積する二番物量の検知情報に基づいて報知を行うようにした。 - 特許庁

By the molds 150, 170, the ducts 110, 130, and the air curtain 114, a closed area enclosed with six faces is formed, and by operating the forced blower 120 and the suction blower 122, the splashing of a superfluous mold releasing agent generating in a mold releasing agent coating process is prevented so that thereby the mold releasing agent can surely be exhausted.例文帳に追加

金型150,170、ダクト110,130、エアーカーテン114によって6面が囲まれた閉鎖領域を形成し、押込ブロワ120および吸引ブロワ122を運転することで、離型剤塗布工程において発生する余分な離型剤の飛散を防止したうえで、離型剤を確実に排気することができる。 - 特許庁

This toilet seat sheet is formed by using a dry process nonwoven fabric of ≤0.5 g/cm3 in bulk density disintegradable in water which is formed by at least partly joining the fibers to each other by a polyvinyl alcohol-based water-soluble fibers of40°C underwater dissolution temperature and is formed with many thermocompression bonded parts of 0.1 to 50 mm2 in area on the surfaces.例文帳に追加

水中溶解温度40℃以下のポリビニルアルコール系水溶性繊維により繊維間の少なくとも一部が接合されており、かつ表面に面積0.1〜50mm^2の熱圧着部が多数形成されている嵩密度0.5g/cm^3以下の水解性乾式不織布を用いてなる便座シートとする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which can execute high-quality heat treatment of a semiconductor substrate having a large area in a low temperature process by enabling to suppress adhesion of particles on a semiconductor layer, to improve stability of flame and uniformity of heat, and to promote cooling of a nozzle head.例文帳に追加

パーティクルの半導体層への付着を抑制することができ、火炎の安定性向上と均熱化促進を図ることができ、さらに、ノズルヘッドの冷却を促進することができ、低温プロセスで大面積の半導体基板の熱処理を品質良く行うことが可能な半導体装置の製造方法等を提供する。 - 特許庁

To obtain a multilayer wiring substrate that can simplify the manufacturing process and which does not include close contact failures between wiring circuit layer and insulation layer, even when a wiring circuit layer having large line width and a wiring circuit layer consisting of a wide area metal foil are arranged within the insulation substrate, and also to obtain a method of manufacturing the same multilayer wiring substrate.例文帳に追加

製造工程の簡略化を図ることのできるとともに、線幅の広い配線回路層や、グランド層などの広面積の金属箔からなる配線回路層を絶縁基板内部に配設した場合においても配線回路層と絶縁層間の密着不良のない多層配線基板とその製造方法を得る。 - 特許庁

To form a photocatalyst film which can be activated by visible light and of which the activity is not decreased even when fixed by a binder, and provide a photocatalyst film composition which can process a substrate of a large area continuously and is excellent mass productivity, and a photocatalyst body where the photocatalyst film is formed on the substrate.例文帳に追加

可視光により活性が得られ、またバインダーで固定しても活性が低下しない光触媒膜を形成し、さらに大面積の基体を連続的に処理することができ量産性に優れた光触媒膜組成物、及びそのような光触媒膜を基体に形成した光触媒体を提供する。 - 特許庁

In the fabrication process of a nonvolatile memory, a metal oxide under not-yet-crystallized state or incompletely crystallized state is provided between opposing electrodes, and high field energy is applied between the electrodes, to form a memory cell (memory area) of a metal oxide crystallized by Joule's energy heat being generated.例文帳に追加

本発明の不揮発性メモリの製造方法は、対向する電極間に未結晶状態又は不完全な結晶化状態の金属酸化物を設け、前記電極間に高電界エネルギーを印加することにより、発生するジュール熱のエネルギーによって結晶化した金属酸化物からなるメモリ・セル(メモリ領域)を形成する。 - 特許庁

To form a coating film whose film thickness and shape is precisely controlled by a short cycle time of a process where a plurality of liquid coating objects exist, and even if other coating films exist in an application area, both the coated liquids are not blended mutually and the coating films are re-dissolved without changing shapes of the films.例文帳に追加

複数の液体塗布対象が存在し、かつ塗布エリア内に他の塗布膜が存在する場合においても、塗布された液体同士が合体することなく、また、塗布膜が再溶解し膜形状が変化することなく、短いプロセスタクトで膜厚、形状を精密に制御された塗布膜の作製を実現する。 - 特許庁

One or more processes which require a buffer consecutive area on the memory are represented by a group of process names, a combination of processes not executed in parallel among the processes is represented by an exclusive relation, and one or more memory range candidates available for the processes as the buffer are represented by buffer allocation information BAI.例文帳に追加

バッファ用連続領域をメモリ上に確保する必要のある1以上の処理を処理名の集合で表し、それら処理間で並列実行されない処理の組合せを排他関係で表し、処理がバッファとして利用可能な1つ以上のメモリ範囲候補をバッファ割り当て情報BAIで表す。 - 特許庁

The method of manufacturing the multi-resistance film touch screen includes a metal wiring pattern forming process for forming a metal wiring pattern in at least one active area cell formed in a transparent conductive film, and for forming a part of the metal wiring pattern by a photolithographic method and the rest by a screen-printing method.例文帳に追加

このマルチ抵抗膜タッチスクリーンの製造方法は、透明伝導性膜に形成される少なくとも1つの活性領域セルに金属配線パターンを形成し、該金属配線パターンの一部はフォトリソグラフィ法、残りはスクリーン印刷法を用いて形成する金属配線パターン形成工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

The plating treatment is independently applied to the plurality of semiconductor forming area respectively by coming into contact with an independent plating process tool to correspond to the plurality of the semiconductor element forming areas on the semiconductor substrate where the plurality of the semiconductor forming areas are defined to correspond to the plurality of types.例文帳に追加

複数の品種に対応して複数の半導体素子形成領域が画定された半導体基板上に、前記複数の半導体素子形成領域に対応し且つ相互に独立したメッキ処理治具を当接し、前記複数の半導体素子形成領域のそれぞれに対して独立にメッキ処理を施す。 - 特許庁

例文

About an interesting area wherein the user's taste is hardly decided, by using the keyword included in an upper hierarchy, the number of the keyword vectors included in the user profile is reduced, and a load in a matching process between the profiles executed by a recommendation system or digital contents distribution service can be reduced.例文帳に追加

ユーザの嗜好を判定しにくい興味領域に関しては、上位階層に含まれるキーワードを利用することで、ユーザプロファイルに含むキーワードベクトル数の削減を行うことにつながり、レコメンドシステムやデジタルコンテンツ配信サービスにより行われるプロファイル間のマッチング処理における負荷を削減することが可能となる。 - 特許庁




  
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日本法令外国語訳データベースシステム
※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。
  
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