「Process Area」に関連した英語例文の一覧と使い方(16ページ目) - Weblio英語例文検索

To improve a carrier moving speed by applying a pulling stress to the channel area only of a desired MOS transistor, and to suppress the complication of a manufacturing process.例文帳に追加

所望のＭＯＳトランジスタのみにチャネル領域に引っ張り応力を印加してキャリア移動度を向上させ、且つ、製造工程の複雑化を抑える。 - 特許庁

The optimum cross-section area distribution of a head part is derived so as to reduce tunnel boom generated when a train rushes into a tunnel (process S1).例文帳に追加

列車がトンネルに突入する際に発生する微気圧波を低減させるように、先頭部の最適な断面積分布を導出する（工程Ｓ１）。 - 特許庁

Consequently, a writing process in the antifuse circuit 31 can be performed at high speed without causing the increase of the chip area due to the dedicated latch circuit.例文帳に追加

このため、専用のラッチ回路によるチップ面積の増大を生じることなく、アンチヒューズ回路３１への書き込み処理を高速に行うことが可能となる。 - 特許庁

Examples of activity data include kilowatt-hours of electricity used, quantity of fuel used, output of a process, hours equipment is operated, distance traveled, and floor area of a building. 例文帳に追加

活動データにはキロワット時使用電力、燃料使用量、プロセスのアウトプット、設備の稼働時間、移動距離、建物の床面積などが含まれる。 - 経済産業省

Among the sewing area, it is becoming an advantageous business to import into Japan after both the fabric production and the sewing process is completed in ASEAN regions through effective AJCEP.例文帳に追加

中でも縫製分野は、AJCEPの発効により、ASEAN域内で生地生産と衣類加工を行った上で日本に輸入するビジネススタイルが有利になっている。 - 経済産業省

To provide a process for preparing porous products with a low density and a large specific surface area by controlling the shrinkage of a wet gel to dry the gel.例文帳に追加

湿潤ゲルの収縮を抑制して乾燥することによって低密度で比表面積の大きな多孔体を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To suppress a difference in dimension between patterns formed on resist films on all the area of a substrate and a microscopic region and to reduce a defect in the patterns, which is generated in a developing process.例文帳に追加

レジスト膜に形成されたパターンの基板全域及び微小領域における寸法差を抑制し、現像工程で生じる欠陥を低減する。 - 特許庁

This process includes: a process of providing an obturator blade blank; a process of pressing the blade blank to form a crossing face adjacent to one side of the blade blank: and a process of forming a cutting edge adjacent to a crossing area of the crossing face, thereby forming an obturator blade to be taken in the surgical obturator.例文帳に追加

このプロセスは、閉塞具ブレードブランクを提供する工程、そのブレードブランクの１つの側面に隣接する交差面を形成するためにそのブレードブランクをプレスする工程、ならびにその交差面の交差の領域に隣接する切断エッジを、それによって外科用閉塞具に取り込むために閉塞具ブレードを形成する工程、を包含する。 - 特許庁

The above process for distributing nonmetallic elements comprises a process for forming a compound layer made of semiconductor elements and nonmetallic elements on the semiconductor layer, a process for distributing compound layer's nonmetallic elements to a surface-adjacent area through recoiling due to the radiation of particle energy lines onto the compound layer and a process for removing the compound layer.例文帳に追加

非金属元素を分布させる工程は、半導体層の上に、半導体元素と非金属元素とからなる化合物層を形成する工程と、化合物層に粒子エネルギー線を照射して化合物層に含まれる非金属元素を反跳により半導体層の表面近傍の領域に分布させる工程と、化合物層を除去する工程とを含む。 - 特許庁

The manufacturing method of the semiconductor device provided with a CMP treatment process for performing CMP treatment on the insulating inter-layer film 8 is provided with a process for forming an erosion induction part N producing erosion during a CMP treatment process on an area corresponding to a projection face M out of the irregular face formed on the insulating inter-layer film 8 before the CMP treatment process.例文帳に追加

絶縁層間膜８にＣＭＰ処理を行うＣＭＰ処理工程を備える半導体装置の製造方法であって、ＣＭＰ処理工程の前に絶縁層間膜８上に形成される凹凸面のうちの凸面Ｍに対応する領域に、ＣＭＰ処理工程時にエロージョンを発生させるエロージョン誘引部Ｎを形成する工程を備える。 - 特許庁

The manufacturing method further includes: an aperture formation process for forming an aperture 36 in an area facing the terminal portion of the second substrate base material 32 before the lamination process; and an inspection process for inspecting lighting by supplying an inspection signal to each terminal portion exposed through the aperture 36 on the laminated substrate base material 34 before the division process.例文帳に追加

さらに、貼り合わせ工程の前に、第２基板母材３２における端子部に対向する領域に、予め開口部３６を形成する開口部形成工程と、分断工程の前に、貼合せ基板母材３４において開口部３６を介して露出している各端子部に、検査信号を供給して点灯検査を行う検査工程とを備える。 - 特許庁

The processing condition in the shot blasting process is set from a process to compute a hit-mark unit area from projecting material hardness, a projecting material particle diameter, projecting material speed and processing product hardness given previously, a process to compute the number of the hit-marks required to be a previously given target hit-mark rate and a process to compute processing time.例文帳に追加

予め与えられた投射材硬度、投射材粒径、投射材速度、処理製品硬度から打痕単位面積を算出する工程、予め与えられた目標の打痕率となるよう必要な打痕数を算出する工程、および処理時間を算出する工程からショットブラスト処理における処理条件を設定する。 - 特許庁

To provide an area tone image forming method, an area tone image forming apparatus, and a program which are possible to form an area tone image, simplify process for forming a proof image, and shorten the required time by acquiring image data which gives a stable result for change in the final area tone condition.例文帳に追加

最終の面積階調化条件の変更に対して安定した結果を与える画像データを取得することによって、プルーフ画像の作成に係る工程の簡略化、及び所要時間の短縮が可能な面積階調画像を作成可能な面積階調画像形成方法、面積階調画像形成装置及びプログラムを提供する。 - 特許庁

The method has a process for obtaining an area with a code of a polygon including both ends of the cut line in the first complementary pattern and one end of the cut line in the second complementary pattern, and a process for inspecting the position relation of the first complementary pattern and the second complementary pattern by the area with the code.例文帳に追加

第１の相補パターンにおける切断線の両端部と第２の相補パターンにおける切断線の一端部を少なくとも含む多角形の符号付面積を求める工程と、この符号付面積により第１の相補パターンと第２の相補パターンの位置関係を検査する工程を有する。 - 特許庁

A manufacturing method of a display device includes: a lamination process for forming a laminated substrate base material 34 by laminating a first substrate base material 31 to a second substrate base material on each of which terminal portions are formed in each panel formation area 40; and a division process for dividing the laminated substrate base material 34 in each panel formation area.例文帳に追加

パネル形成領域４０毎に端子部がそれぞれ形成された第１基板母材３１と、第２基板母材３２とを貼り合わせて貼合せ基板母材３４を形成する貼り合わせ工程と、貼合せ基板母材３４をパネル形成領域４０毎に分断する分断工程とを備える。 - 特許庁

The apparatus includes a computer 3 that implements a process for setting according to a user's instructions the area of the original data to be thumbnailed and the level of thumbnailing associated with the reduction in the amount of the original data, and a thumbnailing process for thumbnailing the set area to be thumbnailed and for thumbnailing the original data according to the level of thumbnailing.例文帳に追加

元データにおけるサムネイル化する領域、および元データの低減量に関連するサムネイル化のレベルを利用者の指示に応じて設定する処理と、設定されたサムネイル化領域およびサムネイル化レベルに基づいて元データをサムネイル化するサムネイル化処理とを実行するコンピュータ３を備えている。 - 特許庁

A substrate drying method executed by the control program of the control device 50 includes a process for drying a central area as a range where the center of rotation Wc of the substrate W exists in a range where a dried air flow Gf collides with the substrate W, and a process for drying the outside of the central area.例文帳に追加

制御装置５０の制御プログラムで実行される基板乾燥方法は、乾燥気体流Ｇｆが基板Ｗに衝突する範囲に基板Ｗの回転中心Ｗｃが存在する範囲である中心エリアを乾燥させる工程と、中心エリアの外側を乾燥させる工程とを備える。 - 特許庁

A barium titanate powder is obtained through a process for mixing and pulverizing the starting raw materials containing at least a barium compound being converted into barium oxide by heating and titanium oxide having a specific surface area of ≤4.8 m^2/g to obtain a pulverized powder having a specific surface area of ≥5 m^2/g and a process for heat treating the obtained pulverized powder.例文帳に追加

加熱により酸化バリウムとなるバリウム化合物と比表面積が４．８ｍ^2／ｇ以下である酸化チタンを少なくとも含む出発原料を混合、粉砕により比表面積を５ｍ^2／ｇ以上にする工程、および得られた粉砕粉を熱処理する工程により得たチタン酸バリウム粉末とする。 - 特許庁

The manufacturing method of the spacer comprises a process of forming a spacer base body made of glass material of which at least a part of the surface area contains PbO by 40 wt.% or more, and a process of lowering the resistance of at least a part of the surface area by deoxidizing the spacer base body.例文帳に追加

表層部分の少なくとも一部がＰｂＯを４０重量％以上含有するガラス材料からなるスペーサー基体を形成する工程と、前記スペーサー基体を還元処理することにより表層部分の少なくとも一部を低抵抗化する工程と、を含むことを特徴とするスペーサーの製造方法。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus which is capable of stably forming a liquid immersion area, satisfactorily recovering the liquid, and avoiding outflow, scattering, and the like of the liquid to the surroundings to accurately perform an exposure process when the exposure process is performed in a state in which the liquid immersion area is formed between a projection optical system and a substrate.例文帳に追加

投影光学系と基板との間に液浸領域を形成した状態で露光処理する際、液浸領域を安定して形成できるとともにこの液体を良好に回収でき、周辺への液体の流出や飛散等を防止して精度良く露光処理できる露光装置を提供する。 - 特許庁

An evacuation channel for evacuating reaction gas from each reaction gas process area is provided separately, and a separation area is provided between these reaction gas process areas, and a flow rate of the gas evacuated through each evacuation channel and a pressure in the vacuum chamber are controlled so that a gas flow rate to a substrate is kept constant.例文帳に追加

夫々の反応ガスの処理領域から各々の反応ガスを排気する排気路を個別に設けると共にこれらの処理領域の間に分離領域を設けて、基板へのガス流が一定化するように、これらの排気路から排気するガス流量比及び真空容器内の圧力を調整する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus capable of stably forming a liquid immersion area, satisfactorily recovering the liquid, and avoiding outflow, scattering or the like of the liquid to the surroundings to accurately perform an exposure process when the exposure process is performed in a state in which the liquid immersion area is formed between a projection optical system and a substrate.例文帳に追加

投影光学系と基板との間に液浸領域を形成した状態で露光処理する際、液浸領域を安定して形成できるとともにこの液体を良好に回収でき、周辺への液体の流出や飛散等を防止して精度良く露光処理できる露光装置を提供する。 - 特許庁

The magnetic disk manufacturing method performs a film forming process (A) for forming a magnetic film 62 on a glass substrate 61 so that its Curie temperature may be 600 K or lower, and an ion implantation process (C) for locally implanting ion into the area of the magnetic film 62 other than a protection area.例文帳に追加

磁気ディスク製造方法において、ガラス基板６１上に、キュリー温度が６００Ｋ以下となるように磁性膜６２を形成する製膜工程（Ａ）と、その磁性膜６２に対し、所定の保護領域を除いた他の領域に対して局所的にイオンを注入するイオン注入工程（Ｃ）とを実行する。 - 特許庁

Further, a laser inspection process is performed by an interruption process at fixed intervals of time by using a 1st laser irradiation flag 13, a 2nd laser irradiation flag 14, a laser irradiation time area 15, and a RAM check area 16 in a RAM 12 and a laser output port 9 and a key input/output port 10 of the CPU 8.例文帳に追加

さらに、ＲＡＭ１２の第１レーザー照射フラグ１３,第２レーザー照射フラグ１４,レーザー照射時間エリア１５およびＲＡＭチェックエリア１６とＣＰＵ８のレーザー出力ポート９,キー入出力ポート１０とを用いて、一定時間毎に割り込み処理によってレーザー検査処理を実行する。 - 特許庁

A system control section 112 sets a plurality of focus detection areas according to the size of a resolution area to an image area stipulated by the image data including a subject image when a focal position for a focus lens 104 is detected by setting a blur area for applying a blur process to an image area stipulated by the image data including the subject image and a resolution area for not applying the blur processing.例文帳に追加

システム制御部１１２は被写体像を含む画像データで規定される画像領域に対してぼかし処理を施すぼかし領域とぼかし処理を施さない解像領域とを設定して、フォーカスレンズ１０４の合焦位置を検出する際、被写体像を含む画像データで規定される画像領域に、解像領域の大きさに応じて複数の焦点検出領域を設定する。 - 特許庁

To provide an imaging apparatus that eliminates the need for large-scale equipment required for an adjustment process performed to calculate an infinity focusing position from an output of a position sensor, and allows the adjustment process in a narrow installation area.例文帳に追加

位置センサの出力から無限合焦位置を算出できるようにするための調整工程に必要とする設備が大がかりにならず、狭い設定面積で上記調整工程を行うことができる撮像装置を提供する。 - 特許庁

In the case when image forming speed is changed from 1/1 process speed of regular paper to 1/2 process speed of cardboard, change the output and input gamma characteristics of gamma corrective treatment so that output image density decreases in the high density area.例文帳に追加

画像形成スピードを普通紙の１／１プロセススピードから厚紙の１／２プロセススピードに切り替える場合に、濃度が高い領域では出力画像濃度が下がるように、ガンマ補正処理の入出力ガンマ特性を変更する。 - 特許庁

Furthermore this method includes a process (S107) of forming a groove part for conduction in the photoelectric conversion layer and the second electrode layer in the output extraction area and a process (S108) of embedding a conductive material in the groove part for conduction.例文帳に追加

さらに、出力取出し領域において、光電変換層および第２電極層に導通用溝部を形成する工程(Ｓ１０７)と、導通用溝部内に導電性材料を埋設する工程(Ｓ１０８)とを備えている。 - 特許庁

To provide a method for soil improvement and a device for use in the same, which can simplify process control and process management, can reduce costs, can cope with variations in ground, and can prevent occurrence of an area lacking in a solidification-material.例文帳に追加

工程制御・工程管理を簡素化し、コスト低減を図り、地盤のバラツキに対処することが出来て、しかも、固化材が不足する領域が生じることを防止出来る地盤改良工法及びそれに用いられる装置の提供。 - 特許庁

In a process 16, while using the defect distribution which is determined as a function of film thinning quantities in the process 15, TDDB at an arbitrary voltage and an arbitrary temperature are predicted concerning the insulating film of an arbitrary area.例文帳に追加

過程１６は、過程１５で薄膜化量の関数として確定された欠陥分布を用いて、任意の面積の絶縁膜について任意の印加電圧及び任意の温度における経時絶縁破壊特性を予測する。 - 特許庁

The number of butterfly character images 90 to be displayed on the symbol display part 7 and the symbol display areas where the respective butterfly character images 90 are stationarily displayed are determined by the number of characters determination process (S13) and a stationary area determination process (S14).例文帳に追加

キャラクタ数決定処理（Ｓ１３）、停止領域決定処理（Ｓ１４）により、シンボル表示部７に表示される蝶キャラクタ画像９０の数と、各蝶キャラクタ画像９０が停止表示されるシンボル表示領域が決定される。 - 特許庁

To provide a microorganism immobilization carrier which is capable of effecting a high microorganism growth rate and has a wide specific surface area, good air permeability, high sewage treatment capacity and excellent sewage purification performance and also to provide a sewage purification process using the carrier and a sewage purification equipment for the process.例文帳に追加

微生物の繁殖率が高く、比表面積が広い上、通気性が良好で、処理能力が高く、浄化性能に優れた微生物固定化担体、該担体を使用した浄化方法及び浄化装置を提供する。 - 特許庁

The semiconductor substrate manufacturing method is provided with a first process for thinning an element 1b which is the element forming area of a semiconductor substrate 1 by blast and/or etching, and a second process for further thinning the thinned element 1b by polishing.例文帳に追加

半導体基板１の素子形成領域である素子部１ｂを、ブラスト及び／又はエッチングにより薄化加工する第１の工程と、薄化された前記素子部１ｂを、さらにポリッシュにより薄化加工する第２の工程を備える。 - 特許庁

To provide an imaging system capable of performing an adjusting process step for making it possible to calculate an infinite focusing position from the output of a position sensor in a narrow set area without increasing the scale of a facility requiring such adjusting process step.例文帳に追加

位置センサの出力から無限合焦位置を算出できるようにするための調整工程に必要とする設備が大がかりにならず、狭い設定面積で上記調整工程を行うことができる撮像装置を提供する。 - 特許庁

Then, the material of the coloring elements 59r, 59g and 59b is discharged into the display dot area D into which the material is not discharged as the droplets in the first process, and further a second process to dry the discharged material of the coloring elements is performed.例文帳に追加

次に、１回目のプロセスで液滴吐出されなかった表示ドット領域Ｄ内に着色要素５９ｒ，ｇ，ｂの材料を吐出し、さらに、吐出された着色要素材料を乾燥する２回目のプロセスを実行する。 - 特許庁

The surface temperature of the cast piece in the correction process is frequently controlled to be the Ar_3 point + 170°C or higher, and in the slow cooling after the correction process, the slow cooling is preferably carried out over the whole area of a temperature zone at which the ferrite is precipitated.例文帳に追加

矯正工程での鋳片の表面温度は、Ａr_3点＋１７０℃以上に制御することが多く、矯正工程後の冷却過程では、オーステナイトからフェライトが析出する温度帯全域に渡って徐冷するのが好ましい。 - 特許庁

The method includes a process which forms a gate containing a metal film on one area on a semiconductor substrate, and a process which forms an LPCVD oxidized metal on the whole surface using an LPCVD method which does not cause the oxidization of the metal film.例文帳に追加

半導体基板上の一領域上に、金属膜を含むゲートを形成する段階と、前記金属膜の酸化を誘発させないＬＰＣＶＤ法によって全表面上にＬＰＣＶＤ酸化膜を形成する段階とを含む。 - 特許庁

Scattering and image disorder of the toner image PT on the photoreceptor drum 31 over an area between the developing process and the transfer process are suppressed by preheating the toner image PT to allow the condensation temperature among toner particles to be properly adjusted.例文帳に追加

感光体ドラム３１上のトナー像ＰＴは、予備加熱されることでトナー粒子間の凝集度が適正に調整されて、現像工程から転写工程に亘る領域でトナー像ＰＴの飛び散り，像乱れが抑制される。 - 特許庁

In this sensor, normal operating mode and area setting mode are optional, and in normal operating mode, normal displacement measuring process for measuring displacement of an object in measurement coverage area is performed from outputs of the image pickup device.例文帳に追加

通常動作モードと領域設定モードとが選択可能とし、通常動作モードにあっては、撮像素子の出力に基づいて計測対象領域内の物体の変位を計測する通常の変位計測処理を実行させる。 - 特許庁

Also, if overflowing occurs during partial formatting passed through a verification process, the information of the defeated block to be switched and included in the user area and the information of the defective block of the spare area to be used are stored in a new SDL entry.例文帳に追加

また、検証の過程を経る部分フォーマッティング時にオーバーフローが発生すると、ユーザー領域に含まれる交替欠陥ブロックの情報と使用するスペア領域の欠陥ブロックの情報を新たなＳＤＬエントリに格納する。 - 特許庁

Consequently, when accessing the protected area by the application thread, an interrupt generated by the specific area access break function brings the execution authority back to the operating system to process a thread subjected to unauthorized memory access.例文帳に追加

これによって、アプリケーションスレッドによる保護エリアへのアクセスの際には、特定エリアアクセスブレーク機能によって発生する割り込みによってオペレーティングシステムに実行権を取り戻し、不正なメモリアクセスを行ったスレッドの処理を行う。 - 特許庁

A control circuit constituting an information code reader performs a decoding process when a movement amount of a CCD area sensor detected by an angular velocity sensor is within a prescribed range in a period during which imaging is made by the CCD area sensor.例文帳に追加

情報コード読取装置を構成する制御回路は、ＣＣＤエリアセンサによって撮像が行なわれる期間に、角速度センサによって検出されたＣＣＤエリアセンサの移動量が所定範囲内であればデコード処理を行なうよう。 - 特許庁

And also, in a forming process of the convex bodies 10, the convex body 10 can be formed at a different position in the partitioning area P, therefore, a formation position of the convex body 10 for every partitioning area can be optimized.例文帳に追加

また、凸状体１０の形成工程では、区画領域Ｐにおける異なる位置に凸状体１０を形成することが可能であるため、区画領域ごとに凸状体１０の形成位置を最適化することができる。 - 特許庁

In a prescribed area of the inorganic layer, the average change rate of the contact angle to water for 90 minutes immediately after the surface-treatment process is 0.04 degree or less per minute, and the first solution is applied on the prescribed area of the inorganic layer.例文帳に追加

無機層の所定の領域は、表面処理工程直後９０分間における水に対する接触角の平均変化率が１分当たり０．０４°以下であり、第１溶液は無機層の所定の領域上に付与される。 - 特許庁

A teacher signal attaching part 106 gives a classification category name to the classification category area, a characteristic extracting part 107 extracts characteristics such as the color, shape, etc., of the area, and a classification parameter learning part 108 decides characteristic parameter learning and finishes the learning process.例文帳に追加

これに教師信号付与部１０６が分類カテゴリ名を与え、特徴抽出部１０７で領域の色、形等の特徴を抽出し、分類パラメータ学習部１０８で特徴パラメータ学習決定し学習工程を終る。 - 特許庁