「Process Area」に関連した英語例文の一覧と使い方(25ページ目) - Weblio英語例文検索

In a process of each reel area calculation, the rotation velocity ratio of both reels is compared by using the rotational speed smaller than each reel rotational speed necessary for both reel area calculations.例文帳に追加

各リール面積算出の過程で、両リール面積算出に要する各リール回転数より少ない回転数で、両リールの回転速度比を比較し、供給側に対し巻取側の速度比がある値以上の時は巻始状態であると判断し、各リール面積算出前に加速処理に入る様にした。 - 特許庁

The image display method for displaying a plurality images by giving them special effects and changing them time-serially comprises: an input process for inputting images; an area detection process for detecting a plurality of characteristic areas from inputted images; a decision process for deciding a content of the special effect; and a display process for displaying images with the decided special effect.例文帳に追加

複数の画像に特殊効果をつけて時系列的に変化させて順番に表示する画像表示方法であって、画像を入力する入力工程と、入力した画像から複数の特徴領域を検出する領域検出工程と、検出された複数の特徴領域の検出結果に基づいて、前記特殊効果の内容を決定する決定工程と、決定した特殊効果をつけて画像を表示する表示工程と、を備える。 - 特許庁

As explained above using the rolled work, process of the thinner work is realized and moreover the cost of feeder of the related art and apparatus area can be reduced using the sheet type work.例文帳に追加

このように、ロール状ワークを用いることで、薄いワークの加工を可能とし、さらにシート状ワークを用いていた従来における搬送機のコスト及び装置面積を縮小することができる。 - 特許庁

In a calculation process, reference regions 300 are defined such that each has the measurement point at its center, and the area occupancy ratio of the device-element forming regions is calculated for each reference region 300.例文帳に追加

一方、演算プロセスでは、前記測定点が中心となるように参照領域３００を規定し、各参照領域３００における素子形成領域の面積占有率を演算する。 - 特許庁

To provide a preparation process of a porous film which has a uniform thickness, a large strength, a high specific surface area and a large pore volume and also a high ion permeability and an excellent high-speed charge-discharge property.例文帳に追加

厚みが均一で、高強度、高比表面積及び高細孔容積を有し、かつイオン透過性及び高速充放電特性にも優れる多孔質フィルムの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To allow a user to properly enlarge a screen displayed at a display part such as the display of a computer by operating this along a process for considering an area to be enlarged while looking at the screen.例文帳に追加

コンピュータのディスプレイ等の表示部に表示された画面を見ながら拡大したい領域を考える過程に沿ってユーザーが操作して、その画面を最も適切に拡大できるようにする。 - 特許庁

To provide a method for operating a digital image stored as a bit stream which is variable length-encoded with reduced memory and processor resources by specifying and decoding only an image area having meaning on an image operation process.例文帳に追加

JPEG形式のような可変長符号化されたビットストリームとして記憶されたデジタル・イメージを、メモリおよびプロセッサ資源の要件を減少させる形態で、操作する方法および装置を提供する。 - 特許庁

In the final floating surface polishing process of a rover 50, a resistance value of the ELG 2 and a resistance value of the real element 1 are detected (measured) in an area where the resistance value of the real element 1 is detectable (step 100).例文帳に追加

ローバー５０の最終浮上面研磨工程において、実素子１の抵抗値が検知可能な領域で、ＥＬＧ２の抵抗値と実素子１の抵抗値を検知（測定）する（ステップ１００）。 - 特許庁

A memory management device is constructed of a limited memory allowed to erase and rewrite the data only by a block unit and a free memory consisting of a data maintaining area allowed to process the data freely.例文帳に追加

メモリ管理装置は、ブロック単位でしかデータの消去や書換えを行うことができない制限メモリと、データを自由に加工することができるデータ保持領域からなる自由メモリとで構成される。 - 特許庁

According to this constitution, the auxiliary inflation part 32 starts inflation at the inflation process of the airbag 20 and contracts a flow passage area of the communication part 29 to suppress the circulation of the gas at the communication part 29.例文帳に追加

この構成により補助膨張部３２は、エアバッグ２０の膨張過程で膨張を開始し、連通部２９の流路面積を縮小して連通部２９でのガスの流通を抑制する。 - 特許庁

Color filter layers 201 and 202 are formed in a pixel area 18, but not arranged at the outer circumferential part 19 due to the requirement of a process for forming a counter electrode 205.例文帳に追加

画素領域１８にはカラーフィルタ層２０１，２０２が形成されているが、対向電極２０５形成のためのプロセス上の要求から外周部１９には、カラーフィルタ層２０１，２０２が配されていない。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus and a memory managing method capable of reducing overhead generated in utilizing contents of a physical memory area managed by kernel in a process.例文帳に追加

カーネルが管理する物理メモリ領域の内容をプロセスで利用するときに発生するオーバーヘッドを軽減することが可能な画像形成装置及びメモリ管理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a display and the display wherein patterning can be made on a large-area substrate with a simple process, and improve light-emitting characteristics of the light-emitting layer.例文帳に追加

簡素な工程で大面積基板に発光層をパターニングすることができると共に、発光層の発光特性を向上させることができる表示装置の製造方法および表示装置を提供する。 - 特許庁

In a power voltage map generation process ST01, a power voltage map showing the distribution of operation power voltage owing to the wiring position of a power wiring in a cell arrangement area is generated.例文帳に追加

まず、電源電圧マップ作成工程ＳＴ０１において、セル配置領域における電源配線の配線位置に起因する動作電源電圧の分布を表わす電源電圧マップを作成する。 - 特許庁

The image processing part 51 writes sound data in a storage area corresponding to a blank period for switching horizontal scanning on a liquid crystal display device in a process for writing the image data in the image memory 52.例文帳に追加

ここで、画像処理部５１は、画像メモリ５２に画像データを書き込む過程で、液晶表示デバイス上の水平走査を切り替えるためのブランク期間に対応する記憶領域に音データを書き込む。 - 特許庁

The mechanism is very slight in a required area, and is embodied using a simple circuit in a standard complementary type metal oxide film semiconductor process capable of stopping electric power supply when not used.例文帳に追加

該メカニズムは、必要な面積が非常に僅かで、使用されていないときには給電を止めることのできる標準的な相補型金属酸化膜半導体プロセスで簡単な回路を用いて具体化され得る。 - 特許庁

To provide an access control system, an access control server, and an operator terminal, which allow an operator to work only in a previously permitted operation area so that a wrong process cannot be performed.例文帳に追加

予め承認された作業範囲内でのみ作業できるようにして、不正な処理がより行なわれないようにするアクセス管理システム、アクセス管理サーバ及び作業者端末を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device, the method enhancing design flexibility for wiring, generating hardly a problem when forming a contact part connected to a gate electrode and a source/drain area, and being suitable for a refining process.例文帳に追加

配線の設計自由度が高く、ゲート電極及びソース／ドレイン領域に接続されるコンタクト部の形成に問題が生じ難く、微細化プロセスに適した半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The marker can be detected by recognizing the elements in a simple process such as calculating a shape parameter (circularity) of a white area from a photographed image and acquiring a simple relationship between the elements.例文帳に追加

撮影画像から白領域の形状パラメータ（円形度）を算出するという簡単な処理で要素を認識し、要素間の単純な関係を求めることでマーカーを検知することができる。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus that allocate system resources used by a software process in a computer-based system 100 such as a wide area network (WAN) including a data storage array 104.例文帳に追加

データ格納アレイ１０４を含む広域ネットワーク（ＷＡＮ）などのコンピュータ・ベース・システム１００において、ソフトウェアプロセスにより用いるシステム資源を割当てるための方法および装置を提供する。 - 特許庁

For an image stabilizing process, first exposure intensity to the photoreceptor is set so that the density of a toner patch pattern in the regular image area matches preset target density (S2).例文帳に追加

画像安定化処理のために、通常の画像領域について第１のトナーパッチパターンの濃度が予め設定された目標濃度に一致するように感光体への第１の露光強度を設定する（Ｓ２）。 - 特許庁

To provide a surge protection circuit capable of improving reliability, and a semiconductor integrated circuit equipped therewith by suppressing the deterioration of connection while avoiding the increase of a chip area and the increase of number of manufacturing process.例文帳に追加

チップ面積の増大や製造工程数の増加を回避しつつ、接合の劣化を抑制して信頼性の向上をも実現し得る、サージ保護回路及びそれを備えた半導体集積回路を得る。 - 特許庁

An figure recognition means 20 performs a character recognition process to all extracted character area candidates, and obtains the best character recognition result by the character recognition reliability of a character recognition processing result.例文帳に追加

図形認識手段２０は、抽出されたすべての文字領域候補に対して文字認識処理を施し、文字認識処理結果の文字認識信頼度によって最も良い文字の読み取り結果を得る。 - 特許庁

Further, it is decided whether or not another product shape can be arranged in the previously found blankable area and when so, the product shape is arranged to optimize the nesting process.例文帳に追加

さらに、先に求めた板取可能領域の内部に他の製品形状が配置できるかどうかを判断して、配置できる場合は、他の製品形状を配置してネスティング処理の適正化を図る。 - 特許庁

To enable the level shift operation to be surely executed in a level shift circuit, even when the supply voltage of an input signal is made low, without increasing the circuit area or the process cost.例文帳に追加

レベルシフト回路において、回路面積の増加やプロセスコストの増大を招くことなく、入力信号の電源電圧を低電圧化した場合にも、レベルシフト動作を確実に実行可能にする。 - 特許庁

When a language processing system which performs dynamic compilation is actuated, the dynamic compiler is actuated as a process different from processes taking charge of programs and the respective processes are interconnected through a common memory area.例文帳に追加

動的コンパイルをおこなう言語処理系を起動する際に、動的コンパイラを、プログラムの実行を担当するプロセスとは別のプロセスとして起動し、それぞれのプロセス間を共有メモリ領域で接続する。 - 特許庁

To reduce the penetrating area of an upper deck by combining a manhole and a ballast water replacement port and to improve a construction process by performing construction of the ballast water replacement port doubling as the manhole on land.例文帳に追加

マンホールとバラスト水置換口を組み合わせることにより、上甲板の貫通面積も減ずることができ、また、マンホール兼バラスト水置換口は陸上の工事となり、建造工程の向上を図る。 - 特許庁

When this process is adequately explosive, the diameter of air bubbles expands beyond the diameter of an incident laser beam, and it causes the uppermost layer at the outside of the exposed area and imaging layer at the lower side thereof to be separated from the base body.例文帳に追加

この過程が十分に爆発的であると、気泡の頚は入射レーザビーム径を越えて拡がり、曝露領域の外側で、最上層とその下側のイメージング層を基体から引き剥がす。 - 特許庁

To provide an accommodation container of evaporation materials, which can easily cope with enlargement of substrate area in a process of forming a metal thin film or an organic compound thin film on the substrate by vacuum deposition.例文帳に追加

真空蒸着にて基板に金属薄膜あるいは有機化合物の薄膜を成膜させるに当り、基板の大面積化にも容易に対応することのできる蒸発材料収容容器を提供する。 - 特許庁

To provide a solar cell manufacturing method which forms an n-type diffusion layer in a specific area without forming unnecessary n-type diffusion layers in a manufacturing process of solar cells using silicon substrates.例文帳に追加

シリコン基板を用いた太陽電池セルの製造工程において、不要なｎ型拡散層を形成させることなく特定の部分にｎ型拡散層を形成する太陽電池セルの製造方法の提供。 - 特許庁

To provide an electron emitting element that has a large area of electron emission and can be driven by low resistance wiring, and of which electron beam diameter can be made small and manufacturing process is easy, and an electron source and an image forming device.例文帳に追加

電子放出面積が大きく、低抵抗配線で駆動ができ、電子ビーム径が小さくでき、かつ製造プロセスが容易な電子放出素子、電子源、及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To avoid the complicatedness of cleaning, to improve process safety and layer quality, and to increase pump capacity and prevent plasma formation in the pump area in a vacuum treatment system.例文帳に追加

真空処理装置において、クリーニングの煩雑さを回避しプロセスの安全性および層品質を向上させるとともに、ポンプ性能を向上させかつポンプ領域内のプラズマ形成を防止する。 - 特許庁

To enable reduction in the necessary area for elastic sheets without making process control of the elastic sheets more complicated in manufacturing the elastic sheets to be provided on each of a plurality of panel units.例文帳に追加

複数のパネルユニットにそれぞれ設けられる弾性シートを製造するにあたり、当該弾性シートの工程管理を複雑にすることなく当該弾性シートの必要面積を削減することを可能にする。 - 特許庁

In manufacturing the honeycomb structure 1, talc in which a specific surface area is 3.5 m^2/g or more is adopted, and a rate of temperature increase at temperatures of 1,250-1,400°C in a calcination process is to be 150°C/h or less.例文帳に追加

ハニカム構造体１の製造にあたっては、比表面積３．５ｍ^2／ｇ以上のタルクを採用し、焼成工程における温度１２５０〜１４００℃における昇温速度を１５０℃／ｈ以下にする。 - 特許庁

In this process, an inflammable gas and/or oxygen gas are blown into or an inflammable solvent is sprayed into the area 17 where the above chloride-dissolved solution is changed into the magnetoplumbite-type ferrite material powder.例文帳に追加

このとき混合塩化物水溶液をマグネトプランバイト型フェライト原料粉末に変化させる領域１７に対して、可燃性ガスおよび／または酸素ガスを吹き込むか、可燃性溶剤を噴霧する。 - 特許庁

To provide a temperature detection circuit not only capable of reducing an area occupied with a semiconductor chip, but also capable of generating hardly dispersion by a production process in a temperature coefficient α_VTD1 of an output temperature dependent voltage V_TD1.例文帳に追加

半導体チップで占める面積を小さくできるだけでなく、出力される温度依存電圧V_TD1の温度係数α_VTD1に製造プロセスによるバラツキが生じにくい温度検出回路を提供する。 - 特許庁

A copy data extraction part 131 in a rewriting part 130 extracts data of a work content of the work procedure whose attribute is a "process" from the designated area of the copy source as copy data.例文帳に追加

書き換え部１３０において，複写データ抽出部１３１は，指定された複写元の範囲から属性が“工程”である作業手順の作業内容のデータを複写データとして抽出する。 - 特許庁

A collating means 30 compares the inspection image and a registered image within a plurality of collation areas each time the converting means 10 performs one process to find the consistency 403 in each collation area.例文帳に追加

照合手段３０は、変換手段１０の毎回の処理毎に、検査画像と登録画像とを複数の照合領域内で比較照合して、各照合領域内の一致率４０３を求める。 - 特許庁

A spin-on low-k CMP protective layer 5 prevents a damage which may occur on the low-k dielectric 3 due to an uneven CMP process from the center to an edge or in an area varied in metal density.例文帳に追加

スピンオン低ｋＣＭＰ保護層５は、中央部からエッジへのまたは金属密度が変化する領域におけるＣＭＰプロセスの非均一性のために生じ得る低ｋ誘電体３へのダメージを阻止する。 - 特許庁

After that, for example, by a development process with chemical, or by carrying out heating, the radical initiator layer 31 and the area which is not polymerized in the red light-emitting material layer 14R are removed.例文帳に追加

そののち、例えば薬剤による現像処理、または加熱を行うことにより、ラジカル開始剤層３１と、赤色発光材料層１４Ｒのうち高分子化していない領域とを除去する。 - 特許庁

There is provided a process of wiring a second conductive membrane DP electrically isolated from the conductive membrane EP by discharging liquid drops on the outside of the predetermined pattern formation area PI on the substrate P.例文帳に追加

基板Ｐ上の所定のパターン形成領域ＰＩの外側に液滴を吐出して、導電性膜ＥＰと電気的に分離された第２導電性膜ＤＰを配線する工程を有する - 特許庁

In an image variable magnification circuit 51, a variable magnification process is conducted for the image data outputted from a CCD area sensor 41 using the magnification correction value to correct the fluctuation in the optical magnification of the lens unit 40.例文帳に追加

画像変倍回路５２では、ＣＣＤエリアセンサ４１から出力される画像データに対し、倍率補正値にて変倍処理を行うことで、レンズユニット４０による光学倍率の変動を補正する。 - 特許庁

Then temporal simulation is carried out to make distinct a process time and the shapes of the elements and then a performance analysis is taken to evaluate the layout area, power consumption, processing speed, etc., of the selected elements.例文帳に追加

時間的シミュレーションを行なって、処理時間や要素の形状を明確にした後、性能解析を行なって、選択した各要素のレイアウト面積，消費電力，処理速度などを評価する。 - 特許庁

To provide a field emission type electron emitting element capable of performing an efficient electron emission at a low voltage and being manufactured by an easy process, and having a large electron emitting area, an electron source and an image forming device.例文帳に追加

低電圧で高効率な電子放出が可能で、製造プロセスが容易でかつ電子放出面積が大きな電界放出型の電子放出素子、電子源、及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁

Resist patterns (monitor patterns 13a-13d) for measuring line widths are formed on a substrate having a STI surface 11 and an active area surface 12 in the same process as that for forming resist patterns for a mask.例文帳に追加

ＳＴＩ表面１１と活性領域表面１２とを有する基板上に、マスク用のレジストパターンの形成と同一工程で、線幅測定用のレジストパターン（モニタパターン１３ａ〜１３ｄ）を形成する。 - 特許庁